本發明專利技術涉及一種處理裝置，包括保護系統和一個或多個處理站(2)，每個處理站(2)包括電子束發射器(31)和用于將容器支撐在所述發射器下方的支撐設備(5)，所述發射器能夠發射經過由所述支撐設備支撐的容器的上部開口的電子束，以對所述容器進行滅菌，所述保護系統用于阻擋由發射器發射的放射物。所述保護系統包括連接到發射器的上部部分(6A)、連接到支撐設備的下部部分(6B)和移動設備(9)，移動設備(9)能夠使上部部分在縮進位置和至少一個操作位置之間相對于下部部分移動，在操作位置中，所述部分形成保護外殼(E1)，發射器和容器定位在保護外殼(E1)中。
【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】用于通過電子束處理容器的裝置的鐘形罩形保護系統本專利技術涉及一種處理裝置，用于通過電子束進行容器的滅菌，所述裝置設有特殊的保護系統。特別是通過美國專利2009/0045350已知用于處理的裝置，其包括具有旋轉支撐板的旋轉的圓盤傳送帶，其中的旋轉支撐板支撐以規則角度間隔布置的多個處理站，每個處理站包括具有電子束發射器的滅菌設備，以及用于將容器支撐在所述發射器下方的支撐設備，所述發射器能夠發射經過由所述支撐設備支撐的容器的上部開口的電子束，以對容器特別是所述容器的內壁進行滅菌。與常規的化學滅菌相比，通過電子束滅菌關于滅菌方面更加有效、迅速并且在處理后不留下任何殘留痕跡。然而，電子束發射器產生不想要的輻射，特別是X射線，并且因而需要提供保護系統或防護物以防止放射物朝外部傳播的任何風險，并由此保護操作員。保護系統通過由鉛基材料制成的保護外殼形成，其中放置用于滅菌的旋轉的圓盤傳送帶，以及容器的進給和輸送星輪。這些保護系統復雜、笨重而且非常昂貴。本專利技術的目的是建議一種在填充前對容器滅菌的處理裝置，意在克服前述缺點，其是高性能且迅速的，同時在設計和實施上仍然保持簡單。為此效果，本專利技術建議一種處理裝置，包括-一個或多個處理站，用于通過電子束對容器進行滅菌，每個處理站包括-滅菌設備，其包括電子束發射器，和-支撐設備，其將容器支撐在所述發射器下方，所述發射器能夠發射經過由所述支撐設備支撐的容器的上部開口的電子束，以對容器特別是容器的內壁進行滅菌，以及-保護系統，其用于阻擋由一個或多個發射器發射的放射物，其特征在于，對于每個處理站，所述保護系統包括-上部部分，其組裝到發射器，-下部部分，其組裝到支撐設備，和-移動設備，其能夠進行上部部分相對于下部部分在縮進位置和至少一個作用位置之間的相對移動，在所述縮進位置中，上部部分與下部部分分離，以允許由支撐設備支撐的容器在發射器下方的定位，在所述作用位置中，上部部分和下部部分形成保護外殼，發射器和由支撐設備支撐的容器定位在該保護外殼中，以進行滅菌操作。根據本專利技術，滅菌通過電子束進行，并且對于每個發射器保護系統包括下部部分和上部部分，下部部分和上部部分能夠朝彼此移動以形成保護外殼，其中相同的上部部分和/或相同的下部部分能夠為多個發射器或者該裝置的所有發射器所共有。關于包含整個裝置的外殼，根據本專利技術的保護外殼在設計和生產上簡單、更便宜且更簡潔。根據實施方式，所述上部部分包括第一小板或第一板，稱為上板，其上安裝發射器，所述發射器向下延伸，所述下部部分包括第二小板或第二板，稱為下板，構成所述支撐設備，其中至少上部部分或下部部分包括裙緣或管狀壁形式，與其板一起形成鐘形罩。根據實施方式，上部部分具有由上板和管狀壁形成的鐘形罩形式，當上部部分處于作用位置時，下部部分的下板布置在鐘形罩中。