增透膜制備工藝方法技術(shù)

本發(fā)明專利技術(shù)公開了一種增透膜制備工藝方法，包括有清潔真空室內(nèi)所有相關(guān)器具并放入光學(xué)鏡片和加入膜料的準(zhǔn)備工作步驟；對(duì)所述真空室進(jìn)行抽真空的抽真空步驟；真空度達(dá)到要求后預(yù)熱膜料的預(yù)熱步驟和將所述膜料氣化沉積到所述光學(xué)鏡片表面的鍍膜步驟。所述鍍膜步驟包括有在所述光學(xué)鏡片上首先鍍一層氧化鋁膜的初鍍步驟、再在所述氧化鋁膜上鍍一層氧化鋯膜的中鍍步驟和最后在所述氧化鋯膜上鍍一層氟化鎂膜的末鍍步驟。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明專利技術(shù)有效解決了目前常規(guī)鍍膜方法所鍍的增透膜的適應(yīng)性不高的問題。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

本專利技術(shù)涉及光學(xué)鍍膜加工
，尤其是一種增透膜的制備方法。
技術(shù)介紹
目前通用的真空鍍膜工藝方法包括有清潔真空室內(nèi)所有相關(guān)部件后放入光學(xué)鏡片和加入膜料的準(zhǔn)備工作步驟；對(duì)所述真空室進(jìn)行抽真空的抽真空步驟；真空度達(dá)到要求后的預(yù)熱真空室和預(yù)熱膜料的預(yù)熱步驟和將所述膜料氣化沉積到所述光學(xué)鏡片表面的鍍膜步驟。由于普通光學(xué)鏡片的透光性不高造成成像不夠清晰，為了解決這個(gè)問題，現(xiàn)在廣泛使用的方法一般是在光學(xué)鏡片的表面上通過真空鍍膜機(jī)鍍單層氟化鎂膜，但這種單層氟化 鎂膜僅對(duì)某一特定波長(zhǎng)的光波具有較高的透過率，對(duì)其它波長(zhǎng)的光波的透過率卻較低，因此，這種光學(xué)薄膜的適用性不高，應(yīng)用范圍較窄。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本專利技術(shù)的目的是提供一種透過率在很寬的波長(zhǎng)范圍內(nèi)均較高的。為了解決上述問題，本專利技術(shù)采用的技術(shù)方案是這種，包括有清潔真空室內(nèi)所有相關(guān)器具并放入光學(xué)鏡片和加入膜料的準(zhǔn)備工作步驟；對(duì)所述真空室進(jìn)行抽真空的抽真空步驟；真空度達(dá)到要求后預(yù)熱膜料的預(yù)熱步驟和將所述膜料氣化沉積到所述光學(xué)鏡片表面的鍍膜步驟。所述鍍膜步驟有如下分步驟初鍍先將光柵左狹縫調(diào)至O. 35毫米，光柵右狹縫調(diào)至O. 8毫米，在300攝氏度的烘烤溫度下恒定15-20分鐘后，進(jìn)行初鍍，初鍍的工藝條件膜料為氧化鋁，烘烤溫度為300攝氏度，真空度為3xl0_3帕，控制波長(zhǎng)為530納米，束流為140毫安，測(cè)厚儀控制為一個(gè)極大值。中鍍中鍍的工藝條件膜料為氧化鋯，烘烤溫度為300攝氏度，真空度為7. 5xl0_3帕并且充氧，控制波長(zhǎng)為530納米，束流為100毫安，測(cè)厚儀控制為一個(gè)極大值和一個(gè)極小值。末鍍末鍍的工藝條件膜料為氟化鎂，烘烤溫度為300攝氏度，真空度為2. 5xl0_3帕，控制波長(zhǎng)為530納米，束流為30毫安，測(cè)厚儀控制為一個(gè)極小值。由于采用了上述方案，本專利技術(shù)與現(xiàn)有技術(shù)相比具有如下有益效果 I、本專利技術(shù)制備的光學(xué)薄膜的透過率較高，適用范圍較寬。2、本專利技術(shù)具有方法簡(jiǎn)單、容易實(shí)施的特點(diǎn)。具體實(shí)施例方式本具體如下 I、準(zhǔn)備工作步驟用吸塵器清潔真空室、鐘罩、擋板、器皿及夾具等，用脫脂布蘸無水乙醇和乙醚混合劑擦拭光學(xué)鏡片，在2、3、4號(hào)坩堝內(nèi)分別加入氧化鋁、氧化鋯、氟化鎂膜料，最后放入擦拭干凈的光學(xué)鏡片，更換比較片并關(guān)緊真空室門。2、抽真空步驟啟動(dòng)真空泵，開設(shè)抽真空，當(dāng)真空度低于3帕?xí)r，關(guān)低閥，開預(yù)閥并開聞閥。3、預(yù)熱步驟先開掃描，將電子槍燈絲電流調(diào)到O. 5安，預(yù)熱5分鐘后，再將掃描X電流調(diào)到O. 5安，Y電流調(diào)到O安，將電子束斑置于坩堝的中心，然后開高壓，開電子槍束流，調(diào)節(jié)束流的大小來預(yù)熱膜料。