【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)屬于印刷版材領(lǐng)域，涉及用于印刷制版的鋁版基的制備方法，更具體涉及能夠提高圖文分辨率的噴墨打印直接制版用鋁版基的制備方法。
技術(shù)介紹
噴墨打印直接制版技術(shù)(Inkjet Computer To Plate)是利用噴墨打印設(shè)備在處理后的金屬版基或聚合物版基上直接噴涂影像的技術(shù)。現(xiàn)有制版的金屬板基主要使用鋁板。為了使鋁版基的耐印力及圖文分辨率提高，通常要對(duì)鋁板基進(jìn)行砂目化處理(見CN85100875)，使鋁板基表面具有一定的粗糙度。目前砂目化處理方法主要是電化學(xué)處理方法。電化學(xué)處理包括電解和陽(yáng)極氧化處理，電解和陽(yáng)極氧化處理的生產(chǎn)工藝比較成熟，使用較為廣泛。但現(xiàn)有的電化學(xué)處理?xiàng)l件使所得鋁版基上的微孔孔徑較大，一定面積的孔隙率小，由此使噴墨打印直接制版墨水易于在此種鋁版基上擴(kuò)散，導(dǎo)致印刷品的印刷質(zhì)量下降。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本專利技術(shù)的目的在于提供一種能夠提高圖文分辨率的噴墨打印直接制版用鋁版基的制備方法，使用該方法制備的鋁版基，可有效控制墨滴的擴(kuò)散行為，提高制版精度。本專利技術(shù)的方法包括將工業(yè)生產(chǎn)的用于印刷制版的鋁板依次經(jīng)除油、電解、除灰、陽(yáng)極氧化、水洗和烘干處理步驟；本專利技術(shù)通過(guò)在陽(yáng)極氧化處理步驟后，且在水洗步驟之前，增加用堿性處理液浸泡鋁版基步驟，使鋁版基的表面構(gòu)筑了所需的納米和微米粗糙結(jié)構(gòu)，該納米和微米粗糙結(jié)構(gòu)能夠控制墨滴在該鋁版基表面上的浸潤(rùn)、擴(kuò)散行為，所得鋁版基在具有一定的粗糙度的同時(shí)，又具有吸墨性和良好的耐磨性。利用噴墨打印直接制版技術(shù)，將制版墨水噴涂在經(jīng)本專利技術(shù)方法制備得到的鋁版基上形成圖文區(qū)，通過(guò)調(diào)整鋁版基的制備工藝可增加印刷時(shí)圖文區(qū)與非圖...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
【技術(shù)特征摘要】
1.一種噴墨打印直接制版用鋁版基的制備方法，包括將用于印刷制版的鋁版基依次經(jīng)除油、電解、除灰、陽(yáng)極氧化、水洗和烘干處理步驟；其特征是在陽(yáng)極氧化處理步驟后，且在水洗步驟之前，増加用堿性處理液浸泡陽(yáng)極氧化處理步驟后所得鋁版基的步驟，使鋁版基的表面構(gòu)筑出由納米孔及微米孔組合而成的納米和微米粗糙結(jié)構(gòu)，得到所述的噴墨打印直接制版用鋁版基； 所述的堿性處理液由強(qiáng)堿或強(qiáng)堿弱酸鹽及水組成，其中，強(qiáng)堿或強(qiáng)堿弱酸鹽的濃度為0.01 10wt%，余量為水。2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法，其特征是所述的用堿性處理液浸泡陽(yáng)極氧化處理步驟后所得鋁版基的時(shí)間為5 60秒。3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的方法，其特征是所述的由納米孔及微米孔組合而成的納米和微米粗糙結(jié)構(gòu)中的納米孔的孔徑范圍為10 200nm，微米孔的孔徑范圍為0. 3 3レm04.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征是所述的噴墨打印直接制版用鋁版基上的孔徑為10 200nm的納米孔的孔隙率，與陽(yáng)極氧化處理后，且在用堿性處理液浸泡之前所得鋁版基上的孔徑為10 200nm的納米孔的孔隙率相比，孔隙率増加10 20%。5.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的方法，其特征是所述的堿性處理液中的強(qiáng)堿或強(qiáng)堿弱酸鹽選自氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鋇、碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸氫鈉、碳酸氫鉀、磷酸鈉、磷酸鉀、磷酸氫鈉、磷酸氫鉀、磷酸ニ氫鈉、磷酸ニ氫鉀、葡萄糖酸鈉、葡萄糖酸鉀、こ酸鈉、こ酸鉀、硅酸鈉、硅酸鉀、硼酸鈉、硼酸鉀所組成的組中的至少ー種。6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法，其特征是所述的電解是采用一次電解或兩次電解或三次電解。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征是所述的進(jìn)行一次電解時(shí)的電解質(zhì)溶液中的無(wú)機(jī)酸的濃度為0. 5 IOwt 有機(jī)酸的濃度為0 Iwt %和/或有機(jī)胺的濃度為0 Iwt %，鋁鹽的濃度為0. 01 2wt%，余量為水；電解時(shí)間為30 80s，電解質(zhì)溶液的溫度20 50°C ； 所述的進(jìn)行兩次電解時(shí)的第一次電解所選用的電解質(zhì)溶液中無(wú)機(jī)酸的濃度為0. 5 IOwt 有機(jī)酸的濃度為0 Iwt %和/或有機(jī)胺的濃度為0 Iwt 招鹽的濃度為0.01 2wt%，余量為水；電解時(shí)間為40 80s，電解質(zhì)溶液的溫度為20 50°C;第二次電解所選用的電解質(zhì)溶液中的無(wú)機(jī)酸的濃度為0. 05 0. 5wt%，有機(jī)酸的濃度為0 Iwt%和/或有機(jī)胺的濃度為0 lwt%,招鹽的濃度為0. 01 2wt%,余量為水；電解時(shí)間20 40s，電解質(zhì)溶...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：周海華，劉云霞，宋延林，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：中國(guó)科學(xué)院化學(xué)研究所，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：
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