用于保持和釋放固體材料的設(shè)備和方法技術(shù)

本發(fā)明專利技術(shù)公開了一種用于制造包括固體材料和通常基底的結(jié)構(gòu)的設(shè)備，所述設(shè)備包括第一移動的環(huán)狀表面和與其鄰近的一個或多個固定式第一（真空）氣體容器（室），這些氣體容器中的至少一個連接到第二（真空）氣體容器，其中第一容器和第二容器之間的壓力差為最小化的；以及使用此類設(shè)備的方法。

【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
【國外來華專利技術(shù)】
本專利技術(shù)涉及一種用于制造包括固體材料和通常基底的結(jié)構(gòu)的設(shè)備，所述設(shè)備包括第一移動的環(huán)狀表面和與其鄰近且與其連通的一個或多個固定式第一(真空)氣體容器(室)，這些氣體容器(室)中的至少一個連接到第二 (真空)氣體容器，其中第一容器和第二容器之間的壓力差是最小化的。本專利技術(shù)也涉及使用這種設(shè)備的方法。
技術(shù)介紹
在過去的幾十年里，已提出過各種用于制造具有纖維和/或也稱作吸收膠凝聚合物顆粒(AGM顆粒)的超吸收聚合物顆粒(SAP顆粒)的吸收芯的方法，包括如下方法，其中所述材料被鋪設(shè)在移動的表面上，諸如具有一個或多個貯存器的筒表面并且通過例如真空被保持到所述表面上。這些方法包括間接印刷方法，其中AGM和/或纖維通過筒從所述纖維和/或AGM顆粒的一個或多個大容量貯存器中獲取，并且其中筒隨后朝基底諸如非織造材料旋轉(zhuǎn)以將AGM和/或纖維釋放到基底上。筒可具有一個或多個貯存器，這些貯存器各自呈某種結(jié)構(gòu)例如吸收(尿布)芯的形狀，然后將該筒填充上纖維和/或AGM。然而，在高速下，此類完整的結(jié)構(gòu)很難以高速度完全和/或精確地轉(zhuǎn)移到第二表面諸如移動的無紡纖維網(wǎng)上。近年來，已提出過將纖維和/或AGM沉積到較小貯存器中。隨后此類眾多的較小貯存器可在一起呈尿布芯的形式，以便當所有貯存器的AGM內(nèi)容物均被轉(zhuǎn)移到第二表面比如無紡纖維網(wǎng)上時，就形成了芯。這例如描述于EP-A-1621165中。利用這種方法和設(shè)備，能夠改善固體材料的轉(zhuǎn)移；此外，這種設(shè)備和方法還可用來生產(chǎn)出如下吸收芯，所述吸收芯具有特定的輪廓或分布，諸如預定的對應于貯存器的圖案/深度的圖案、MD輪廓、CD輪廓、或厚度輪廓。AGM或纖維可通過使用筒表面下的真空抽吸而保持在筒表面上的貯存器中。AGM或纖維可通過使用重力或任選地通過使用附加的吹除空氣將固體材料吹離筒表面而從筒中移除。本專利技術(shù)人已發(fā)現(xiàn)，取決于設(shè)備和方法的特性或取決于要生產(chǎn)的結(jié)構(gòu)的要求，此類提出的(間接)印刷或轉(zhuǎn)移方法并非總是具有所期望的固體材料的(完全)轉(zhuǎn)移或完全和/或精確的釋放，例如在(超過800或超過1000個部件(例如結(jié)構(gòu)，諸如吸收芯)/分鐘)的高加工速度下，或例如當使用細小顆粒材料時，或例如當移動的表面(諸如印刷輥或筒)包括在縱向MD和橫向CD上延伸的基本區(qū)域時(所述基本區(qū)域不具有貯存器)(例如對應于通過該方法或用該設(shè)備生產(chǎn)出的吸收芯的纖維網(wǎng)的吸收芯之間的區(qū)域)。本專利技術(shù)人已發(fā)現(xiàn)，空氣流和/或真空抽吸在一些此類情況下可能會受到阻礙，或空氣流和/或真空在某些情況下可能難以控制。本專利技術(shù)人現(xiàn)已發(fā)現(xiàn)了一種新方法和新設(shè)備，它們能夠改善對固體材料的接納/轉(zhuǎn)移和/或釋放，從而更一致或更精確地將固體材料轉(zhuǎn)移或沉積到例如基底上并因此改善吸收芯的形成，所述方法和設(shè)備在使用中更具靈活性，例如以大跨度的方法或設(shè)備的設(shè)定值或特征來使用，例如甚至以高速度使用，或甚至當使用小貯存器時，或甚至當轉(zhuǎn)移細小顆粒材料時。