有利地，下板具有向下延伸的管狀壁，并且該管狀壁能夠在上部部分的管狀壁中滑動，這些管狀壁的重疊保證了由一個或多個發射器發射的放射物的阻擋。根據實施方式，所述發射器設有管狀噴嘴，該管狀噴嘴基本豎直地在上板下方延伸并能夠借助其遠端輸送由發射器產生的電子束，在上部部分朝著作用位置移動期間，所述噴嘴能夠通過經過所述容器的上部開口而被引入所述容器中。根據實施方式，所述移動設備能夠使上部部分在第一操作位置和末端操作位置之間移動，在第一操作位置中，噴嘴的遠端布置在容器的上部開口上方，在末端操作位置中，所述噴嘴延伸到容器中。根據另一實施方式，保護系統的一個部分是鐘形罩的形式，所述鐘形罩基本上借助其自由邊緣壓緊另一部分的板。根據另一實施方式，上部部分和下部部分中的每一個由鐘形罩形成，兩個鐘形罩基本上在單獨的作用位置相互壓靠，或者更優選地，在操作位置中相互部分地嵌入。根據實施方式，所述裝置是逐步操作的線性類型的裝置，包括至少一個或多個通道或平行處理線，例如從I到12條處理線，更優選地，從6到12條線，每條線設有至少一個 處理站。根據實施方式，處理裝置包括-多條線，其相互平行，-至少一排處理站，其包括用于每條處理線的處理站，-保護系統的上部部分，其包括上板和管狀壁，所述上板支撐所述排處理站的所有發射器，所述管狀壁從所述上板向下延伸并包圍該排的所有所述發射器，-保護系統的下部部分，其包括下板，該下板能夠支撐用于每條處理線的至少一個容器，構成所述排的處理站的支撐設備，-所述移動設備能夠移動所述上板和/或下板，更優選地，能夠移動所述上板。保護系統包括關聯的相同鐘形罩和相同下板，用于處理站的排的所有處理站。該裝置可包括至少兩個連續排的處理站，其相互平行。在此情形下，更優選地，保護系統包括上部部分特別是鐘形罩和用于每排處理站的下部部分，以此方式用于形成用于每排處理站的保護外殼。根據另一實施方式，該裝置是旋轉類型的裝置，并且包括圓盤傳送帶，該圓盤傳送帶包括上部旋轉板，支撐以規則角度間隔布置的多個處理站，保護系統包括用于每個處理站的上部部分和下部部分。有利地，構成保護系統的元件由鉛基材料制成。借助電子束滅菌能夠在外殼中，特別是在置于外殼中的容器中產生小量臭氧。根據實施方式，所述保護系統包括注射設備，該注射設備能夠在借助電子束輻射期間和/或以后將產品注入外殼，并且特別是注入容器中以排出在輻射期間由電子束發射器產生的臭氧，并且由此借助于將在容器中調節的填充產品的臭氧來防止任何的變質。注射產品是氣體產品或具有低沸點的液體產品，特別是例如氮氣的中性氣體或液氮。有利地，所述注射設備包括注射管，更優選地沿著發射器的噴嘴延伸，所述管能夠通過在上部部分朝作用位置移動期間經過所述容器的上部開口而被引入所述容器中。根據實施方式，所述保護系統，更優選地保護系統的上部部分，并且特別是上板包括排空設備，用于朝外殼的外部排空包含在外殼中的氣體，以在上部部分相對于下部部分的相對移動期間和/或在中性氣體注入外殼中的期間，防止外殼中的任何過壓。所述排空設備包括例如一個或多個通氣孔，更優選地布置在保護系統的上部部分的壁中，并且更優選地在保護系統的上部部分中，每個通氣孔更優選地設有置于部分真空中的外管。根據實施方式，所述保護系統還包括擋板系統，以用作在上部部分和下部部分之間的連接處的由一個或多個發射器發射的放射物的屏蔽，所述擋板系統包括例如下部管狀壁的環狀邊緣，其由環狀壁延伸，當鐘形罩處于作用位置時，上部管狀壁插入形成在環狀壁和下部管狀壁之間的凹槽中。