本發(fā)明專利技術(shù)提供了用于設(shè)計(jì)集成電路或其他半導(dǎo)體器件同時(shí)通過與其上顯示設(shè)計(jì)布局的GUI的交互直接訪問設(shè)計(jì)規(guī)則和設(shè)計(jì)特征庫的系統(tǒng)和方法。設(shè)計(jì)規(guī)則可以直接鏈接至圖案庫的設(shè)計(jì)特征并輸入設(shè)計(jì)布局。設(shè)計(jì)規(guī)則可以在設(shè)計(jì)布局的同時(shí)或者在進(jìn)行設(shè)計(jì)規(guī)則檢測的同時(shí)被直接訪問，并且在創(chuàng)建布局的過程中可以使用來自圖案庫的設(shè)計(jì)特征。
【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
訪問設(shè)計(jì)規(guī)則和設(shè)計(jì)特征庫的方法和系統(tǒng)
本公開涉及用于設(shè)計(jì)半導(dǎo)體器件布局的方法、系統(tǒng)和軟件，具體地，涉及訪問設(shè)計(jì)規(guī)則和設(shè)計(jì)特征庫的方法、系統(tǒng)和軟件。
技術(shù)介紹
可以使用電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化軟件的各種形式來完成集成電路的設(shè)計(jì)，其允許電路設(shè)計(jì)者創(chuàng)建并數(shù)字化形成集成電路的形狀和圖案。集成電路和其他半導(dǎo)體器件由多個(gè)疊加材料層組成，每一層(即，每個(gè)器件層)都包括必須通過設(shè)計(jì)者與所有其他器件層(尤其是其上方和下方的層和特征)協(xié)作來生成的相關(guān)布局。集成電路設(shè)計(jì)必須符合多個(gè)不同的設(shè)計(jì)規(guī)則，包括與被設(shè)計(jì)的器件層相關(guān)聯(lián)的規(guī)則以及與被設(shè)計(jì)的器件層與直下和直上器件層之間的相關(guān)關(guān)系相關(guān)聯(lián)的規(guī)則。設(shè)計(jì)規(guī)則可以通過用戶來建立，或者它們可以通過掩模鑄造廠(foundry)來建立，其表示掩模鑄造廠在生成光掩模的過程中可以接受的容限。設(shè)計(jì)規(guī)則還可以基于處理操作的能力通過器件制造設(shè)施(也被稱為鑄造廠)來發(fā)布。存在許多設(shè)計(jì)規(guī)則并且必須符合每一種設(shè)計(jì)規(guī)則，以創(chuàng)建光掩模組使得可以使用掩模組成功制造集成電路。作為先進(jìn)技術(shù)的處理操作所發(fā)生的更窄工藝窗和更多布局依賴性效果的結(jié)果，與集成電路相關(guān)聯(lián)的多個(gè)設(shè)計(jì)規(guī)則增加并且設(shè)計(jì)規(guī)則變得更加復(fù)雜。規(guī)則的總數(shù)對于電路設(shè)計(jì)者總體理解來說是挑戰(zhàn)，但是根據(jù)傳統(tǒng)實(shí)踐，這必須在著手布局設(shè)計(jì)之前進(jìn)行。根據(jù)目前的實(shí)踐，設(shè)計(jì)者首先考慮包含大量且復(fù)雜的設(shè)計(jì)規(guī)則的設(shè)計(jì)規(guī)則手冊，然后查詢用于設(shè)計(jì)規(guī)則含義的鑄造廠，然后開始設(shè)計(jì)布局。在執(zhí)行初始設(shè)計(jì)布局實(shí)施之后，執(zhí)行設(shè)計(jì)規(guī)則檢查，并且電路設(shè)計(jì)者必須再次重復(fù)考慮設(shè)計(jì)規(guī)則手冊和查詢關(guān)于設(shè)計(jì)規(guī)則的鑄造廠的步驟。通常要求多個(gè)設(shè)計(jì)工藝的反復(fù)。這產(chǎn)生了設(shè)計(jì)集成電路布局的耗時(shí)、昂貴且效率低的方式。期望解決這些限制和缺點(diǎn)，尤其考慮到用于當(dāng)前世界各種應(yīng)用的集成電路器件的流行性和擴(kuò)散化。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