技術(shù)實現(xiàn)思路
本專利技術(shù)涉及一種用于生產(chǎn)包括固體材料和例如基底的結(jié)構(gòu)的設(shè)備，所述設(shè)備具有第一移動的環(huán)狀表面，所述第一移動的環(huán)狀表面用于接納和/或轉(zhuǎn)移固體材料并且用于將固體材料釋放到第二移動的表面上，所述第二移動的表面例如為基底或包括基底。-所述表面具有用于允許氣體通過的眾多開口；并且-所述設(shè)備包括氣體供應系統(tǒng)，所述氣體供應系統(tǒng)用于將氣體(例如空氣)施加到到所述第一移動的環(huán)狀表面上并穿過所述開口，以便有利于從所述表面上釋放所述固體材料，-其中所述氣體供應系統(tǒng)包括彼此連接的第一氣體容器和第二氣體容器、和連接到所述第二氣體容器的任選地第三氣體容器，所述第一氣體容器鄰近所述第一移動的環(huán)狀表面并與其氣體連通(例如但第二氣體容器不與其直接氣體連通)，并且-其中所述第一氣體容器中的壓力(P1)和所述第二氣體容器(P2)中的壓力之間的壓力差小于40%，或例如小于30%，或例如小于25%，或例如小于20%，或例如小于15% ;但所述差值超過0%，例如至少O. 1%或至少1%。所述第一氣體容器中的壓力(P1)和所述第二氣體容器中的壓力(P2)通常均為至少 IkPa0所述壓縮氣體(例如空氣)穿過所述第一移動的環(huán)狀表面的開口例如其貯存器的開口，以將氣體(空氣)壓力施加到固體材料(例如所述貯存器中)上，以幫助將其從所述第一移動的環(huán)狀表面上例如從所述貯存器上釋放。(這在本文中可稱作吹除空氣/吹除方法步驟)。隨后將固體材料從一個或多個貯存器中釋放到例如第二移動的環(huán)狀表面上，所述第二移動的環(huán)狀表面例如為基底或包括基底，并且將材料精確地沉積在例如第二移動的環(huán)狀表面上。 1和己在本文的一些實施方案中在5砂&至15砂&的范圍內(nèi)。在某個實施方案中，所述第二氣體容器向所述第一氣體容器提供平均空氣體積流量，其中體積流速為至少300Nl/min，優(yōu)選地至少400Nl/min。本專利技術(shù)也提供了一種用于生產(chǎn)包括固體材料和通常基底的結(jié)構(gòu)的設(shè)備，所述設(shè)備具有第一移動的環(huán)狀表面，所述第一移動的環(huán)狀表面用于接納和/或轉(zhuǎn)移固體材料，例如將其轉(zhuǎn)移至釋放區(qū)域，-所述表面具有用于允許氣體(例如空氣)通過的眾多開口；并且-所述設(shè)備包括真空系統(tǒng)，所述真空系統(tǒng)用于通過所述表面的所述開口施加真空抽吸，以便有利于將所述固體材料保持在所述表面上，-其中所述真空系統(tǒng)包括彼此連接的第一真空氣體容器和第二真空氣體容器、和連接到所述第二真空氣體容器的任選地第三真空氣體容器，所述第一真空氣體容器鄰近所述第一移動的環(huán)狀表面，(并且例如與其氣體連通，但第二真空氣體容器不直接與其氣體連通)，-其中所述第一氣體容器中的壓力(Plv)和所述第二氣體容器中的壓力(P2v)之間的壓力差小于40%，或例如小于40%，或例如小于30%或例如小于25%或例如小于20%或例如小于15%，但超過0% ;但所述差值超過0%，例如至少O. 1%或至少1%。所述第一真空氣體容器中的壓力(Plv)和所述第二真空氣體容器中的壓力(P2v)通常均為-IkPa或更小。在某個實施方案中，所述第一氣體容器或第一真空氣體容器具有小于2. O升，或例如小于I. O升的體積％。第二氣體容器或第二真空氣體容器通常具有大于V1的體積v2。在一些實施方案中，V2為例如至少I. 3升，或例如至少2. 7升，或例如至少3. O升或例如至少3. 4升；以及例如任選地至多15升。本文的設(shè)備也可具有所述一個或多個第一氣體容器和一個或多個第二氣體容器和真空系統(tǒng)的組合，例如包括上述和下述的所述一個或多個第一真空氣體容器和一個或多個第二真空氣體容器。