4、鍍膜步驟鍍膜步驟包括有如下分步驟 A、初鍍先將光柵左狹縫調(diào)至O.35毫米，光柵右狹縫調(diào)至O. 8毫米，在300攝氏度的烘烤溫度下恒定15—20分鐘后，進(jìn)行初鍍，初鍍的工藝條件膜料為氧化鋁，烘烤溫度為300攝氏度，真空度為3xl0_3帕，控制波長(zhǎng)為530納米，束流為140毫安，測(cè)厚儀控制為一個(gè)極大值； B、中鍍中鍍的工藝條件膜料為氧化鋯，烘烤溫度為300攝氏度，真空度為7.5xl0_3帕并且充氧，控制波長(zhǎng)為530納米，束流為100毫安，測(cè)厚儀控制為一個(gè)極大值和一個(gè)極小值； C、末鍍末鍍的工藝條件膜料為氟化鎂，烘烤溫度為300攝氏度，真空度為2.5xl0_3帕，控制波長(zhǎng)為530納米，束流為30毫安，測(cè)厚儀控制為一個(gè)極小值。鍍制完閉后，靜置一段時(shí)間，待完全冷卻后，打開真空室門取出鍍好的光學(xué)鏡片，其鍍膜層的顏色應(yīng)為淡綠色。權(quán)利要求1.一種，包括有清潔真空室內(nèi)所有相關(guān)器具并放入光學(xué)鏡片和加入膜料的準(zhǔn)備工作步驟；對(duì)所述真空室進(jìn)行抽真空的抽真空步驟；真空度達(dá)到要求后預(yù)熱膜料的預(yù)熱步驟和將所述膜料氣化沉積到所述光學(xué)鏡片表面的鍍膜步驟；其特征在于所述鍍膜步驟有如下分步驟 A、初鍍先將光柵左狹縫調(diào)至O.35毫米，光柵右狹縫調(diào)至O. 8毫米，在300攝氏度的烘烤溫度下恒定15—20分鐘后，進(jìn)行初鍍，初鍍的工藝條件膜料為氧化鋁，烘烤溫度為300攝氏度，真空度為3xl0_3帕，控制波長(zhǎng)為530納米，束流為140毫安，測(cè)厚儀控制為一個(gè)極大值； B、中鍍中鍍的工藝條件膜料為氧化鋯，烘烤溫度為300攝氏度，真空度為7.5xl0_3帕并且充氧，控制波長(zhǎng)為530納米，束流為100毫安，測(cè)厚儀控制為一個(gè)極大值和一個(gè)極小值； C、末鍍末鍍的工藝條件膜料為氟化鎂，烘烤溫度為300攝氏度，真空度為2.5xl0_3帕，控制波長(zhǎng)為530納米，束流為30毫安，測(cè)厚儀控制為一個(gè)極小值。全文摘要本專利技術(shù)公開了一種，包括有清潔真空室內(nèi)所有相關(guān)器具并放入光學(xué)鏡片和加入膜料的準(zhǔn)備工作步驟；對(duì)所述真空室進(jìn)行抽真空的抽真空步驟；真空度達(dá)到要求后預(yù)熱膜料的預(yù)熱步驟和將所述膜料氣化沉積到所述光學(xué)鏡片表面的鍍膜步驟。所述鍍膜步驟包括有在所述光學(xué)鏡片上首先鍍一層氧化鋁膜的初鍍步驟、再在所述氧化鋁膜上鍍一層氧化鋯膜的中鍍步驟和最后在所述氧化鋯膜上鍍一層氟化鎂膜的末鍍步驟。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本專利技術(shù)有效解決了目前常規(guī)鍍膜方法所鍍的增透膜的適應(yīng)性不高的問題。文檔編號(hào)C23C14/06GK102888585SQ20121041669公開日2013年1月23日 申請(qǐng)日期2012年10月28日 優(yōu)先權(quán)日2012年10月28日專利技術(shù)者王永健, 高思穎, 嚴(yán)慶華 申請(qǐng)人:梧州奧卡光學(xué)儀器有限公司本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種增透膜制備工藝方法，包括有清潔真空室內(nèi)所有相關(guān)器具并放入光學(xué)鏡片和加入膜料的準(zhǔn)備工作步驟；對(duì)所述真空室進(jìn)行抽真空的抽真空步驟；真空度達(dá)到要求后預(yù)熱膜料的預(yù)熱步驟和將所述膜料氣化沉積到所述光學(xué)鏡片表面的鍍膜步驟；其特征在于：所述鍍膜步驟有如下分步驟：A、初鍍：先將光柵左狹縫調(diào)至0.35毫米，光柵右狹縫調(diào)至0.8毫米，在300攝氏度的烘烤溫度下恒定15？？20分鐘后，進(jìn)行初鍍，初鍍的工藝條件：膜料為氧化鋁，烘烤溫度為300攝氏度，真空度為3x10？3帕，控制波長(zhǎng)為530納米，束流為140毫安，測(cè)厚儀控制為一個(gè)極大值；B、中鍍：中鍍的工藝條件：膜料為氧化鋯，烘烤溫度為300攝氏度，真空度為7.5x10？3帕并且充氧，控制波長(zhǎng)為530納米，束流為100毫安，測(cè)厚儀控制為一個(gè)極大值和一個(gè)極小值；C、末鍍：末鍍的工藝條件：膜料為氟化鎂，烘烤溫度為300攝氏度，真空度為2.5x10？3帕，控制波長(zhǎng)為530納米，束流為30毫安，測(cè)厚儀控制為一個(gè)極小值。

【技術(shù)特征摘要】

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：王永健，高思穎，嚴(yán)慶華，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：梧州奧卡光學(xué)儀器有限公司，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：