為解決上述問題，本專利技術(shù)提供了一種實(shí)體計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，利用計(jì)算機(jī)程序碼來編碼，使得當(dāng)通過處理器執(zhí)行計(jì)算機(jī)程序碼時(shí)，處理器執(zhí)行設(shè)計(jì)方法，設(shè)計(jì)方法包括：設(shè)計(jì)半導(dǎo)體器件布局以及在圖形用戶界面(GUI)上顯示半導(dǎo)體器件布局；當(dāng)在GUI上顯示半導(dǎo)體器件布局時(shí)，通過與GUI進(jìn)行交互來訪問設(shè)計(jì)規(guī)則；以及通過與GUI的交互來訪問設(shè)計(jì)特征的庫，并且將設(shè)計(jì)特征的至少一個(gè)直接輸入半導(dǎo)體器件布局。其中，設(shè)計(jì)規(guī)則鏈接至庫，以及其中，訪問設(shè)計(jì)規(guī)則自動(dòng)地進(jìn)一步訪問設(shè)計(jì)特征的庫。其中，通過與GUI的交互來訪問設(shè)計(jì)特征的庫以及將設(shè)計(jì)特征的至少一個(gè)直接輸入半導(dǎo)體器件布局包括：在設(shè)計(jì)半導(dǎo)體器件布局的過程中使用設(shè)計(jì)特征的至少一個(gè)。其中，訪問設(shè)計(jì)規(guī)則包括：使設(shè)計(jì)規(guī)則顯示在GUI上，并且訪問庫包括：使設(shè)計(jì)特征的庫顯示在GUI上，在設(shè)計(jì)特征的期望設(shè)計(jì)特征上定位光標(biāo)，選擇期望設(shè)計(jì)特征，以及將期望設(shè)計(jì)特征結(jié)合到半導(dǎo)體器件布局。其中，訪問設(shè)計(jì)規(guī)則包括：使用物理輸入設(shè)備控制光標(biāo)在GUI上的半導(dǎo)體器件布局的顯示器上的位置，在顯示器中的特征上定位光標(biāo)，以及通過點(diǎn)擊光標(biāo)來選擇特征，從而使得設(shè)計(jì)規(guī)則顯示在GUI上。其中，設(shè)計(jì)、訪問設(shè)計(jì)規(guī)則、訪問設(shè)計(jì)特征的庫、和輸入同時(shí)發(fā)生，并且方法進(jìn)一步包括：執(zhí)行設(shè)計(jì)規(guī)則檢查并完成符合設(shè)計(jì)規(guī)則的布局；以及將所完成的布局傳送至掩模鑄造廠。本專利技術(shù)還提供了一種用于設(shè)計(jì)半導(dǎo)體器件的方法，方法包括：設(shè)計(jì)半導(dǎo)體器件的布局以及使用電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化(EDA)系統(tǒng)在圖形用戶界面(GUI)上顯示布局；當(dāng)顯示布局時(shí)，通過與GUI的交互訪問設(shè)計(jì)規(guī)則；當(dāng)顯示布局時(shí)，通過與GUI的交互訪問設(shè)計(jì)特征的庫；以及通過從庫中選擇至少一個(gè)期望設(shè)計(jì)特征而輸入來自設(shè)計(jì)特征的庫的至少一個(gè)期望設(shè)計(jì)特征，并且通過與GUI的交互將至少一個(gè)期望設(shè)計(jì)特征輸入布局。其中，訪問設(shè)計(jì)規(guī)則包括：在布局的一部分上定位光標(biāo)并點(diǎn)擊鼠標(biāo)，以及進(jìn)一步包括：通過與GUI進(jìn)行交互而檢查布局是否符合設(shè)計(jì)規(guī)則。其中：訪問設(shè)計(jì)規(guī)則包括在GUI上顯示設(shè)計(jì)規(guī)則；訪問設(shè)計(jì)特征的庫包括在GUI上顯示設(shè)計(jì)特征的庫；以及設(shè)計(jì)規(guī)則為與掩模鑄造廠和器件制造廠相關(guān)聯(lián)的鑄造廠工藝驗(yàn)證設(shè)計(jì)規(guī)則。其中，輸入至少一個(gè)期望設(shè)計(jì)特征包括形成符合設(shè)計(jì)規(guī)則并包括設(shè)計(jì)特征的至少一個(gè)的最終布局，并且進(jìn)一步包括使用最終布局形成光掩模組。