通常，所述第一移動的環(huán)狀表面為可圍繞圓柱形定子轉(zhuǎn)動的圓柱形表面，并且一個或多個所述第一氣體容器和/或一個或多個所述第一真空氣體容器為所述定子內(nèi)的一個或多個室(但一個或多個第二氣體容器和/或一個或多個第二真空氣體容器不是)。第一氣體容器可連接到兩個或更多個第二氣體容器。第一真空氣體容器可連接到兩個或更多個第二氣體容器。附圖概述圖I示出了本專利技術(shù)的示例性設(shè)備I的透視圖，所述設(shè)備具有連接到第一氣體容器的第二氣體容器。圖2示出了本專利技術(shù)的示例性設(shè)備I的透視圖，所述設(shè)備具有各自連接到第二氣體容器的第一氣體容器并且具有各自連接到第二真空氣體容器的第一真空氣體容器。圖3示出了本專利技術(shù)的設(shè)備I的橫截面局部視圖，示出了第一氣體容器和第二氣體容器。圖4本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護點】

【技術(shù)特征摘要】
【國外來華專利技術(shù)】2010.06.09 EP 10165348.31.一種用于制造包括固體材料和基底的結(jié)構(gòu)的設(shè)備，所述設(shè)備具有第一移動的環(huán)狀表面，所述第一移動的環(huán)狀表面用于接納和/或轉(zhuǎn)移固體材料并且用于將所述固體材料釋放到第二移動的表面上，-所述表面具有用于允許氣體通過的眾多開口 ；并且_所述設(shè)備包括氣體供應系統(tǒng)，所述氣體供應系統(tǒng)用于將氣體施加到所述第一移動的環(huán)狀表面并穿過所述開口，以便有利于從所述表面上釋放所述固體材料，-其中所述氣體供應系統(tǒng)包括第一氣體容器和連接到所述第一氣體容器的至少一個第二氣體容器、和連接到第二氣體容器的任選地第三氣體容器，所述第一氣體容器鄰近所述第一移動的環(huán)狀表面并與其氣體連通；并且-其中所述第一氣體容器中的壓力(P1)和所述第二氣體容器中的壓力(P2)之間的壓力差超過0%且小于40% ;并且其中優(yōu)選地，所述第一氣體容器中的壓力(P1)和所述第二氣體容器中的壓力(P2)均為至少IkPa02.一種制造包括固體材料和基底的結(jié)構(gòu)的設(shè)備，所述設(shè)備具有用于接納和/或轉(zhuǎn)移固體材料的第一移動的環(huán)狀表面，-所述表面具有用于允許氣體通過的眾多開口 ；并且-所述設(shè)備包括真空系統(tǒng)，所述真空系統(tǒng)用于通過所述表面的所述開口施加真空抽吸， 以便有利于將所述固體材料保持在所述表面上，_其中所述真空系統(tǒng)包括第一真空氣體容器和連接到所述第一真空氣體容器的一個或多個第二真空氣體容器、和連接到第二真空氣體容器的任選地第三真空氣體容器，所述第一真空氣體容器鄰近所述第一移動的環(huán)狀表面并與其氣體連通；-其中所述第一真空氣體容器中的壓力(Plv)和所述第二真空氣體容器中的壓力(P2v) 之間的差值超過0%且小于40% ;并且其中優(yōu)選地，所述第一真空氣體容器中的壓力(Plv)和所述第二真空氣體容器中的壓力(P2v)優(yōu)選地均為-IkPa或更小。3.如權(quán)利要求I所述的設(shè)備，所述設(shè)備包括固體材料接納區(qū)域A和/或固體材料轉(zhuǎn)移 B，所述設(shè)備包括真空系統(tǒng)，所述真空系統(tǒng)用于通過所述表面的所述開口施加真空抽吸，以便有利于將所述固體材料保持在所述表面上，其中所述真空系統(tǒng)包括第一真空氣體容器和連接到所述第一真空氣體容器的任選地一個或多個第二真空氣體容器、以及連接到第二真空氣體容器的任選地第三真空氣體容器，并且所述第一真空氣體容器鄰近所述第一移動的環(huán)狀表面并與其氣體連通，并且其中所述第一真空氣體容器中的壓力(Plv)和所述任選的第二真空氣體容器中的壓力(P2v)之間的壓力差超過0%且小于...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：H亨多爾夫，P奧斯特勒，
申請(專利權(quán))人：寶潔公司，
類型：
國別省市：