本實用新型專利技術公開了一種渦流式金屬液位檢測裝置，包括：渦流傳感器、信號電纜和信號處理機，其中，渦流傳感器包括距金屬液位從近到遠的方向依次同軸布置的接受線圈、發射線圈和補償線圈，發射線圈與接受線圈的間距大于發射線圈與補償線圈的間距。在本實用新型專利技術的渦流式金屬液位檢測裝置中，靈敏高，抗干擾能力強。（*該技術在2021年保護過期，可自由使用*）
【技術實現步驟摘要】
本技術屬于金屬液位檢測領域，具體涉及ー種渦流式金屬液位檢測裝置。
技術介紹
金屬液位檢測是穩定控制金屬液位的前提，實現金屬液位的自動控制可以使金屬液位穩定地保持在預定的高度上，提高鑄坯的質量，減少液態金屬溢出或漏出事故，提高鑄機作業率，減輕澆鑄人員的勞動強度以及避免了澆鑄人員疲勞或是誤操作而引發的事故。渦流式金屬液位檢測為非接觸式檢測，具有檢測精度高，可在較惡劣的環境下工作等優點，常用于對鋼、鋁和銅等金屬液位的檢測。現有的渦流式鋼水液位檢測裝置的渦流傳感器線圈采用三線圈結構，CN2274105Y公開了初級線圈在距金屬液位最遠的端部，兩個次級線圈在初級線圈的同一側且距初級線圈的間距不相等，其測程長穩定性差，易受到外界干擾；CN2318619Y公開了的初級線圈、次級線圈和補償線圈徑向同軸布局結構，其初級線圈與次級線圈之間的互感系數較大，初級線圈在次級線圈中產生的背景信號較高，影響測量靈敏度和穩定性；CN100535613C公開了相互嵌套布局的發射線圈、接受線圈和補償線圈，其中接受線圈與發射線圈的軸線垂直，補償線圈與發射線圈同軸。上述傳感器都采用了三線圈布局的結構，但都忽略了傳感器周圍金屬物體尤其是來自傳感器上方金屬物對傳感器產生的干擾即傳感器抗干擾能力弱，從而影響金屬液位檢測的準確性。因此，有必要提供一種靈敏度高抗干擾能力強的渦流式金屬液位檢測裝置以解決上述渦流式金屬液位檢測裝置的不足。
技術實現思路
本技術提供了一種渦流式金屬液位檢測裝置，包括渦流傳感器、信號電纜和信號處理機，其中，渦流傳感器包括距金屬液位從近到遠的方向依次同軸布置的接受線圈、發射線圈和補償線圈，發射線圈與接受線圈的間距大于發射線圈與補償線圈的間距。進ー步地，接受線圈與補償線圈的繞制方向相反。進ー步地，接受線圈的圈數大于補償線圈的圈數。進ー步地，接受線圈的圈數與補償線圈的圈數比值介于I至10。本技術的有益效果是1.圈數大于補償線圈的接受線圈與補償線圈制方向相反而且其距發射線圈的距離大于補償線圈與發射線圈的距離，可以使發射線圈在接受線圈和補償線圈的背景信號相互抵消。2.圈數多的接受線圈距金屬液位最近同時距渦流傳感器上方金屬物最遠，圈數少的補償線圈距金屬液位最遠同時距渦流傳感器上方金屬物最近，一方面，發射線圈在金屬液位上感應的渦電流對接受線圈的感應信號強而對補償線圈的感應信號弱，這兩路信號的差值較大即保證了對金屬液位檢測的靈敏度；另ー方面，發射線圈在渦流傳感器上方金屬物上感應的渦電流對接受線圈的感應信號和補償線圈的感應信號近似相等，這兩路信號差值近似為零即渦流傳感器上方金屬物對檢測液位信號幾乎無影響，從而保證渦流傳感器檢測液位的穩定性，提高了外界物的抗干擾能力。應該理解，以上的一般性描述和以下的詳細描述都是列舉和說明性質的，目的是為了對要求保護的本技術提供進ー步的說明。除了上面所描述的目的、特征和優點之外，本技術還有其它的目的、特征和優點。下面將參照圖，對本技術作進ー步詳細的說明。附圖說明附圖組成本說明書的一部分，用來幫助進一歩理解本技術。圖I示出了根據本技術優選實施例的渦流式金屬液位檢測裝置的系統圖。具體實施方式以下結合附圖對本技術的實施例進行詳細說明，但是本技術可以由權利要求限定和覆蓋的多種不同方式實施。如圖I所示，金屬液體從冶金容器107通過長水口注入到成型鑄模102中，渦流式金屬液位檢測裝置用來實時檢測鑄模102中的金屬液位101。渦流式金屬液位檢測裝置包括豎直安裝在鑄模102內金屬液位101上方的渦流傳感器103、信號電纜104和信號處理機105。