該方法進(jìn)一步包括：使用光掩模組來形成半導(dǎo)體器件。其中，設(shè)計(jì)半導(dǎo)體器件的布局以及使用電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化(EDA)系統(tǒng)在GUI上顯示布局包括：向EDA系統(tǒng)的處理器提供實(shí)體計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，實(shí)體計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)利用計(jì)算機(jī)程序碼來編碼，使得當(dāng)通過處理器執(zhí)行計(jì)算機(jī)程序碼時(shí)，處理器能夠使用戶通過與GUI進(jìn)行交互而使用EDA系統(tǒng)來執(zhí)行設(shè)計(jì)半導(dǎo)體器件的布局、訪問設(shè)計(jì)規(guī)則、訪問設(shè)計(jì)特征的庫以及輸入來自設(shè)計(jì)特征的庫的至少一個(gè)期望設(shè)計(jì)特征。其中，設(shè)計(jì)規(guī)則鏈接至設(shè)計(jì)特征，以及其中，訪問設(shè)計(jì)規(guī)則和訪問設(shè)計(jì)特征的庫發(fā)生在設(shè)計(jì)之前。其中，訪問設(shè)計(jì)規(guī)則、訪問設(shè)計(jì)特征的庫、以及輸入來自設(shè)計(jì)特征的庫的至少一個(gè)期望設(shè)計(jì)特征發(fā)生在設(shè)計(jì)期間。其中，訪問設(shè)計(jì)規(guī)則包括使設(shè)計(jì)規(guī)則的表格顯示在GUI上，并且進(jìn)一步包括執(zhí)行設(shè)計(jì)規(guī)則檢查和完成布局。此外，還提供了一種電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化(EDA)系統(tǒng)，包括：處理器；圖形用戶界面(GUI)；實(shí)體計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，利用計(jì)算機(jī)程序碼進(jìn)行編碼，被配置為通過處理器來執(zhí)行，以能夠根據(jù)一種方法使用戶使用EDA系統(tǒng)來設(shè)計(jì)半導(dǎo)體器件的布局，方法包括：執(zhí)行半導(dǎo)體器件布局的設(shè)計(jì)并在GUI上顯示半導(dǎo)體器件布局；通過與GUI進(jìn)行交互而訪問設(shè)計(jì)規(guī)則；通過與GUI進(jìn)行交互而訪問設(shè)計(jì)特征的庫；以及通過與GUI進(jìn)行交互而將設(shè)計(jì)特征的至少一個(gè)直接輸入半導(dǎo)體器件布局。其中，定制設(shè)計(jì)規(guī)則鏈接至庫，以及其中，訪問設(shè)計(jì)規(guī)則進(jìn)一步訪問庫。其中，設(shè)計(jì)規(guī)則與光掩模鑄造廠和制造廠相關(guān)聯(lián)。該EDA系統(tǒng)進(jìn)一步包括：軟件模塊，接收實(shí)體計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，并包括設(shè)計(jì)規(guī)則和設(shè)計(jì)庫。其中，方法進(jìn)一步包括：將設(shè)計(jì)規(guī)則的至少一個(gè)與半導(dǎo)體器件布局的至少一個(gè)特征進(jìn)行比較，以及其中，訪問設(shè)計(jì)特征的庫包括：使庫顯示在GUI上；在設(shè)計(jì)特征的期望設(shè)計(jì)特征上定位光標(biāo)；選擇期望設(shè)計(jì)特征；以及將期望設(shè)計(jì)特征結(jié)合到半導(dǎo)體器件布局。附圖說明當(dāng)讀取附圖時(shí)，從以下詳細(xì)中更好地理解本公開。應(yīng)該強(qiáng)調(diào)的是，根據(jù)一般實(shí)踐，附圖的各種部件不是必須按比例繪制。相反，為了清楚可以任意增加或減小各種部件的尺寸。在說明書和附圖中，類似的標(biāo)號表示類似的部件。