具有掩模交接保護功能的掩模臺、方法及光刻設(shè)備技術(shù)

本發(fā)明專利技術(shù)公開一種具有掩模交接保護功能的掩模臺，設(shè)置在一基臺上，包括：運動臺，承載掩模；驅(qū)動機構(gòu)，驅(qū)動運動臺相對基臺運動；一掩模交接保護模塊，包括固定在基臺上的固定裝置以及固定連接承片臺的定位裝置，所述固定裝置設(shè)有一可動的鎖緊部，該鎖緊部連接所述定位裝置時固定所述承片臺。本發(fā)明專利技術(shù)同時公開一種使用該具有交接保護功能的掩模臺的方法及一種光刻設(shè)備。

【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

本專利技術(shù)涉及一種集成電路裝備制造領(lǐng)域，尤其涉及一種具有掩模交接保護功能的掩模臺、方法及光刻設(shè)備。
技術(shù)介紹
現(xiàn)有技術(shù)中的光刻裝置，主要用于集成電路IC或其它微型器件的制造。通過光刻裝置將具有不同掩模圖案的多層掩模在精確對準下依次成像在涂覆有光刻膠的晶片上，例如半導(dǎo)體晶片或LCD板。光刻裝置大體上分為兩類，一類是步進光刻裝置，掩模圖案一次曝光成像在晶片的一個曝光區(qū)域，隨后晶片相對于掩模移動，將下一個曝光區(qū)域移動到掩模圖案和投影物鏡下方，再一次將掩模圖案曝光在晶片的另一曝光區(qū)域，重復(fù)這一過程直到晶片上所有曝光區(qū)域都擁有掩模圖案的像。另一類是步進掃描光刻裝置，在上述過程中，掩模圖案不是一次曝光成像，而是通過投影光場的掃描移動成像。在掩模圖案成像過程中，掩模與晶片同時相對于投影系統(tǒng)和投影光束移動。在上述的光刻設(shè)備中，需具有相應(yīng)的裝置作為掩模版和硅片的載體，裝載有掩模版/硅片的載體產(chǎn)生精確的相互運動來滿足光刻需要。上述掩模版的載體被稱之為承版臺，硅片/基板的載體被稱之為承片臺。承版臺和承片臺分別位于光刻裝置的掩模臺分系統(tǒng)和工件臺分系統(tǒng)中，為上述分系統(tǒng)的核心模塊。在掃描光刻裝置中，掩模臺一般通過微動臺和粗動臺構(gòu)成，微動臺完成掩模版的精密微調(diào)，粗動臺完成掩模版的大行程掃描曝光運動。隨著業(yè)內(nèi)對于產(chǎn)率的不斷追求，掩模臺的定位精度、掃描運動速度和加速度需求不斷提高，在掩模臺的設(shè)計中，對于高速運動的掩模版，其保護裝置也尤為重要，尤其是在掩模交接時，更需要提高掩模版的保護要求。在專利EP772800B1中，提出一種掩模臺結(jié)構(gòu)，如圖1所示。通過將三組線圈以不同的布局構(gòu)成具有平面電機，構(gòu)成微動臺，并可以取消水平向?qū)蜓b置，很好的解決了粗動臺堆微動臺擾動的問題，但該掩模臺并沒有掩模交接保護，對于掩模交接時掩模版的安全并沒有考慮。在專利US6741332中，提出另一種掩模臺結(jié)構(gòu)，如圖2所示。三組音圈電機構(gòu)成水平向微動裝置，并通過一種柔性結(jié)構(gòu)解決微動臺與粗動臺之間的耦合問題，并通過平衡質(zhì)量塊降低了粗動臺對微動臺的擾動。但同樣該專利也沒有考慮掩模交接時掩模版的安全問題。有鑒于此，現(xiàn)有技術(shù)中亟需要一種掩模臺結(jié)構(gòu)，能有效解決掩模交接時掩模版的安全問題。
技術(shù)實現(xiàn)思路
