一種用于生成模擬波形(232、234、236)的設備和方法，所述模擬波形例如為用于在將數據寫入具有可變軌道間距(TP)的可旋轉介質(102)期間偏轉寫入光束(152)的偏轉信號(182)。根據各種實施方式，第一數模轉換器(DAC)(212)被配置成輸出偏轉信號(218)，所述偏轉信號(218)具有與施加到所述第一DAC的第一多位數字輸入值(214)的幅度對應的模擬電壓電平。第二DAC(220、222)被配置成向所述第一DAC提供軌電壓，所述軌電壓具有與施加到所述第二DAC的第二多位數字輸入值(224、228)的幅度對應的模擬電壓電平。所述偏轉信號用于偏轉由寫入光束發生器(151)提供的寫入光束(152)。
【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】用于可變軌道間距介質的偏轉參考調節
技術介紹
數據存儲介質用于以快速且高效的方式存儲和檢索大量數字編碼的數據。已經以諸如磁的、光的、固態的(例如，閃存)等很多不同的形式商業化地提供了這種介質。諸如磁盤和光盤的一些介質可以以選擇的速度旋轉，同時頭組件轉換回讀信號以將所存儲的數據圖案恢復到介質表面。這些數據圖案通常沿著一系列的同心軌道(例如， 離散的環、連續的螺旋等)布置在這種介質上。在閉環伺服電路的控制下，致動器可以用于將頭組件定位成靠近軌道，以恢復數據圖案。致動器可以自然旋轉，以圍繞靠近介質的最外直徑(OD)的樞軸點樞轉。在這種方式中，頭組件跟隨橫跨介質的半徑的曲線平移路徑。相反，線性致動器沿著橫跨介質的半徑的線性平移路徑推進和縮回頭組件。在一些情況下，可以在制造時將數據圖案預先寫到介質上，以提供伺服或其它類型的控制信息?？梢允褂闷揭坡窂綆缀螆D形與接下來用于訪問該介質的讀取系統的平移路徑幾何圖形不同的致動器寫入預先寫入圖案。在這樣的情況下，預先寫入的數據可能不符合讀取系統最終使用的平移幾何圖形。當頭從一個軌道移動至下一個軌道時，這會導致偏移(例如，頭組件關于數據的角位置的相對差)。
技術實現思路
本專利技術的各種實施方式總體上旨在一種用于生成模擬波形的設備和方法，模擬波形諸如為在將數據的軌道寫入具有可變軌道間距(TP)的可旋轉存儲介質期間使用的偏轉信號。根據各種實施方式，第一數模變換器(DAC)被配置成輸出偏轉信號，所述偏轉信號具有與施加到第一數模變換器的第一多位數字輸入值的幅度對應的模擬電壓電平。第二 DAC被配置成向第一 DAC提供軌電壓，所述軌電壓具有與施加到第二數模變換器的第二多位數字輸入值的幅度對應的模擬電壓電平。偏轉信號用于偏轉由寫入光束發生器提供的寫入光束。本專利技術的各種實施方式的其它特征和優點可以通過觀察以下結合關聯附圖的詳細描述來理解。附圖說明圖IA提供了用于使用旋轉致動器讀取可旋轉介質的示例性讀取系統。圖IB提供了用于使用線性致動器將數據寫入圖IA的可旋轉介質的示例性寫入系統。圖2大致描繪了圖1A-1B的可旋轉介質上的放大的樞轉平移幾何圖形。圖3是根據本專利技術一些實施方式操作的電子束記錄器(EBR)的功能塊表示。圖4描繪了與可旋轉介質上的多個同心軌道相交的樞轉平移幾何圖形。圖5以圖表方式示出了用于提供寫入光束沿著選擇的軸向方向的偏轉的模擬電壓控制信號。圖6示出了可以被配置成生成圖5的模擬電壓控制信號的數模轉換器(DAC)。圖7A和7B是在不同的電壓范圍上表現的模擬電壓控制信號。圖8示出了用以解決圖7A-7B的電壓范圍的差異的、根據一些實施方式操作的具有主DAC和輔助DAC的控制電路。圖9示出了對應于可旋轉介質上的不同軌道間距的、具有不同范圍的模擬電壓信號。圖10是根據一些實施方式配置的控制系統。 具體實施例方式本公開內容總體上涉及在控制系統中生成模擬波形，諸如用于向記錄介質寫入數據的偏轉信號。圖IA示意性地描繪了讀取系統100。讀取系統包括存儲介質102，諸如磁存儲盤或光存儲盤。介質102通過電動機104以選擇的速度旋轉。盡管可以替代地采用諸如恒定線速度(CLV)的其它旋轉輪廓，然而，在一些實施方式中，電動機104以恒定的速度(恒定的角速度，或CAV)旋轉介質102。旋轉致動器106被定位成靠近介質102的最外直徑(OD)。