一種雙層微測輻射熱計及其制作方法技術

本發明專利技術公開了一種雙層微測輻射熱計及其制作方法，包括用于非制冷紅外探測器或非制冷太赫茲探測器微測輻射熱計的微橋結構，其特征在于，該微橋由上橋面和下橋面兩個獨立的橋面所組成，光吸收材料處在上橋面、熱敏電阻材料處在下橋面，微橋上橋面的四根上下橋面連接柱與微橋下橋面的金屬熱量傳輸層相連接。微橋的上橋面包含一層或多層光吸收材料。這種雙層微橋一方面具有較高的光吸收率和填充因子，另一方面還具有較高的溫度均勻性和力學穩定性。這種雙層微測輻射熱計及其制備方法能克服現有技術中存在的缺陷，提高了器件的工作性能，適宜大規模產業化生產。

【技術實現步驟摘要】

【技術保護點】

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：許向東，楊卓，蔣亞東，何瓊，樊泰君，黃龍，敖天宏，馬春前，陳超，
申請(專利權)人：電子科技大學，
類型：發明
國別省市：