液晶面板的制作方法及裝置制造方法及圖紙

本發明專利技術公開一種液晶面板的制作裝置及方法，該裝置包括：清潔機構，用于在陣列基板完成陣列制程后，對陣列基板進行清潔處理；陣列測試機，用于對清潔處理后的陣列基板進行陣列測試；修補機，用于根據陣列測試處理結果，對陣列基板進行相應處理。本發明專利技術通過對完成陣列制程后的陣列基板進行清潔處理之后，再進行陣列檢測與斷線修補，可避免清潔機構在清潔處理中造成斷線的TFT陣列基板進入成盒裝置，降低了液晶面板的報廢率。同時，由于TFT陣列基板先經過清潔機構清潔處理清除TFT陣列基板上的微粒后再由陣列檢測機對TFT陣列基板進行檢測，避免了TFT陣列基板上的微粒對陣列測試機的損傷。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及液晶面板制作
，尤其涉及一種液晶面板的制作方法及裝置。
技術介紹
TFT (Thin Film Transistor,薄膜場效應晶體管)液晶面板的制造通常包括陣列制程和成盒制程。其中，陣列制程包括形成TFT陣列基板及CF基板；成盒制程中，在TFT陣列基板及CF基板上形成配向膜，并將CF基板和TFT陣列基板貼合并注入液晶。所述TFT陣列基板一般包括掃描線、數據線、TFT陣列及像素電極。在TFT陣列基板形成后，需要對TFT陣列基板進行檢測，以確認TFT基板上的掃描線、數據線是否存在缺陷。經過檢測無缺陷的TFT陣列基板，進入成盒制程，在TFT陣列基板涂布配向膜之前，需要對TFT陣列基板進行清潔，以去除TFT陣列基板上的微粒或油污等。但是，在去除TFT陣列基板上的微粒或油污時，經常會造成TFT陣列基板的掃描線或數據線出現斷線的情況。比如，在清洗陣列基板過程中，在刮除陣列基板上的微粒時，容易造成陣列基板斷線或微斷線，并有可能會讓修補機在陣列基板上的鍍線，在清洗陣列基板后被剝離，造成陣列基板斷線；同樣，在對陣列基板進行紫外光照射時，容易使陣列基板的電子能階升高，致使后續涂布配向膜前產生靜電擊傷現象。而在對TFT陣列基板清潔之后至在TFT陣列基板上形成配向膜之前，不會再對TFT陣列基板進行檢測，因此，在成盒制程中，若將由于清潔而造成存在斷線的TFT陣列基板與CF基板組裝，則會由于陣列基板上存在斷線，造成液晶面板的配向不良或者出現壞點，進而導致液晶面板報廢。
技術實現思路
本專利技術的主要目的在于提供一種液晶面板的制作方法及裝置，旨在降低液晶面板的報廢率。為了達到上述目的，本專利技術提出一種液晶面板的制作方法，包括以下步驟對TFT陣列基板進行清潔處理；對清潔處理后的TFT陣列基板進行陣列測試；根據陣列測試處理結果，對所述TFT陣列基板進行相應處理。 優選地，所述對TFT陣列基板進行清潔處理的步驟包括通過清潔器對所述TFT陣列基板進行水洗；通過超音波并結合清潔劑對水洗后的TFT陣列基板進行清潔；對所述TFT陣列基板進行紫外光照射。優選地，所述根據陣列測試處理結果，對所述TFT陣列基板進行相應處理的步驟包括、若所述陣列測試處理結果為所述TFT陣列基板上存在斷線，則修補機對所述TFT陣列基板進行斷線修補；將修補后的TFT陣列基板送入成盒制程。優選地，所述根據陣列測試處理結果，對所述TFT陣列基板進行相應處理的步驟包括若所述陣列測試處理結果為所述TFT陣列基板上不存在斷線，則所述TFT陣列基板被送入成盒制程。優選地，所述通過清潔器對所述TFT陣列基板進行水洗包括由一噴水裝置向陣列基板噴水及由毛刷配合所述噴水裝置清潔TFT陣列基板。本專利技術還提出一種液晶面板的制作裝置，包括 清潔機構，用于對TFT陣列基板進行清潔處理； 陣列測試機，用于對清潔處理后的TFT陣列基板進行陣列測試；修補機，用于修補TFT陣列基板上的斷線。優選地，所述清潔機構包括清潔器，用于對所述陣列基板進行水洗，去除所述陣列基板上的較大微粒；超音波器，用于結合清潔劑對水洗后的陣列基板進行清潔，去除所述陣列基板上的較小微粒；紫外光照射機，用于對所述陣列基板進行紫外光照射，去除所述陣列基板上的有機物。優選地，所述修補機具體用于當所述陣列測試處理結果為所述TFT陣列基板上存在斷線時，對所述TFT陣列基板進行斷線修補。優選地，所述液晶面板的制作裝置進一步包括一成盒裝置，該成盒裝置用于在所述TFT陣列基板上形成配向膜，并將一 CF基板與其貼合并在TFT陣列基板與CF基板之間注入液晶。