在本專利技術當前優選具體實施方式的以下詳細的解釋性描述期間，并參照所附的概略圖，本專利技術將被更好地理解并且其他的目的、細節、特征和優勢將顯得更加清晰，附圖中圖I是根據本專利技術的處理裝置的概略側視圖，包括用于容器滅菌的處理站；、圖2A至2C是處理站的側視圖，顯示容器滅菌期間保護系統的各種位置；圖3是根據可選擇實施方式的處理裝置的概略頂視圖，包括平行的多個滅菌站；圖4是根據圖3中截平面IV-IV的概略視圖；圖5是根據圖3中截平面V-V的概略視圖；并且圖6是根據可選擇實施方式的處理站的概略側視圖。圖I顯示一種處理裝置，用于容器R的滅菌、由填充產品處理的容器的填充以及容器的封閉。處理裝置包括處理線1，處理線I包括通過逐步操作的輸送系統10，沿著處理線I從上游到下游關于向前的方向Fl布置了用于帶來容器的站81、用于容器滅菌的處理站2、填充站82、封本文檔來自技高網...
【技術保護點】
【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】2009.12.29 FR 09596551.一種處理裝置，包括 -一個或多個處理站(2、102、202)，其用于通過電子束對容器(R)進行滅菌，每個處理站包括滅菌設備(3、103、203)和支撐設備(4、104、204)，所述滅菌設備(3、103、203)包括設有管狀噴嘴(32、132、232)的電子束發射器(31、131、231)，所述支撐設備(4、104、204)用于將容器支撐在所述發射器下方，所述發射器能夠發射經過由所述支撐設備支撐的容器的上部開口的電子束，以對所述容器進行滅菌，以及 -保護系統，其用于阻擋由所述發射器或多個發射器發射的放射物， 其特征在于，對于每個處理站，所述保護系統包括 -上部部分(M、106A、206A)，所述上部部分組裝到所述發射器，所述上部部分具有由稱為上板的第一板(4、104、204)并由管狀壁(61、161、261)形成的鐘形罩的形狀，所述發射器安裝在所述第一板上并且所述發射器的噴嘴基本上在所述上板下方豎直地延伸， -下部部分(6B、106B、206B)，所述下部部分包括第二板(5、105、205)，所述第二板稱為下板，構成所述支撐設備，和 -移動設備(9、109、209)，所述移動設備能夠進行所述上部部分相對于所述下部部分在縮進位置和操作位置之間的相對移動，在所述縮進位置中，所述上部部分與所述下部部分分離，以允許由所述支撐設備支撐的容器在所述發射器下方的定位，在所述操作位置中，所述上部部分和所述下部部分形成保護外殼(E1、E2、E3)，所述發射器和由所述支撐設備支撐的所述容器定位在所述保護外殼(E1、E2、E3)中，當所述上部部分處于作用位置時，所述下板布置在所述鐘形罩中，所述移動設備能夠使所述上部部分在第一操作位置和末端操作位置之間移動，在所述第一操作位置中，所述噴嘴(32、132、232)的遠端(32a、232a)布置在所述容器的所述上部開口上方，在所述末端操作位置中，所述噴嘴在所述容器中延伸。2.根據權利要求I所述的裝置，其特征在于，所述下板(5、105、205)具有向下延伸的管狀壁(62、162、262)，所述管狀壁(62、162、262)能夠在所述上部部分(6A、106A、206A)的所述管狀壁(61、161、162)中滑動。3.根據權利要求I或2所述的處理裝置，其特征在于，所述裝置是逐步操作...
【專利技術屬性】
技術研發人員：菲利普·勒瓊，菲利普·馬奎特，
申請(專利權)人：HEMA公司，
類型：發明
國別省市：
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