本發明專利技術涉及一種用于在掘土裝置中使用的齒系統（1），該齒系統包括齒（4）和適配器（3），齒可安裝到適配器上。齒（4）包括齒連結板（11）、齒底座（10）和位于距齒底座（10）一距離處的齒頭（12）。適配器（3）包括適配器底座（30），適配器底座待固定到掘土裝置上，適配器底座與適配器頭之間限定有底切腔，其中齒底座能夠滑動地裝配到底切腔內。適配器包括第一區和第二區，所述適配器的第一區和第二區分別面向齒的第一區以及第二區。齒和適配器構造和設置成使得，在第一使用期中，適配器的第一區和齒的第一區是接觸區，并且適配器的第二區和齒的第二區是間隙區，并且在第二使用期中，在第一接觸區磨損之后，第二區是接觸區。
【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】齒系統 本專利技術涉及一種用于在諸如疏浚(dredging)或挖掘裝置的掘土 (運土，earthmoving)裝置中使用的齒系統，其包括齒和適配器，其中齒以可拆卸方式安裝在該適配器上，齒包括縱向延伸的齒連結板(tooth web)、縱向延伸的齒底座和位于距齒底座一距離處的縱向延伸的齒頭，所述齒底座和齒頭還相對于所述齒連結板基本上橫向地延伸，所述適配器包括適配器底座和適配器頭，所述適配器底座待固定到所述掘土裝置上，諸如待固定到耙頭的齒桿上，所述適配器底座與所述適配器頭之間限定有縱向延伸的底切腔，其中所述齒底座能夠滑動地裝配在底切腔內，并且其中，所述適配器頭能夠滑動地裝配在所述齒底座與所述齒頭之間以用于所述齒相對于所述適配器的前端的安裝和拆卸。在歐洲專利公開EP1997967A1中公開了這種齒系統。該公開揭露了這樣的齒系統，其中，適配器和齒設置有至少一對相應形狀的面對的接觸區，接觸區具有階梯狀構型。相對于適配器，面對的接觸區的階梯布置表示用于齒的穩定支撐。階梯式接觸區表示用于支撐齒的單獨區域，適用于承受施加在齒上的力和彎矩。這種齒系統以及類似已有技術的齒系統的缺點是，齒和/或適配器的壽命由于接觸區的磨損而受限。最初，齒緊貼地安裝到適配器的腔中。然而，由于部件的制造公差和接觸區中的磨損，在齒和適配器的接觸表面之間的間隙量可能是最初就存在和/或最終會出現。間隙量會隨時間增加。這樣不斷增加的間隙量可導致適配器和/或齒的接觸區的甚至更多的磨損。在相對短的使用期內，齒和/或適配器需要維修或甚至更換。尤其是在這些情況下，即，其中齒系統在潛入水中的條件下使用(例如，當齒系統用在諸如疏浚裝置的掘土裝置中時)，適配器的壽命短、以及尤其齒可導致相當多的停機時間和相當大的關聯操作費用。本專利技術的一個目的是提供改進的齒系統，其中現有技術的上述缺點和/或其他缺點已被減少或者甚至被排除。本專利技術的另一個目的是提供具有延長壽命的齒系統。上述目的中的至少一個目的在根據權利要求的前序部分所述的用于在掘土裝置中使用的齒系統中實現，其中，適配器包括至少一個第一區和至少一個第二區，所述至少一個第一區面對齒的至少一個對應形狀的第一區，所述至少一個第二區面對齒的至少一個對應形狀的第二區，其中，齒和適配器被構造和設置成使得，在第一使用期中，適配器和齒的第一區為接觸區，并且適配器和齒的第二區為間隙區，并且在第二使用期內，在第一接觸區磨損之后，適配器和齒的第二區為接觸區。由于齒和適配器的這種構型，第二區一旦在第二使用期中成為接觸區，則第二區就能夠至少部分地接替第一區的支撐功能。這會使得第一區更少地受到磨損。在由于磨損影響需要對該系統進行維修(如更換齒)之前，該系統可使用更長的周期。因此，該系統的壽命可以延長。