研磨液組合物制造技術

本發明專利技術提供一種在不損害生產率的情況下可以減少研磨后的基板表面的劃痕及表面波紋的研磨液組合物以及使用有該研磨液組合物的基板的制造以及研磨方法。所述研磨液組合物含有研磨材料、水溶性聚合物以及水，上述水溶性聚合物具有磺酸基且在主鏈以及側鏈上分別具有芳香環。所述基板的制造方法以及研磨方法包含如下工序：將上述研磨液組合物供給至被研磨基板的研磨對象面，使研磨墊接觸上述研磨對象面，移動上述研磨墊和/或上述被研磨基板來進行研磨。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及一種研磨液組合物以及使用有該研磨液組合物的基板的制造方法。
技術介紹
近年來，磁盤驅動器的小型化 大容量化的進展，要求高記錄密度化。為了進行高記錄密度化，為了縮小單位記錄面積，提高變弱了的磁信號的檢測靈敏度，正在進行用于進一步降低磁頭的飛浮高度的技術開發。為了應對磁頭的低飛浮化和確保記錄面積， 對于磁盤基板而言，對于以減少表面粗糙度、表面波紋、端面下沉為代表的平滑性 平坦性的提高和以減少劃痕、突起、坑等為代表的缺陷減少的要求變得比較苛刻。對于這樣的要求，提出了含有具有羧基或磺酸基等官能團的共聚物的研磨液組合物(例如，日本特開 2010-135052號公報以及日本特開2010-170650號公報)。日本特開2010-135052號公報公開的研磨劑組合物是，通過使用分子中具有重復單元和磺酸(鹽)基并且在重復單元的主鏈中具有芳香族基的陰離子性表面活性劑，可以減少劃痕等缺陷，在研磨工序中發泡少，可以有效地進行研磨。日本特開2010-170650號公報公開的磁盤基板用研磨液組合物是，通過含有具有陰離子性基團的水溶性高分子，在不損害生產率的情況下可以減少研磨后的基板的劃痕以及表面粗糙度。目前的研磨液組合物可改善研磨液的起泡性、劃痕。但是，伴隨磁盤驅動器的大容量化，對于基板的表面品質的要求特性變得更加苛刻，要求開發在不損害生產率的情況下可以進一步減少基板表面的劃痕以及表面波紋的研磨液組合物。
技術實現思路
因此，本專利技術提供一種在不損害生產率的情況下可以減少研磨后的基板表面的劃痕、表面波紋的研磨液組合物以及使用有該研磨液組合物的磁盤基板的制造方法。本專利技術的一個方式涉及一種研磨液組合物，其含有研磨材料、水溶性聚合物以及水，上述水溶性聚合物具有磺酸基且在主鏈以及側鏈上分別具有芳香環。本專利技術的其它方式涉及一種基板的制造方法和/或研磨方法，其包含如下工序: 將本專利技術的研磨液組合物供給至被研磨基板的研磨對象面，使研磨墊接觸上述研磨對象面，移動上述研磨墊和/或上述被研磨基板來進行研磨。根據本專利技術的研磨液組合物，可以得到如下效果，S卩，在不損害生產率的情況下可以制造研磨后的基板表面的劃痕減少而且研磨后的基板表面的表面波紋減少的基板、優選磁盤基板、進而優選垂直磁記錄方式的磁盤基板。具體實施方式本專利技術基于如下見解，S卩，如果使用含有具有磺酸基且主鏈以及側鏈上分別具有芳香環的水溶性聚合物的研磨液組合物，則在研磨液的起泡性低、可維持高的研磨速度的情況下，可以減少研磨后的基板表面的劃痕以及表面波紋。S卩，本專利技術涉及一種研磨液組合物(下面，也稱作“本專利技術的研磨液組合物”)，其含有研磨材料、水溶性聚合物以及水，上述水溶性聚合物為具有磺酸基且主鏈以及側鏈上分別具有芳香環的水溶性聚合物(下面，也簡稱為“水溶性聚合物”)。對于本專利技術的研磨液組合物而言，在起泡少、可維持高研磨速度的情況下不僅可減少劃痕而且可減少研磨后的基板表面波紋的機理的詳細情況尚不明確，但是可推定，水溶性聚合物的主鏈以及側鏈的芳香環以適當的吸附力吸附在研磨墊上、水溶性聚合物的磺酸基在研磨墊表面形成水合層的結果，可抑制研磨墊-被研磨基板間的摩擦振動、減少劃痕以及基板表面波紋。但是，本專利技術也可以不限定于該機理。用于本專利技術的研磨液組合物的水溶性聚合物具有磺酸基且該水溶性聚合物的主鏈以及側鏈上分別具有芳香環。