新型真空加熱爐制造技術

本實用新型專利技術公開一種新型真空加熱爐，包括外殼體和位于所述外殼體內部的內殼體，所述內殼體由加熱室和冷卻室組成，所述加熱室和所述冷卻室之間設置有隔離門，所述外殼體和所述內殼體之間形成真空夾層，所述加熱室的內設置有多晶莫來石纖維毯保溫層和硅鉬棒加熱元件。本實用新型專利技術既能節約能源又能降低設備制造成本，并降低現有技術中真空加熱爐的運行成本。（*該技術在2022年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

本技術涉及ー種加熱爐，特別涉及ー種新型真空加熱爐。
技術介紹
現在廣泛應用的真空加熱爐在工作過程中需要在夾層內不斷地通入冷卻水以降低真空加熱爐外壁的溫度；而且真空加熱爐內的加熱元件(石墨)和保溫材料(石墨碳氈)都要求在相對較高的真空度下進行工作，以防止被氧化，這樣就需要不斷地對加熱爐內室進行抽真空。真空栗和循環水栗兩項的功率就占整個真空加熱爐總功率的30%左右， 在真空加熱爐降溫過程中，需要不斷地抽真空防止外部空氣進入真空加熱爐內，停爐前還要不斷的通入循環水冷卻真空加熱爐，直到溫度降低到350°C左右為止，這樣大大的浪費了 能源；不符合當前國家提倡的節能要求。
技術實現思路
針對現有技術中存在的不足，本技術的目的在于提供一種既能節約能源又能降低設備制造成本的新型真空加熱爐，并降低現有技術中真空加熱爐的運行成本。本技術的技術方案是這樣實現的新型真空加熱爐，包括外殼體和位于所述外殼體內部的內殼體，所述內殼體由加熱室和冷卻室組成，所述加熱室和所述冷卻室之間設置有隔離門，所述外殼體和所述內殼體之間形成真空夾層，所述加熱室的內設置有多晶莫來石纖維毯保溫層。上述新型真空加熱爐，所述多晶莫來石纖維毯保溫層的厚度為20cm-30cm。上述新型真空加熱爐，所述加熱室內設置有硅鑰棒加熱元件。上述新型真空加熱爐，所述多晶莫來石纖維毯保溫層與所述加熱室的內臂之間設有鏡面不銹鋼反射板，所述鏡面不銹鋼反射板與所述多晶莫來石纖維毯保溫層之間以及所述鏡面不銹鋼反射板與所述加熱室的內壁之間分別設有隔離柵。上述新型真空加熱爐，所述冷卻室內設置有導軌，所述導軌下方為盛有冷卻液的冷卻池，所述冷卻池內安裝有升降架。本技術的有益效果是本專利技術創造的新型真空加熱爐內的多晶莫來石纖維毯層和硅鑰棒加熱元件與石墨碳氈和石墨相比在降溫時不需要較高的真空度，在相對低真空的條件下即可完成爐體的降溫停爐。而且硅鑰棒加熱元件加熱溫度高(最高使用溫度1600°C)，多晶莫來石纖維毯保溫層的耐高溫(最高使用溫度1800°C)和保溫效果好，外殼體和內殼體之間的真空夾層通過抽真空代替循環水大大減少了熱傳遞,這樣能夠大幅度節約能源，降低現有技術中真空加熱爐的運行成本；實現國家十二五計劃提倡的節能減排。附圖說明圖I為本技術的新型真空加熱爐的內部結構示意圖。圖中1_加熱室、2-冷卻室、3-外殼體、4-內殼體、5-多品莫來石纖維毪保溫層、6-硅鑰棒加熱元件、7-鏡面不銹鋼反射板、8-隔離柵、9升降架、10-隔離門、11-真空夾層、12-導軌、13-冷卻液。具體實施方式結合附圖對本技術做進ー步的說明如圖I所示，本實施例新型真空加熱爐包括外殼體3和位于所述外殼體3內部的內殼體4，所述內殼體4由加熱室I和冷卻室2組成，所述加熱室I和所述冷卻室2之間設置有隔離門10，所述外殼體3和所述內殼體4之間形成真空夾層11，所述加熱室I的內設置有多晶莫來石纖維毯保溫層5和硅鑰棒加熱元件6，所述多晶莫來石纖維毯保溫層5的厚度為20cm-30cm。