根據本專利技術的齒系統的另一個優點可以是，一般可選擇用于在適配器中適當支撐齒而所需的尺寸公差比已有齒系統中的尺寸公差大。換句話說，與在已有齒系統中的要求相比，關于齒和/或適配器的制造過程的精確度的要求不那么嚴格。例如，在本專利技術的實施例中，可以簡化或不再需要一些制造步驟(例如接觸表面的拋光)。此外，在本專利技術的實施例中，適配器和/或齒可因此使用成本相對低的生產過程進行生產。在實施例中，所述第一區具有第一接觸表面面積，并且所述第二區具有第二接觸表面面積，其中所述第二接觸表面面積大于所述第一接觸表面面積。第二接觸表面面積可以至少是第一接觸表面面積的兩倍。這提供了如下優點，即，齒系統的壽命顯著增加。在實施例中，所述適配器和齒的所述第一區和所述第二區至少部分地設置成一個在另一個上方。這提供了如下優點，即，可以在相對小的體積中形成相對大的接觸表面面積。在本專利技術的實施例中，所述適配器和齒構造和布置成，在所述第二使用期中，所述適配器和齒的第一區由于磨損變為間隙區。在本專利技術的實施例中，適配器和齒構造和設置成使得，在所述第二使用期中，所述適配器和齒的第一區仍然為接觸區。這意味著第二區可接替第一區的部分支撐功能，使得作用于齒和適配器上的力可以分布在較大面積上，從而具有較長壽命。此外，由于最初只有第一區是接觸區而第二區是間隙區，相對于從一開始第一區和第二區兩者都需要是接觸區的實施例來說，制造過程的精確度可以是低的。在本專利技術的實施例中，所述第一區布置在所述齒和所述適配器的上部中，并且所述第二區布置在所述齒和所述適配器的下部中。在該實施例中，在齒和適配器的上部中的區域一般將是首先需要維修的區域。一般地，與齒以及尤其是適配器的其他部件相比，齒和/或適配器的上部區域可以更容易地被接近(夠到，access).在實施例中，所述第一區包括所述齒頭的面向下的至少一個表面以及所述適配器頭的面向上的至少一個表面。在本專利技術的實施例中，所述第二區包括所述適配器底座的面向上的至少一個表面和所述齒底座的面向下的至少一個表面。在實施例中，齒頭包括在齒連結板的相對側上橫向延伸的齒頭凸緣；齒底座包括在齒連結板的相對側上橫向延伸的齒底座凸緣，并且齒頭凸緣和齒底座凸緣的第一區和第二區之間的距離基本上對應于底切腔的底表面與適配器的頂表面之間的距離。因此，齒可以由適配器牢固地支撐。在齒系統的實施例中，所述齒的第一區與第二區之間的第一距離基本上不同于所述適配器的第一區和第二區之間的第二距離。第一距離和第二距離是以基本上垂直于第一區和第二區的方向測量的。術語“基本上不同”是用來表明可以存在0.1-5_的差異。第一距離可以大于第二距離，或者反之亦然。在實施例中，所述適配器頭包括相對的橫向適配器凸緣，所述適配器凸緣在所述適配器凸緣的面對的邊緣處限定狹縫，并且所述適配器凸緣限定所述底切腔，所述齒的連結板延伸通過該狹縫且所述齒頭面對所述適配器凸緣。齒底座可包括在齒連結板的相對兩上延伸的齒底座凸緣，每個齒底座凸緣面向對應的適配器凸緣。在實施例中，所述齒包括前蓋，所述前蓋相對于所述齒頭和所述齒底座橫向地延伸，并且所述前蓋在使用中面對所述適配器的所述前端。優選地，齒的前蓋與適配器的前端毗連，以便避免齒相對于適配器被卡緊，該卡緊將阻礙齒的更換。齒頭和前蓋可以相互連接，例如以銳角方式相互連接。相互連接的齒頭和前蓋的組合影響為適配器的區域提供了有利的屏蔽，否則其便容易受挖掘(或疏浚)材料的磨損影響。此外，相互連接的齒頭和前蓋相對于對應形狀的適配器提供了附加的穩定作用，其前部由組合的齒頭和前蓋緊貼地圍繞。