在這里“水溶性”是指相對于20°C的水IOOg的溶解度為2g 以上。另外，“主鏈”是指上述水溶性聚合物中單體單元鍵合而形成的直鏈結構中最長的部分，“側鏈”是指從上述直鏈分支的部分。另外，“磺酸基”設定為也包含鹽的形式的物質。上述水溶性聚合物可以通過如下方法來制造，例如，在甲醛存在下，通過加成縮合法等公知的方法聚合后述的具有磺酸基的化合物和在聚合物的主鏈以及側鏈雙方可以導入芳香環的化合物。從提高耐水解性以及提高在酸性研磨液中的保存穩定性的觀點考慮， 優選通過加成縮合法來制造。因而，作為上述水溶性聚合物的優選實施方式，可以舉出具有重復單元的主鏈以及側鏈上分別具有芳香環的結構單元和具有磺酸基的結構單元的水溶性共聚物(下面，也簡稱為“水溶性共聚物”)。作為上述水溶性共聚物的一個實施方式，可以舉出在甲醛存在下通過加成縮合在水溶性共聚物的主鏈以及側鏈雙方上可以導入芳香環的化合物和具有磺酸基的化合物而制造的水溶性共聚物。作為在上述水溶性共聚物的主鏈以及側鏈雙方上可以導入芳香環的化合物，例如，可以舉出2，2’_雙(4-羥基苯基)丙烷(雙酚A)、雙(4-羥基苯基)環己烷(雙酚C)、 雙(4-羥基苯基)甲烷(雙酚F)、雙(4-羥基苯基)砜(雙酚幻、2，3- 二羥基萘、9，10-蒽二醇、雙(3-甲基-4-羥基苯基)砜、雙(3，5-二甲基-4-羥基苯基)砜、雙(3，5-二溴-4-羥基苯基)砜等。其中，從提高對水的溶解性的觀點、抑制研磨速度降低的觀點、減少基板表面的劃痕以及波紋的觀點考慮，優選2，2’ -雙(4-羥基苯基)丙烷(雙酚A)、雙(4-羥基苯基)環己烷(雙酚C)、雙(4-羥基苯基)甲烷(雙酚F)、雙(4-羥基苯基)砜(雙酚S)、 雙(3-甲基-4-羥基苯基)砜、雙(3，5-二甲基-4-羥基苯基)砜、雙(3，5-二溴-4-羥基苯基)砜，更優選2，2’ -雙(4-羥基苯基)丙烷(雙酚A)、雙(4-羥基苯基)環己烷(雙酚C)、雙(4-羥基苯基)甲烷(雙酚F)、雙(4-羥基苯基)砜(雙酚幻、雙(3-甲基-4-羥基苯基)砜、雙(3，5-二甲基-4-羥基苯基)砜，進一步優選2，2’_雙(4-羥基苯基)丙烷 (雙酚A)、雙(4-羥基苯基)環己烷(雙酚C)、雙(4-羥基苯基)甲烷(雙酚F)、雙(4-羥基苯基)砜(雙酚幻、雙(3-甲基-4-羥基苯基)砜，進一步更優選雙(4-羥基苯基)甲烷 (雙酚F)、雙(4-羥基苯基)砜(雙酚S)。作為上述具有磺酸基的化合物，可以舉出4-羥基苯磺酸、4-羥基-1-萘磺酸、 5-羥基-1-萘磺酸、8-羥基-5-喹啉磺酸、萘磺酸、甲基萘磺酸、蒽磺酸等聚烷基芳基磺酸系化合物；三聚氰胺磺酸等三聚氰胺樹脂磺酸系化合物；木質素磺酸、改性木質素磺酸等木質素磺酸系化合物；氨基芳基磺酸等芳香族氨基磺酸系化合物以及它們的鹽。其中，從提高在酸性研磨液中的溶解性、提高共聚物的保存穩定性、減少基板表面的劃痕以及波紋的觀點考慮，優選4-羥基苯磺酸、4-羥基-1-萘磺酸、5-羥基-1-萘磺酸、8-羥基-5-喹啉磺酸以及它們的鹽，更優選4-羥基苯磺酸、4-羥基-1-萘磺酸、5-羥基-1-萘磺酸以及它們的鹽，進一步優選4-羥基苯磺酸及其鹽。對于上述水溶性共聚物，從促進對研磨墊的有效吸附、減少研磨墊-被研磨基板間的摩擦振動、抑制基板表面的波紋的觀點考慮，作為主鏈以及側鏈上分別具有芳香環的結構單元，優選具有下述通式(I)表示的結構單元A (下面，也簡稱為“結構單元A”)。對于上述結構單元A，通過使用前述的在主鏈以及側鏈雙方上可以導入芳香環的化合物，可以導入水溶性共聚物中。式(I)中，X為結合鍵、_012-、-5-、-502-、-((013)2-或者(3，R1 以及 R2 相同或者不同，為氫原子、烷基、烷氧基、芳烷基或者-0M，M選自由堿金屬、堿土金屬、有機陽離子以及氫原子構成的一組。式(I)中，對于X而本文檔來自技高網...

【技術保護點】

【技術特征摘要】
...

【專利技術屬性】
技術研發人員：吉野太基，
申請(專利權)人：花王株式會社，
類型：發明
國別省市：