本發明專利技術公開了一種鍍有雙層NiCr吸收層的低反射率鍍膜玻璃，包括玻璃基板及玻璃基板上鍍有的金屬和金屬氧化物鍍層，其特征在于，所述的玻璃基板上鍍有的金屬和金屬氧化物鍍層自玻璃基板向外依次為：SnO2/ZnO2/NiCr/Ag/NiCr/SnO2，即在玻璃基板上依次鍍有氧化錫層(1)氧化鋅層(2)、鎳鎘合金層(3)、金屬銀層(4)、鎳鎘合金層(5)、氧化錫層(6)。本發明專利技術采用雙層NiCr復合吸收層的膜系，利用NiCr的高吸收率，有效地降低了玻璃的可見光反射率，提供了一種可以同時滿足低遮陽系數和低反射要求的鍍膜玻璃。
【技術實現步驟摘要】
本專利技術是關于鍍膜玻璃的，尤其涉及一種鍍有MCr高吸收材料膜層的低反射率鍍膜玻璃。
技術介紹
隨著中國經濟的迅速發展，中國建筑規模逐步增大，但大多數建筑外窗保溫隔熱性能差，阻隔太陽輻射能力薄弱，密封不良。盡管窗戶面積一般只占建筑外圍機構表面積的 1/6-1/8，(比例還在不斷上升)，但在多數建筑中，通過窗戶的傳熱損失和冷風滲透損失約占供暖總能耗的60%。因而窗戶、特別是其中的玻璃是建筑節能的關鍵部位。隨著真空磁控濺射的發展，低輻射玻璃性能的提升減少了玻璃因熱輻射而造成的傳熱損耗，提高了玻璃窗的保溫隔熱能力，配合雙層中空玻璃使用，可以隔絕玻璃傳導、對流、輻射三種傳熱途徑，是一種非常具有實用價值的節能環保產品。市場上現有的低輻射玻璃普遍為高透低反，普遍遮陽系數偏高，而一些低緯度地區，如中東等地對低遮陽系數的低輻射玻璃的需求量很大，而傳統的低輻射玻璃，不能同時滿足低遮陽系數和中低反射的條件，如果要大幅度提高遮陽能力和節能效果，只能靠增加銀層厚度來實現，這會使玻璃的反射率增加，而一般低輻射膜玻璃無法有效地調節以達到降低低反射的作用。在降低了遮陽系數的同時會形成較高的反射率。隨著目前許多國家和地區為了限制光污染紛紛出臺了限制玻璃可見光反射率的法規。這種結構的低輻射玻璃已經越來越達不到客戶的要求。
技術實現思路
本專利技術的目的是，克服現有技術的缺點和不足，提供一種可以同時滿足低遮陽系數和低反射要求的鍍膜玻璃。本專利技術提供的是一種采用高吸收材料MCr為吸收層的新型膜系結構玻璃及其生產工藝，本專利技術通過如下技術方案予以實現。本專利技術鍍有雙層MCr吸收層的低反射率鍍膜玻璃，包括玻璃基板及玻璃基板上鍍有的金屬和金屬氧化物鍍層，其特征在于，所述的玻璃基板上鍍有的金屬和金屬氧化物鍍層自玻璃基板向外依次為Sn02/ai02/NiCr/Ag/NiCr/Sn02，即在玻璃基板上依次鍍有氧化錫層1氧化鋅層2、鎳鎘合金層3、銀層4、鎳鎘合金層5、氧化錫層6。所述的玻璃基板為普通6mm鈉鈣硅酸鹽浮法玻璃。本專利技術鍍有雙層MCr吸收層的低反射率鍍膜玻璃的制備方法，具有如下步驟I玻璃基板清洗、干燥；II預真空過渡玻璃基板通過不同的真空腔室，使玻璃從大氣狀態傳送到工藝所需的高真空狀態；本底真空度小于5 X IO-5Hibar ；III鍍氧化錫層1 通過交流電源將金屬錫靶在氬氧氣氛中濺射，濺射氣壓范圍 2X 10_2mbr 3X 10_4mbr，脈沖電源頻率為15kHz 25kHz ；濺射氬氧混合氣體積比例為氬氧=7 10 3 5，膜層厚度為25 30nm ；IV鍍氧化鋅層2:通過交流電源將金屬鋅在氬氧氣氛中濺射，濺射氣壓范圍 2X 10_2mbr 3X 10_4mbr，脈沖電源頻率為15kHz 25kHz ；濺射氬氧混合氣體積比例為氬氧=10 7 4 5。膜層厚度為7 12nm ；V鍍鎳鎘合金層3 通過直流電源將鎳鎘合金在氬氣氣氛中濺射，濺射氣壓范圍為 8 X IO^nbr 2 X l(T4mbr，膜層厚度為 4 7nm ；VI鍍銀層4:通過直流電源將金屬銀靶在氬氣氣氛中濺射，濺射氣壓范圍為 8 X IO^nbr 2 X l(T4mbr，膜層厚度為 10 14nm ；VII鍍鎳鎘合金層5 通過直流電源將鎳鎘合金在氬氣氣氛中濺射，濺射氣壓范圍為8 X l(rtibr 2 X KT4Hibr，膜層厚度為1 3nm ；VIII鍍氧化錫層6 通過交流電源將金屬錫靶在氬氧氣氛中濺射，濺射氣壓范圍 2X 10_2mbr 3X 10_4mbr，脈沖電源頻率為15kHz 25kHz ；濺射氬氧混合氣體積比例為氬氧=3 5 3 7。