致動器106關于樞軸 108樞轉，由此沿著以112大致表示的曲線平移路徑移動頭組件110。頭組件110可以執行關于介質102的讀和寫操作兩者，但這不是必要的。讀取系統電子設備總體上由114表示。這些系統電子設備包括讀/寫(R/W)通道 116、控制器118以及伺服電路120。讀/寫通道116處理與頭組件110的數據交換以在介質102和主機裝置(未示出)之間傳輸數據?？刂破?18提供系統100的頂層控制。伺服電路120提供閉環伺服控制操作，以將頭組件110定位成靠近介質表面上限定的各軌道(未示出)。在一些實施方式中，伺服電路120將控制電流施加給音圈電動機(VCM，未完全示出)的線圈122，以使致動器106關于樞軸108樞轉。為參考起見，定義了關于介質的X和Y軸方向。X方向對應于從中心軸到OD的、橫跨介質102的徑向方向。Y方向對應于沿介質102上的每個軌道的切線方向。注意，曲線平移路徑112既具有X分量又具有Y分量。圖IB提供了寫入系統130的一部分的示意性表示。寫入系統130被配置成將數據圖案預先寫入到圖IA的介質102。盡管不進行限制，但設想在一些實施方式中預先寫入的數據圖案可以包括伺服電路120在讀取系統100的搜尋和跟蹤操作期間使用的嵌入型伺服數據。在一些實施方式中，由寫入系統130寫入的介質是例如通過印制操作生成多個復制盤的主盤。寫入系統130包括電動機132，電動機132以選定的速度旋轉介質102。該速度可能與由圖IA中的讀取系統100的電動機104給予的速度匹配或不匹配。圖2中的電動機 132可以使用恒定線速度(CLV)或一些其它的輪廓來旋轉介質102。線性致動器134被設置成鄰近介質102，并且用于沿著橫跨介質102半徑的線性平移路徑138前進以及縮回寫入頭入組件136。該橫向運動可以通過對與永磁體142提供的磁場相互作用的線圈140選擇性地施加電流來實現。需要注意的是，線性平移路徑138沿著X方向對齊并且基本上沒有Y分量。圖2總體上示出了通過圖IB的寫入系統130使用可變軌道間距來適應圖IA的讀取系統100的樞轉平移特性。圖2是針對7個示例性軌道T1-T7的、具有高度放大的軌道間距(TP)差或寬度差的簡略圖。應當理解的是，實際商用的實施方式可以包括在介質的整個徑向范圍上的數萬個或更多個的軌道的寫入，而不是只有圖2中示出的7個，并且從軌道到軌道的TP變化可以顯著小于圖中所示。然而，可以看出，在磁盤102的最內和最外直徑(ID以及0D)的附近的軌道(例如軌道TPl和TP7)可以顯著地窄于在磁盤的中間部分附近的軌道(例如TP4)，或者具有較低的TP。正如上面指出的，TP的這種變化將補償圖IA的旋轉致動器(樞轉平移)路徑112 的幾何圖形?，F在參照圖3，在一些實施方式中，圖IB的寫入頭組件136表征為電子束記錄器 (EBR) 150的頭組件。本領域的普通技術人員能認識到，EBR進行工作以生成包括電子流的寫入光束。寫入光束撞擊關聯的介質以向其寫入圖案。該束與介質之間的相互作用可以是磁的、化學的以及染料反應的等?？梢钥紤]其它類型的寫入光束，因此圖3中的EBR 150只是說明性的并不是限制性的。寫入光束發生器151生成寫入光束(由虛線152表示)。寫入光束152穿過上透鏡組件154、接著通過偏轉板組件156并通過下透鏡組件158以撞擊介質102。偏轉板組件 156根據需要對該束152施加沿著相應X方向和Y方向的控制的偏轉。偏轉板組件156可以被設置成布置在束路徑的相對側的相應平行板對。由路徑 160和162上的X偏轉信號和Y偏轉信號所表示的控制電壓信號的施加給予寫入光束156 在軸向路徑上的受控位移。盡管沒有示出，但可以采用閉環檢測機構來確保能夠響應于給定的期望輸入而獲得期望量的束偏轉量。X和Y偏轉信號由信號發生器塊164生成。塊164還生成數據調制信號，該數據本文檔來自技高網...
【技術保護點】
【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】...
【專利技術屬性】
技術研發人員：道格拉斯·M·卡爾森，
申請(專利權)人：道格卡森聯合公司，
類型：發明
國別省市：
還沒有人留言評論。發表了對其他瀏覽者有用的留言會獲得科技券。