為了克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷，本專利技術(shù)提供一種具有掩模交接保護功能的掩模臺，能有效解決掩模交接時掩模版的安全問題。為了實現(xiàn)上述專利技術(shù)目的，本專利技術(shù)公開一種具有掩模交接保護功能的掩模臺，設(shè)置在一基臺上，包括運動臺，承載掩模；驅(qū)動機構(gòu)，驅(qū)動運動臺相對基臺運動；一掩模交接保護模塊，包括固定在基臺上的固定裝置以及固定連接承片臺的定位裝置，所述固定裝置設(shè)有一可動的鎖緊部，該鎖緊部連接所述定位裝置時固定所述承片臺。更進一步地,所述運動臺包括相對基臺運動的粗動臺和相對粗動臺運動的微動臺，所述掩模交接保護模塊的定位裝置固定于粗動臺上。所述驅(qū)動機構(gòu)包括驅(qū)動粗動臺沿Y向運動的第一運動裝置和驅(qū)動微動臺沿X、Y、RZ向運動的第二運動裝置。所述第一運動裝置為提供Y向直線運動的直線電機，所述第二運動裝置為提供X、Y、RZ向運動的X向電機和Y向電機。所述固定裝置上的鎖緊部為一定位銷。所述固定裝置通過一直線運動機構(gòu)控制定位銷的伸縮運動。所述直線運動機構(gòu)為直線電機。所述定位裝置為一包含一定位孔的保護板，該定位孔與所述固定裝置的鎖緊部相配合。本專利技術(shù)同時公開一種使用具有掩模交接保護功能的掩模臺的方法，包括使第二運動裝置運動至掩模交接位置；開啟所述掩模交接保護模塊，使所述固定裝置與所述定位裝置連接；完成掩模版上版或下版；關(guān)閉所述掩模交接保護模塊，使所述固定裝置與所述定位裝置分離。本專利技術(shù)還公開一種光刻設(shè)備，包括一照明單元，用于提供曝光光束；一掩模臺，用于支撐一掩模；一工件臺，用于支撐一基底并提供六自由度運動；一投影物鏡，用于將掩模上圖形按一定比例投射至基底；該掩模臺的結(jié)構(gòu)如前所述。與現(xiàn)有技術(shù)相比較，本專利技術(shù)所提供的具有掩模交接保護功能的掩模臺、方法及光刻設(shè)備，能有效保護掩模臺在完成掩模版交接過程中不對掩模版產(chǎn)生損傷。避免了價值昂貴的掩模板因機械的或人為的失誤而造成損害。并且該具有掩模交接保護功能的掩模臺結(jié)構(gòu)簡潔，工程成本較低。附圖說明關(guān)于本專利技術(shù)的優(yōu)點與精神可以通過以下的專利技術(shù)詳述及所附圖式得到進一步的了解。圖1是現(xiàn)有技術(shù)中的一種掩模臺結(jié)構(gòu)； 圖2是現(xiàn)有技術(shù)中另一種掩模臺結(jié)構(gòu)； 圖3是本專利技術(shù)所示出的光刻設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意 圖4是本專利技術(shù)所示出具有掩模交接保護功能的掩模臺的結(jié)構(gòu)示意 圖5是本專利技術(shù)所示出具有掩模交接保護功能的掩模臺的側(cè)視 圖6是本專利技術(shù)所示出具有掩模交接保護功能的掩模臺的工作流程圖。具體實施例方式下面結(jié)合附圖詳細說明本專利技術(shù)的一種具體實施例的具有掩模交接保護功能的掩模臺、使用該具有掩模交接保護功能的方法及光刻設(shè)備。然而，應(yīng)當將本專利技術(shù)理解成并不局限于以下描述的這種實施方式，并且本專利技術(shù)的技術(shù)理念可以與其他公知技術(shù)或功能與那些公知技術(shù)相同的其他技術(shù)組合實施。在以下描述中，為了清楚展示本專利技術(shù)的結(jié)構(gòu)及工作方式，將借助諸多方向性詞語進行描述，但是應(yīng)當將“前”、“后”、“左”、“右”、“外”、“內(nèi)”、“向外”、“向內(nèi)”、“上”、“下”等詞語理解為方便用語，而不應(yīng)當理解為限定性詞語。此外，在以下描述中所使用的“Y方向”一詞主要指與水平向平行的方向，“X方向”一詞主要指與水平向平行的且與Y方向垂直的方向。如圖4中所示，圖4是本專利技術(shù)所示出具有掩模交接保護功能的掩模臺的結(jié)構(gòu)示意圖。掩模交接保護功能指的是在掩模版被放置于掩模臺或從掩模臺上被取出時，有效保護掩模版的功能。