【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及薄膜電極的制備工藝，具體涉及一種可以調節掩膜板和襯底緊密接觸程度的輔助裝置。
技術介紹
目前，公知的薄膜電極制備方法是將掩膜板直接放置在襯底上，然后通過薄膜制備工藝得到實驗所需要的薄膜電極。這種方法雖然簡潔易行，但是由于掩膜板與襯底的接觸并不緊密，在薄膜電極的生長過程中會出現電極點粘連，薄膜電極厚度不均勻的情況，這樣的結果將嚴重的影響薄膜器件性能的穩定性。
技術實現思路
本專利技術的目的是提供一種制備薄膜電極的輔助裝置，用以解決現有薄膜電極制備工藝過程中，掩膜板和襯底之 間的接觸不緊密造成制備出來的薄膜電極不均勻的問題。本專利技術采用如下技術方案一種制備薄膜電極的輔助裝置，包括底盤，底盤具有用于支撐上下疊加設置的掩膜板和襯底的支撐端面，底盤上還設置有用于對掩膜板施加朝向襯底壓緊的壓緊力的壓緊機構，所述壓緊機構包括用于壓裝在掩膜板上的壓片夾以及向下穿過壓片夾后螺紋旋入底盤內的將壓片夾與底盤固連的控位螺釘，所述底盤具有供所述控位螺釘旋入的控位螺孔，所述壓片夾具有供所述控位螺釘穿過的導向孔所述壓片夾為對稱布置在支撐端面中心兩側的至少一對，所述控位螺釘為與所述壓片夾--對應設置的至少兩個。所述每個控位螺釘對應的控位螺孔均為沿以支撐端面中心為圓心所在圓周的徑向方向間隔布置的至少兩個，每個控位螺釘對應的各控位螺孔為一組，所述導向孔為沿每組控位螺孔布置方向延伸的長孔。所述每組控位螺孔沿以所述支撐端面中心為圓心所在圓周方向均布。采用上述結構的薄膜電極的輔助裝置，由于制備薄膜電極的掩膜板和襯底上下疊放放置在底盤上，壓緊機構具有壓裝在掩膜板上的壓片夾以及螺紋旋入底...
【技術保護點】
【技術特征摘要】
1.一種制備薄膜電極的輔助裝置，其特征在于包括底盤，底盤具有用于支撐上下疊加設置的掩膜板和襯底的支撐端面，底盤上還設置有用于對掩膜板施加朝向襯底壓緊的壓緊カ的壓緊機構，所述壓緊機構包括用于壓裝在掩膜板上的壓片夾以及向下穿過壓片夾后螺紋旋入底盤內的將壓片夾與底盤固連的控位螺釘，所述底盤具有供所述控位螺釘旋入的控位螺孔，所述壓片夾具有供所述控位螺釘穿過的導向孔。2.根據權利要求I所述的制備薄膜電極的輔助裝置，其特征在于所述壓片夾為對稱...
【專利技術屬性】
技術研發人員：孫健，張偉風，張婷，魏凌，賈彩虹，
申請(專利權)人：河南大學，
類型：發明
國別省市：
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