一種深紫外化學增幅型正性光致抗蝕劑制造技術

本發明專利技術公開了一種深紫外化學增幅型正性光致抗蝕劑。本發明專利技術的深紫外化學增幅型正性光致抗蝕劑包括環戊烯海松酸、二乙烯基醚、光產酸劑和有機溶劑。本發明專利技術的深紫外化學增幅型正性光致抗蝕劑具有良好的感度和良好的透明性。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及感光材料領域，尤其涉及一種深紫外化學增幅型正性光致抗蝕劑。
技術介紹
“化學增幅”的概念是80年代初IBM公司的伊藤(Ito)等人最先提出的。作為一種新型光致抗蝕劑，化學增幅抗蝕劑與原有光致抗蝕劑不同。原有光致抗蝕劑在曝光時每吸收一個光子最多發生一次交聯或分解反應，效率較低，而化學增幅抗蝕劑一般由光產酸劑(PAG,Photoacid Generator)和酸敏成膜樹脂組成,在曝光時光產酸劑分解出強酸,催化酸敏樹脂的分解或交聯，由于催化劑在反應中可以循環使用，因此效率很高。248nm光致抗蝕劑是最早應用“化學增幅”概念的抗蝕劑，一般采用聚對羥基苯乙烯的衍生物作為成膜樹 月旨，芳基碘鎗鹽或硫鎗鹽為光致產酸劑。通常要求成膜樹脂在248nm處要具有較高的透明性，聚對羥基苯乙烯及其衍生物本身在248nm處透明性較好，但是如果聚合物中含有雜質，樹脂的透明性大大降低，因此，這種光致抗蝕劑對聚對羥基苯乙烯純度的要求較高，制作工藝復雜。
技術實現思路
本專利技術的目的是提供一種具有良好的感度的深紫外化學增幅型正性光致抗蝕劑。本專利技術的深紫外化學增幅型正性光致抗蝕劑，包括環戊烯海松酸、二乙烯基醚，光產酸劑和有機溶劑，所述環戊烯海松酸的結構式如下

【技術保護點】
一種正性光致抗蝕劑，包括環戊烯海松酸、二乙烯基醚、光產酸劑和有機溶劑，所述環戊烯海松酸的結構式如下FDA00002340538500011.jpg

【技術特征摘要】
1.一種正性光致抗蝕劑，包括環戊烯海松酸、二乙烯基醚、光產酸劑和有機溶劑，所述環戊烯海松酸的結構式如下2.根據權利要求I所述的正性光致抗蝕劑，其特征在于，所述二乙烯基醚為乙二醇二乙烯基醚、丙二醇二乙烯基醚、丁二醇二乙烯基醚、二乙二醇二乙烯基醚、1，3-二乙烯氧基乙氧基苯、I-甲基-1,2-二乙烯氧基乙烷或1，7-二乙烯氧基乙氧基萘。3.根據權利要求I所述的正性光致抗蝕劑，其特征在于，所述光產酸劑選自三苯基硫鎗三氟甲磺酸鹽、S- (2-萘甲酰)甲基四氫噻吩鎗三氟甲磺酸鹽、三(4-甲基苯基)硫鎗三氟甲磺酸鹽、七氟丙烷磺酸鹽、(4-甲基苯基)二苯基三氟甲磺酸鹽、(對-叔-丁基苯基)二苯基硫鎗三氟甲磺酸鹽和三(對-叔-丁基苯基)硫鎗三氟甲磺酸鹽中的至少一種。4.根據權利要求I所述的正性光致抗蝕劑，其特征在于，所述有機溶劑選自丙酮、甲基乙基酮、環己酮、乙二醇乙醚、乙二醇一乙酸酯、二甘醇、丙二醇、丙二醇一乙酸酯、乳酸甲酯、丙二醇甲醚醋酸酯和乙二醇甲醚醋酸酯中的至少一種。5.根據權利要求1-4中任一所述的正性光致抗蝕劑，其特征在于，所述環戊烯海松酸和所述二乙烯基醚的摩爾比范圍為5:4 1:2。6.根據權利要...

【專利技術屬性】
技術研發人員：劉陸，薛建設，惠官寶，
申請(專利權)人：京東方科技集團股份有限公司，
類型：發明
國別省市：