在本專利技術的實施例中，設置有鎖定結構，所述鎖定結構包括位于所述適配器的所述底切腔的端部處的鎖定構件、以及位于所述齒連結板處的面向所述鎖定構件的鎖定部。鎖定構件和前蓋可以設在適配器的相對端處。在實施例中，所述適配器的所述底切腔從相對寬的前端向相對窄的后端逐漸變細，所述齒的所述底座構件具有實質上相似的逐漸變細的形狀。根據本專利技術的另一方面，提供一種根據權利要求1的前序部分的齒系統，其中在適配器區與齒區之間設置有至少一個耐磨部件(例如防磨板)。耐磨部件可以松馳地設置在適配器的腔的底部與齒的下部之間，或者松馳地設置在齒的前蓋的后側與適配器的前端之間，或者松馳地設置在齒頭與適配器頭之間，這使得(當需要時)很容易地用新的耐磨部件替換該部件。在其他實施例中，耐磨部件安裝到適配器，例如使用螺栓安裝。耐磨部件可以在各區域的整個長度和寬度上延伸，而非由適配器或齒本文檔來自技高網...
【技術保護點】
【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】2010.05.26 NL 20047711.一種用于在掘土裝置中使用的齒系統，所述掘土裝置諸如疏浚裝置或挖掘裝置，所述齒系統包括齒和適配器，所述齒以能拆卸的方式安裝到所述適配器上， -所述齒包括縱向延伸的齒連結板、縱向延伸的齒底座以及位于距齒底座一距離處的縱向延伸的齒頭，所述齒底座和齒頭還相對于所述齒連結板基本上橫向地延伸， -所述適配器包括適配器底座和適配器頭，所述適配器底座待固定到所述掘土裝置上，諸如待固定到耙頭的齒桿上，所述適配器底座與所述適配器頭之間限定有縱向延伸的底切腔，其中所述齒底座能夠滑動地裝配在底切腔內，并且其中，所述適配器頭能夠滑動地裝配在所述齒底座與所述齒頭之間以用于所述齒相對于所述適配器的前端的安裝和拆卸，所述適配器包括至少一個第一區，所述至少一個第一區面向所述齒的至少一個對應形狀的第一區，并且所述適配器包括至少一個第二區，所述至少一個第二區面向所述齒的至少一個對應形狀的第二區，其中，所述齒和所適配器構造和布置成使得，在第一使用期中，所述適配器的所述第一區和所述齒的所述第一區是接觸區，并且所述適配器的所述第二區和所述齒的所述第二區是間隙區，并且在第二使用期中，在所述第一接觸區磨損之后，所述適配器的所述第二區和所述齒的所述第二區是接觸區。2.根據權利要求1所述的齒系統，其中，所述第一區具有第一接觸表面面積，并且所述第二區具有第二接觸表面面積，其中所述第二接觸表面面積大于所述第一接觸表面面積。3.根據前述權利要求中任一項所述的齒系統，其中，所述適配器和所述齒的所述第一區和所述第二區至少部分地設置成一個在另一個上方。4.根據前述權利要求中任一項所述的齒系統，其中，所述適配器和所述齒構造和布置成，在所述第二使用期中，所述適配器的第一區和所述齒的第一區由于磨損而變為間隙區。5.根據前述權利要求中任一項所述的齒系統，其中，所述適配器和齒構造和設置成使得，在所述第二使用期中，所述適配器和所述齒的第一區仍然為接觸區。6.根據前述權利要求中任一項所述的齒系統，其中，所述第一區布置在所述齒和所述適配器的上部中，并且所述第二區布置在所述齒和所述適配器的下部中。7.根據權利要求6所述的齒系統，其中，所述第一區包括所述齒頭的面向下的至少一個表面以及所述適配器...
【專利技術屬性】
技術研發人員：魯洛夫·布雷肯，
申請(專利權)人：IHC荷蘭IE有限公司，
類型：
國別省市：
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