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    硬X射線微聚焦高級次多層膜Laue透鏡制造技術(shù)

    技術(shù)編號:8534327 閱讀:224 留言:0更新日期:2013-04-04 18:20
    本發(fā)明專利技術(shù)涉及硬X射線微聚焦高級次多層膜Laue透鏡,通過改變組成多層膜Laue透鏡局部光柵的2種材料的厚度比(γ=dA/(dA+dB),A為吸收層,B為間隔層),選擇合適的截面深度t,極大的提高高級次衍射的效率,從而有效的利用高級次衍射光,進一步提高硬X射線的聚焦分辨率。與傳統(tǒng)的多層膜Laue透鏡相比,本發(fā)明專利技術(shù)提出利用Laue透鏡的高級次衍射對硬X射線進行聚焦,并通過改變Laue透鏡結(jié)構(gòu)中不同材料的厚度比,克服了傳統(tǒng)波帶片高級次衍射效率低下的問題,是實現(xiàn)高效率納米級硬X射線聚焦的有效方法。

    【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
    硬X射線微聚焦高級次多層膜Laue透鏡
    本專利技術(shù)屬于精密光學元件研究領(lǐng)域,尤其是涉及一種硬X射線微聚焦高級次多層 膜Laue透鏡。
    技術(shù)介紹
    硬X射線的能量高、穿透深度大,能激發(fā)高原子序數(shù)材料的內(nèi)殼層電子以實現(xiàn)重 元素含量和分布的鑒定,并可實現(xiàn)更厚樣品的無損深度檢測。因此,硬X射線顯微術(shù)已經(jīng)成 為目前國際上三代同步輻射實驗室的研究熱點,硬X射線熒光、3維層析技術(shù)以及X射線相 襯和衍射分析技術(shù)已在生命、材料、和環(huán)境科學領(lǐng)域獲得重要應(yīng)用。X射線顯微的空間分辨 率是利用顯微分析技術(shù)獲得物質(zhì)及其演化過程的精細微觀物理和化學結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵技術(shù)指 標。近年來,隨著同步輻射光源和X射線聚焦元件的發(fā)展,國際上X射線顯微分析的分辨率 已推進到IOOnm以下。由于在X射線波段,所有材料的折射率都接近于1,傳統(tǒng)的折射透鏡 無法實現(xiàn)X射線聚焦。波帶片是X射線波段常用的微聚焦元件之一,其分辨率決定于最外 環(huán)的寬度。基于菲涅爾波帶片的X射線顯微鏡已在軟X射線波段獲得了 12nm的成像分辨 率。但在硬X射線波段,理想波帶片的高寬比(深度/最外層寬度)要做到幾百甚至上千, 刻蝕的方法難以完成。這大大限制了高分辨率的硬X射線微聚焦波帶片的制作和使用。為從根本上克服大高寬比的限制,美國Argonne國家實驗室在2004年提出一種新 型的一維多層膜波帶片,多層膜Laue透鏡(MLL)。通過在平面基底上從最外層開始倒序鍍 制梯度多層膜結(jié)構(gòu),再進行切片減薄,獲得一維波帶片結(jié)構(gòu)。2個MLL相互垂直拼接,可實現(xiàn) X射線的二維聚焦。這種方法既可以獲得非常大的高寬比,又保證了多層膜波帶片膜層的精 確位置和成膜質(zhì)量,極大的提高了硬X射線波帶片的聚焦效率和分辨率。2008年,Argonne 實驗室利用WSi2/Si材料對制作的MLL利用I級次衍射在19. 5keV處實現(xiàn)了 16nm的線聚 焦。多層膜Laue透鏡的優(yōu)越性能使其成為目前國際X射線顯微領(lǐng)域的研究熱點2008年, 日本兵庫縣大學利用MoSi2/Si制作的MLL在20keV處實現(xiàn)了 28. 2nm的線聚焦;2010年德 國哥廷根大學利用脈沖激光沉積和聚焦離子束技術(shù)制備了 MLL并進行了一維拼接實驗。多 層膜Laue透鏡已成為將硬X射線顯微成像分辨率推進到IOnm以下最有希望的方法之一。
    技術(shù)實現(xiàn)思路
    本專利技術(shù)的目的就是為了克服上述現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷而提供一種硬X射線微聚 焦高級次多層膜Laue透鏡,利用高級次衍射,進一步提高硬X射線顯微聚焦的分辨率。本 專利技術(shù)的核心是采用具有高分辨率特性的高級次衍射對硬X射線進行聚焦。同時針對目標衍 射級次,通過優(yōu)化多層膜結(jié)構(gòu)中材料的厚度比,并選擇合適的截面深度,使入射能量在不同 級次間重新分配,極大的提高高級次衍射的效率,克服了傳統(tǒng)波帶片高級次衍射效率低下 的問題。為最終實現(xiàn)高效率的納米級硬X射線聚焦提供新的方法。本專利技術(shù)的目的可以通過以下技術(shù)方案來實現(xiàn)硬X射線微聚焦高級次多層膜Laue透鏡,其特征在于,該Laue透鏡由吸收層和間隔層周期性構(gòu)成,其中所述吸收層的材料是局部光柵中的高原子序數(shù)材料A,間隔層材料是低原子序數(shù)材料B。多層膜Laue透鏡具有截面深度t,t為垂直于薄膜生長方向的元件長度。該多層I旲Laue透鏡具有厚度比Y = dA/ (dA+dB),dA是吸收層的厚度,dB是間隔層的厚度,厚度比的確定包括以下步驟(I)根據(jù)實驗應(yīng)用時所需的能段、工作距離和聚焦成像的分辨率要求,選擇多層膜 Laue透鏡的工作波長λ、1級次聚焦的焦距f和最外層的光柵周期Drrat ;(2)采用wedged結(jié)構(gòu)的高級次多層膜Laue透鏡在入射面(深度t = O)處,膜層位置由公式⑴確定本文檔來自技高網(wǎng)
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    【技術(shù)保護點】
    硬X射線微聚焦高級次多層膜Laue透鏡,其特征在于,該Laue透鏡由吸收層和間隔層周期性構(gòu)成,其中所述吸收層的材料是局部光柵中的高原子序數(shù)材料A,間隔層材料是低原子序數(shù)材料B。

    【技術(shù)特征摘要】
    1.硬X射線微聚焦高級次多層膜Laue透鏡,其特征在于,該Laue透鏡由吸收層和間隔層周期性構(gòu)成,其中所述吸收層的材料是局部光柵中的高原子序數(shù)材料A,間隔層材料是低原子序數(shù)材料B。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硬X射線微聚焦高級次多層膜Laue透鏡,其特征在于,多層膜Laue透鏡具有截面深度t,t為垂直于薄膜生長方向的元件長度。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硬X射線微聚焦高級次多層膜Laue透鏡,其特征在于,該多層月旲Laue透鏡具有厚度比Y = dA/(dA+dB),dA是吸收層的厚度,dB是間隔層的厚度,厚度比的確定包括以下步驟 (1)根據(jù)實驗應(yīng)用時所需的能段、工作距離和聚焦成像的分辨率要求,選擇多層膜Laue透鏡的工作波長/、1級次聚焦的焦距f和最外層的光柵...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:黃秋實,朱京濤,李浩川,王占山
    申請(專利權(quán))人:同濟大學,
    類型:發(fā)明
    國別省市:

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