所述多晶莫來石纖維毯保溫層5與所述加熱室I的內壁之間設有鏡面不銹鋼反射板7，所述鏡面不銹鋼反射板7與所述多晶莫來石纖維毯保溫層5之間以及所述鏡面不銹鋼反射板7與所述加熱室I的內壁之間分別設有隔離柵8(以減少所述鏡面不銹鋼 反射板7與所述多晶莫來石纖維毯保溫層5和所述加熱室I的內壁之間的熱傳導)。所述冷卻室2內設置有導軌12，所述導軌12下方為盛有冷卻液13的冷卻池，所述冷卻池內安裝有升降架9。本實施例的真空加熱爐在工作時，首先將真空夾層11預抽真空，達到要求后并封閉，然后將需要熱處理的エ件置于所述加熱室I內，然后對所述加熱室I、所述冷卻室2抽真空，當所述加熱室I內的真空度達到要求時開始通過所述硅鑰棒加熱元件6對エ件進行加熱。此時由于所述多晶莫來石纖維毯保溫層5的保溫作用以及所述鏡面不銹鋼反射板7能夠有效地將所述多晶莫來石纖維毯保溫層5的輻射熱反射回去，從而使得所述內殼體4的溫度不會高，而所述內殼體4與所述外殼體3之間的真空夾層11能夠有效地減少二者之間的熱傳遞，從而使得本實施例新型真空加熱爐在工作過程中所述外殼體3的溫度不會太高，滿足國標的要求。多晶莫來石纖維毯層5和硅鑰棒加熱元件6與石墨碳氈和石墨相比不需要真空環境，從而使得所述加熱室I在停爐降溫時的真空度不需要很高，節約真空泵的耗能。并且本實施例的新型真空加熱爐在降溫過程中也解決了傳統真空加熱爐需要持續向夾層中通入冷卻水和持續對所述加熱室I抽真空而耗費大量電能的缺陷，實現了節能。エ件加熱完畢之后把所述隔離門10打開，將エ件沿所述導軌12輸送到所述冷卻室2內，所述升降架9自冷卻池中向上升起，從而將エ件置于所述升降架9上，然后所述升降架9下降而使得エ件浸入所述冷卻液13中進行冷卻。冷卻完畢的エ件通過所述升降架9的上升而置于所述導軌12的輸送機構上以便出料。權利要求1.新型真空加熱爐，包括外殼體(3)和位于所述外殼體(3)內部的內殼體(4)，所述內殼體⑷由加熱室⑴和冷卻室⑵組成，所述加熱室⑴和所述冷卻室⑵之間設置有隔離門(10)，其特征在于，所述外殼體(3)和所述內殼體(4)之間形成真空夾層(11)，所述加熱室(I)的內設置有多晶莫來石纖維毯保溫層(5)。2.根據權利要求I所述的新型真空加熱爐，其特征在于，所述多晶莫來石纖維毯保溫層(5)的厚度為20cm-30cm。3.根據權利要求2所述的新型真空加熱爐，其特征在于，所述加熱室(I)內設置有硅鑰棒加熱元件(6)。4.根據權利要求1-3任一所述的新型真空加熱爐，其特征在于，所述多晶莫來石纖維毯保溫層(5)與所述加熱室⑴的內壁之間設有鏡面不銹鋼反射板(7)，所述鏡面不銹鋼反射板(7)與所述多晶莫來石纖維毯保溫層(5)之間以及所述鏡面不銹鋼反射板(7)與所述加熱室(I)的內壁之間分別設有隔離柵(8)。5.根據權利要求4所述的新型真空加熱爐，其特征在于，所述冷卻室(2)內設置有導軌(12)，所述導軌(12)下方為盛有冷卻液(13)的冷卻池，所述冷卻池內安裝有升降架(9)。專利摘要本技術公開一種新型真空加熱爐，包括外殼體和位于所述外殼體內部的內殼體，所述內殼體由加熱室和冷卻室組成，所述加熱室和所述冷卻室之間設置有隔離門，所述外殼體和所述內殼體之間形成真空夾層，所述加熱室的內設置有多晶莫來石纖維毯保溫層和硅鉬棒加熱元件。本技術既能節約能源又能降低設備制造成本，并降低現有技術中真空加熱爐的運行成本。文檔編號F27B17/00GK202420176SQ20122001757公開日2012年9月5日 申請日期2012年1月16日 優先權日2012年1月16日專利技術者王珺博 申請人:劉衛軍, 王珺博本文檔來自技高網...

【技術保護點】

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：王珺博，
申請(專利權)人：王珺博，劉衛軍，
類型：實用新型
國別省市：