【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本專利技術涉及用于工業制備光學活性二胺衍生物的方法，所述光學活性二胺衍生物對于下式(X)表示的作為活化凝血因子X(FXa)抑制劑的化合物或其藥學上可接受的鹽或它們的水合物的制備是重要的。
技術介紹
由下式(X)表示的化合物[以下也稱為化合物(X)]或其藥理學上可接受的鹽、或它們的水合物是如專利文獻I至3所公開的顯示FXa抑制作用、并且用作血栓和/或栓塞性疾病的預防和/或治療藥物的化合物: [式I]
【技術保護點】
【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】2010.07.02 JP 2010-1519221.由下式(I)表示的化合物的無水晶體的制備方法，其包含在水分含量小于I重量％的有機溶劑中、在加熱下將由下式(Ib)表示的化合物的一水合物晶體進行攪拌的步驟， [式I]2.由下式(I)表示的化合物的無水晶體的制備方法，其包含下述步驟: 在含水有機溶劑中用無水草酸處理由下式(Ia)表示的化合物而得到由下式(Ib)表示的化合物的一水合物晶體；和 在水分含量小于I重量％的有機溶劑中、在加熱下將上述由式(Ib)表不的化合物的一水合物晶體進行攪拌， [式3]3.根據權利要求1或2所述的制備方法，其中在50 80°C進行加熱。4.根據權利要求1或2所述的制備方法，其中在70 75°C進行加熱。5.根據權利要求1 4中任一項所述的制備方法，其中，攪拌步驟進一步包括在減壓下、在40 75°C的溫度范圍以為有機溶劑總體積1/2 4/7的量餾出該有機溶劑，然后再添加相當于該餾出量的量的有機溶劑。6.根據權利要求5所述的制備方法，其中，在有機溶劑的減壓下餾出和再添加中，使有機溶劑的水分含量保持在小于0.2重量％。7.高純度的由下式(Ib)表示的化合物的一水合物晶體的制備方法，其包含在含水有機溶劑中用無水草酸處理由下式(Ia)表示的化合物， [式6]8.根據權利要求2 7中任一項所述的制備方法，其中，含水有機溶劑是含有4%以上的水的含水有機溶劑。9.根據權利要求2 7中任一項所述的制備方法，其中，含水有機溶劑是含有4 10%的水的含水有機溶劑。10.根據權利要求2 9中任一項所述的制備方法，其中，用無水草酸進行的處理包括滴加無水草酸的有機溶劑溶液。11.根據權利要求10所述的制備方法，其中，該滴加在50 80°C進行。12.根據權利要求11所述的制備方法，其中，在滴加結束后，進一步將反應混合物在50 80°C攪拌2 5小時。13.根據權利要求1 12中任一項所述的制備方法，其中，有機溶劑是選自乙酸C1-C5烷基酯溶劑、直鏈或支鏈的C1-C8醇溶劑、C1-C6酮溶劑、甲苯溶劑和C2-C5腈溶劑中的一種或兩種以上的溶劑。14.根據權利要求1 12中任一項所述的制備方法，其中，有機溶劑是乙腈、甲苯、或乙腈和甲苯的混合溶劑。15.根據權利要求1 12中任一項所述的制備方法，其中，有機溶劑是乙腈。16.高純度的由式(Ib)表示的化合物。17.根據權利要求16所述的化合物，其是一水合物晶體的形式。18.根據權利要求7所述的制備方法，其中，由式(Ib)表示的化合物的純度為97.0%以上。19.根據權利要求7所述的...
【專利技術屬性】
技術研發人員：川波光太郎，石河秀明，東海林正寬，
申請(專利權)人：第一三共株式會社，
類型：
國別省市：
還沒有人留言評論。發表了對其他瀏覽者有用的留言會獲得科技券。