優選地，所述清潔器包括一用于向陣列基板噴水的噴水裝置和配合所述噴水裝置清潔陣列基板的毛刷。本專利技術提出的一種液晶面板的制作方法及裝置，通過對完成陣列制程后的陣列基板進行清潔處理之后，再進行陣列檢測與斷線修補，可避免清潔機構在清潔處理中造成斷線的TFT陣列基板進入成盒裝置，降低了液晶面板的報廢率。同時，由于TFT陣列基板先經過清潔機構清潔處理清除TFT陣列基板上的微粒后再由陣列檢測機對TFT陣列基板進行檢測，避免了 TFT陣列基板上的微粒對陣列測試機的損傷。附圖說明圖I是本專利技術液晶面板的制作裝置較佳實施例的結構示意圖；圖2是本專利技術液晶面板的制作裝置較佳實施例中清潔機構的結構示意圖；圖3是本專利技術液晶面板的制作方法較佳實施例的流程示意圖。本專利技術目的的實現、功能特點及優點將結合實施例，參照附圖做進一步說明。具體實施例方式以下將結合附圖及實施例，對實現專利技術目的的技術方案作詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本專利技術，并不用于限定本專利技術。如圖I所示，本專利技術較佳實施例提出一種液晶面板的制作裝置，包括清潔機構201、陣列測試機202、修補機203及成盒裝置204，其中清潔機構201用于對具有TFT陣列、數據線、掃描線、像素電極等的TFT陣列基板進行清潔處理；陣列測試機202用于對清潔處理后的TFT陣列基板進行陣列測試，以檢測TFT陣列基板的數據線、掃描線等是否存在斷線；修補機203用于修補TFT陣列基板中的斷線；所述成盒裝置204用于在所述TFT陣列基板上形成配向膜，并將一 CF基板與其貼合并在TFT陣列基板與CF基板之間注入液晶。在本實施例中，當TFT陣列基板完成陣列制程后，首先由清潔機構201對TFT陣列 基板進行清潔，然后由陣列檢測機202對TFT陣列基板進行陣列測試。如圖2所示，上述清潔機構201包括清潔器2011、超音波器2012以及紫外光照射機 2013。清潔器2011用于對所述TFT陣列基板進行水洗，以去除所述TFT陣列基板上的較大微粒；超音波器2012用于產生超音波，并結合清潔劑對水洗后的TFT陣列基板進行清潔，以去除所述TFT陣列基板上的較小微粒；紫外光照射機2013用于對去除微粒后的所述TFT陣列基板進行紫外光照射，以去除所述陣列基板上的油污等有機物。上述清潔器2011具體包括一噴水裝置和一毛刷，所述噴水裝置用于向陣列基板噴水，毛刷用于在噴水裝置向陣列基板噴水的同時，滾動清潔陣列基板。如前所述，在上述清潔處理過程中，可能會造成TFT陣列基板斷線或者其他缺陷，t匕如，采用清潔器2011或超音波器2012清洗TFT陣列基板，在去除TFT陣列基板上的大微粒或小微粒時，容易造成TFT陣列基板斷線；在紫外光照射機2013對TFT陣列基板進行紫外光照射時，容易使TFT陣列基板的電子能階升高，致使后續形成配向膜前產生靜電擊傷現象，而造成液晶面板報廢。因此，本實施例在對TFT陣列基板進行清潔機構201清潔處理后，由陣列檢測機202對TFT陣列基板進行陣列測試，以檢測TFT陣列基板可能出現的斷線，避免液晶面板報廢。所述修補機203用于修補陣列檢測機202檢測出的存在斷線的TFT陣列基板。具體地，本實施例通過陣列測試機202對經過清潔處理后的陣列基板進行陣列測試。由于TFT陣列基板上布置有TFT陣列、數據線、掃描線以及像素電極等，該陣列測試是指對TFT陣列基板的數據線、掃描線進行檢測，通過檢測判斷TFT陣列基板是否存在斷線情況。當所述陣列測試機202的測試結果為所述TFT陣列基板上存在斷線時，所述修補機203對所述TFT陣列基板的斷線進行修補，然后將修補后的TFT陣列基板送入成盒本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種液晶面板的制作方法，其特征在于，包括以下步驟：對TFT陣列基板進行清潔處理；對清潔處理后的TFT陣列基板進行陣列測試；根據陣列測試處理結果，對所述TFT陣列基板進行相應處理。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：鄭文達，
申請(專利權)人：深圳市華星光電技術有限公司，
類型：發明
國別省市：