圖4為本專利技術(shù)的掩模臺結(jié)構(gòu)示意圖，該具有模交接保護功能的掩模臺的組成主要包括微動臺201、微動電機202、粗動電機203、粗動臺204、掩模交接保護裝置205。微動電機202安裝于微動臺201上，完成掩模版R的精密微調(diào)，粗動電機204安裝于粗動臺上，作為粗動臺的驅(qū)動裝置，驅(qū)動微動臺201和粗動臺204沿Y向完成大行程掃描運動。掩模交接保護裝置205安裝于粗動臺204側(cè)面，完成掩模交接時的掩模保護功能。當掩模交接過程中，即掩模版在上片或下片過程中通過驅(qū)動掩模交接保護裝置，將定位銷插入到定位孔中從而鎖住粗動臺，防止掩模臺在掩模交接時，掩模版由于粗動電機出現(xiàn)意外而發(fā)生損傷。當粗動臺不需鎖定時，直線運動機構(gòu)將定位銷退回，粗動臺的運動不受限制。從而在結(jié)構(gòu)設(shè)計和工作流程上增加了對掩模版的保護。以下對圖4中所示的具有掩模交接保護功能的掩模臺的說明請同時參考圖5，圖5是本專利技術(shù)所示出具有掩模交接保護功能的掩模臺的側(cè)視圖。該掩模交接保護裝置205包括保護板301、定位孔302、定位銷304、直線運動機構(gòu)303。保護板301固定在粗動臺204上，直線運動機構(gòu)303驅(qū)動定位銷304沿X向進行直線運動。當微動臺201運動到交接位進行掩模交接時，通過驅(qū)動直線運動機構(gòu)303，將定位銷304插入定位孔302中，鎖住粗動臺204，保證了交接時掩模版的安全。當粗動臺204不需鎖定時，直線運動機構(gòu)303將定位銷304退回，粗動臺204的運動不受限制。圖3是具有該掩模交接保護功能的掩模臺的光刻裝置。圖3中示出的是光刻裝置中典型的掃描光刻裝置。該掃描光刻機的核心部件包括照明101 ；掩模臺102 ;投影物鏡10本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護點】
一種具有掩模交接保護功能的掩模臺，設(shè)置在一基臺上，其特征在于，包括：運動臺，承載掩模；驅(qū)動機構(gòu)，驅(qū)動運動臺相對基臺運動；一掩模交接保護模塊，包括固定在基臺上的固定裝置以及固定連接承片臺的定位裝置，所述固定裝置設(shè)有一可動的鎖緊部，該鎖緊部連接所述定位裝置時固定所述承片臺。

【技術(shù)特征摘要】
1.一種具有掩模交接保護功能的掩模臺，設(shè)置在一基臺上，其特征在于，包括 運動臺，承載掩模； 驅(qū)動機構(gòu)，驅(qū)動運動臺相對基臺運動； 一掩模交接保護模塊，包括固定在基臺上的固定裝置以及固定連接承片臺的定位裝置，所述固定裝置設(shè)有一可動的鎖緊部，該鎖緊部連接所述定位裝置時固定所述承片臺。2.如權(quán)利要求1所述的的掩模臺，其特征在于，所述運動臺包括相對基臺運動的粗動臺和相對粗動臺運動的微動臺，所述掩模交接保護模塊的定位裝置固定于粗動臺上。3.如權(quán)利要求2所述的的掩模臺，其特征在于，所述驅(qū)動機構(gòu)包括驅(qū)動粗動臺沿Y向運動的第一運動裝置和驅(qū)動微動臺沿X、Y、RZ向運動的第二運動裝置。4.如權(quán)利要求3所述的的掩模臺，其特征在于，所述第一運動裝置為提供Y向直線運動的直線電機，所述第二運動裝置為提供X、Y、RZ向運動的X向電機和Y向電機。5.如權(quán)利要求1所述的的掩模臺，其特征在于，所述固定裝置上的鎖緊部為一定位...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：江旭初，李生強，董俊清，徐濤，
申請(專利權(quán))人：上海微電子裝備有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：