渦流傳感器103包括距金屬液位101從近到遠的方向依次同軸布置的接受線圈103a、發射線圈103b和補償線圈103c。發射線圈103b與接受線圈103a的間距大于發射線圈103b與補償線圈103c的間距，接受線圈103a的圈數大于補償線圈103c的圈數，接受線圈的圈數與補償線圈的圈數比值介于I至10。信號處理機105產生的高頻振動信號經電纜104送給發射線圈，在金屬液位101上產生渦電流。接受線圈103a和補償線圈103c的繞制方向相反，使發射線圈在接受線圈103a和補償線圈103c中產生的背景信號相互抵消。發射線圈103b與接受線圈103a的間距大于發射線圈103b與補償線圈103c的間距，降低了發射線圈103b在接受線圈103a中產生的背景信號，而用圈數較少的補償線圈103c就可抵消發射線圈103b在圈數較多的接受線圈103a中產生的背景信號。與補償線圈103c比較，接受線圈103a的圈數較多距金屬液位較近，發射線圈103b在金屬液位中產生的渦電流在接受線圈103a中產生的感應信號遠大于該渦電流在圈數較少又距金屬液位較遠的補償線圈103c中產生的感應信號。這兩路感應信號經電纜104送給信號處理機105進行差值運算，給出金屬液位到渦流傳感器103距離的精確值，該差值越大靈敏度越高。除發射線圈103b在接受線圈103a中產生的背景信號之外，發射線圈103b還會在渦流傳感器上方金屬物106上產生渦電流形成干擾信號，如冶金容器底部金屬物106的上下移動會對渦流傳感器103產生干擾，該渦電流在圈數較少距渦流傳感器103上方金屬物較近的補償線圈103c中產生的感應信號近似等于該渦電流在圈數較多距渦流傳感器上方金屬物較遠的接受線圈103a中產生的感應信號，這兩路感應信號也經電纜104送給信號處理機105進行差值運算，該差值近似為零。因而，與現有的渦流式金屬液位檢測裝置相比較，本技術極大地降低了渦流傳感器上方金屬物對渦流傳感器檢測金屬液位的干擾，提高了穩定性和抗干擾能力。接受射線圈103a和補償線圈103c布置在發射線圈103b兩側，與接受線圈和補償線圈在發射線圈ー側的結構相比，減少了外界溫度變化對渦流傳感器103檢測金屬液位的干擾。 以上所述僅為本技術的優選實施例而已，并不用于限制本技術，對于本領域的技術人員來說，本技術可以有各種更改和變化。凡在本技術的精神和原則之內，所 作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本技術的保護范圍之內。權利要求1.一種渦流式金屬液位檢測裝置，其特征在于，包括渦流傳感器、信號電纜和信號處理機，其中，所述渦流傳感器包括距金屬液位從近到遠的方向依次同軸布置的接受線圈、發射線圈和補償線圈，所述發射線圈與接受線圈的間距大于發射線圈與補償線圈的間距。2.根據權利要求I所述的渦流式金屬液位檢測裝置，其特征在于，所述接受線圈與補償線圈的繞制方向相反。3.根據權利要求2所述的渦流式金屬液位檢測裝置，其特征在于，所述接受線圈的圈數大于補償線圈的圈數。4.根據權利要求3所述的渦流式金屬液位檢測裝置，其特征在于，所述接受線圈的圈數與補償線圈的圈數比值介于I至10。專利摘要本技術公開了一種渦流式金屬液位檢測裝置，包括渦流傳感器、信號電纜和信號處理機，其中，渦流傳感器包括距金屬液位從近到遠的方向依次同軸布置的接受線圈、發射線圈和補償線圈，發射線圈與接受線圈的間距大于發射線圈與補償線圈的間距。在本技術的渦流式金屬液位檢測裝置中，靈敏高，抗干擾能力強。文檔編號G01F23/22GK202403763SQ201本文檔來自技高網...
【技術保護點】
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員：田志恒，
申請(專利權)人：衡陽鐳目科技有限責任公司，
類型：實用新型
國別省市：
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