膜層厚度為25 !35nm ；IX預真空過渡玻璃基板通過不同的真空腔室，使玻璃產品從高真空的工藝狀態傳送到大氣狀態；X成品包裝。本專利技術的有益效果是，采用雙層NiCr復合吸收層的膜系，利用NiCr的高吸收率， 有效地降低了玻璃的可見光反射率。提供了一種可以同時滿足低遮陽系數和低反射要求的鍍膜玻璃。附圖說明圖1是本專利技術雙層MCr吸收層的低反射率鍍膜玻璃的膜層結構示意圖。附圖標記如下1——氧化錫層2——氧化鋅層3——鎳鎘層4——銀層5——鎳鎘層6——氧化錫層具體實施例方式本專利技術包括玻璃基板及玻璃基板上鍍有的金屬和金屬氧化物鍍層，所述的玻璃基板為普通6mm鈉鈣硅酸鹽浮法玻璃，所述的玻璃基板上鍍有的金屬和金屬氧化物鍍層自玻璃基板向外依次為Sn02/ai02/NiCr/Ag/NiCr/Sn02，即在玻璃基板上依次鍍有氧化錫層1、 氧化鋅層2、鎳鎘合金層3、銀層4、鎳鎘合金層5、氧化錫層6。本專利技術的鍍膜工藝，采用德國Applied Film A-Type系列建筑平板玻璃雙端連續式鍍膜機，包括5個交流旋轉雙靶位陰極，9個直流單靶位陰極。交流濺射供電柜對每個濺射靶材的最大輸出功率為120kw。在生產時使用4個交流旋轉雙靶位陰極，3個直流單靶位陰極，所用玻璃基板為普通6mm鈉鈣硅酸鹽浮法玻璃。參見圖1，采用上述設備條件，各膜層鍍制的工藝參數及靶材分布的具體實施例如下實施例權利要求1.一種鍍有雙層MCr吸收層的低反射率鍍膜玻璃，包括玻璃基板及玻璃基板上鍍有的金屬和金屬氧化物鍍層，其特征在于，所述的玻璃基板上鍍有的金屬和金屬氧化物鍍層自玻璃基板向外依次為Sn02/ai02/NiCr/Ag/NiCr/Sn02，即在玻璃基板上依次鍍有氧化錫層(1)氧化鋅層O)、鎳鎘合金層(3)、銀層G)、鎳鎘合金層(5)、氧化錫層(6)。2.根據權利要求1的鍍有雙層MCr吸收層的低反射率鍍膜玻璃，其特征在于，所述的玻璃基板為普通6mm鈉鈣硅酸鹽浮法玻璃。3.權利要求1的鍍有雙層MCr吸收層的低反射率鍍膜玻璃的制備方法，具有如下步驟I玻璃基板清洗、干燥；II預真空過渡玻璃基板通過不同的真空腔室，使玻璃從大氣狀態傳送到工藝所需的高真空狀態；本底真空度小于5X 10_5mbar ；III鍍氧化錫層(1)通過交流電源將金屬錫靶在氬氧氣氛中濺射，濺射氣壓范圍 2X 10_2mbr 3X 10_4mbr，脈沖電源頻率為15kHz 25kHz ；濺射氬氧混合氣體積比例為氬氧=7 10 3 5，膜層厚度為25 30nm;IV鍍氧化鋅層(2)通過交流電源將金屬鋅在氬氧氣氛中濺射，濺射氣壓范圍 2X 10_2mbr 3X 10_4mbr，脈沖電源頻率為15kHz 25kHz ；濺射氬氧混合氣體積比例為氬氧=10 7 4 5。膜層厚度為7 12nm ；V鍍鎳鎘合金層(3)通過直流電源將鎳鎘合金在氬氣氣氛中濺射，濺射氣壓范圍為 8X 10_3mbr 2 X 10_4mbr，膜層厚度為 4 7nm ；VI鍍銀層(4)通過直流電源將金屬銀靶在氬氣氣氛中濺射，濺射氣壓范圍為 8 X IO^nbr 2 X l(T4mbr，膜層厚度為 10 14nm ；VII鍍鎳鎘合金層(5)通過直流電源將鎳鎘合金在氬氣氣氛中濺射，濺射氣壓范圍為 8X l(T3mbr 2 X l(T4mbr，膜層厚度為 1 3nm ；VIII鍍氧化錫層(6)通過交流電源將金屬錫靶在氬氧氣氛中濺射，濺射氣壓范圍 2X 10_2mbr 3X 10_4mbr，脈沖電源頻率為15kHz 25kHz ；濺射氬氧本文檔來自技高網...
【技術保護點】
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員：趙永進，楊貴祥，張大為，方志堅，
申請(專利權)人：天津耀皮工程玻璃有限公司，
類型：發明
國別省市：
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