圖1是示出根據(jù)本公開示例性實(shí)施例的系統(tǒng)和方法的示意圖；圖2是示出根據(jù)本公開示例性實(shí)施例的示例性方法的細(xì)節(jié)的流程圖；圖3示出了根據(jù)本公開示例性實(shí)施例的顯示設(shè)計(jì)布局的一部分的GUI以及示意性示出了通過與GUI的交互訪問的規(guī)則文件；以及圖4示出了根據(jù)本公開示例性實(shí)施例的顯示設(shè)計(jì)布局的一部分的GUI、被訪問的規(guī)則文件的圖形表示和具有設(shè)計(jì)特征被輸入至GUI的設(shè)計(jì)布局的設(shè)計(jì)特征的圖案庫的圖形表示。具體實(shí)施方式本公開提供了用于集成電路和其他半導(dǎo)體器件的設(shè)計(jì)的系統(tǒng)、方法以及實(shí)體(tangible)持久計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，隨著設(shè)計(jì)被實(shí)施和/或隨著設(shè)計(jì)布局被顯示在圖形用戶界面(GUI)上，可以通過與GUI的交互來直接訪問設(shè)計(jì)規(guī)則。設(shè)計(jì)規(guī)則有利地鏈接至符合設(shè)計(jì)規(guī)則的圖案庫，并且來自圖案庫的特征可以用于創(chuàng)建設(shè)計(jì)布局或修改涉及布局。圖案庫還可以直接通過與GUI的交互來訪問。根據(jù)一個(gè)方面，本公開提供了一種利用計(jì)算機(jī)程本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種實(shí)體計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，利用計(jì)算機(jī)程序碼來編碼，使得當(dāng)通過處理器執(zhí)行所述計(jì)算機(jī)程序碼時(shí)，所述處理器執(zhí)行設(shè)計(jì)方法，所述設(shè)計(jì)方法包括：設(shè)計(jì)半導(dǎo)體器件布局以及在圖形用戶界面(GUI)上顯示所述半導(dǎo)體器件布局；當(dāng)在所述GUI上顯示所述半導(dǎo)體器件布局時(shí)，通過與所述GUI進(jìn)行交互來訪問設(shè)計(jì)規(guī)則；以及通過與所述GUI的交互來訪問設(shè)計(jì)特征的庫，并且將所述設(shè)計(jì)特征的至少一個(gè)直接輸入所述半導(dǎo)體器件布局。
【技術(shù)特征摘要】
2011.10.31 US 13/285,5281.一種用于設(shè)計(jì)半導(dǎo)體器件的方法，所述方法包括：設(shè)計(jì)半導(dǎo)體器件布局以及在圖形用戶界面GUI上顯示所述半導(dǎo)體器件布局；當(dāng)在所述GUI上顯示所述半導(dǎo)體器件布局時(shí)，通過與所述GUI進(jìn)行交互來訪問設(shè)計(jì)規(guī)則，通過與所述GUI進(jìn)行交互而檢查所述半導(dǎo)體器件布局是否符合所述設(shè)計(jì)規(guī)則；以及通過與所述GUI的交互來訪問設(shè)計(jì)特征的庫，并且將所述設(shè)計(jì)特征的至少一個(gè)直接輸入所述半導(dǎo)體器件布局，其中，所述訪問設(shè)計(jì)規(guī)則自動(dòng)地進(jìn)一步訪問設(shè)計(jì)特征的所述庫。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于設(shè)計(jì)半導(dǎo)體器件的方法，其中，所述設(shè)計(jì)規(guī)則鏈接至所述庫。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于設(shè)計(jì)半導(dǎo)體器件的方法，其中，通過與所述GUI的交互來訪問設(shè)計(jì)特征的庫以及將所述設(shè)計(jì)特征的至少一個(gè)直接輸入所述半導(dǎo)體器件布局包括：在設(shè)計(jì)所述半導(dǎo)體器件布局的過程中使用所述設(shè)計(jì)特征的所述至少一個(gè)。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于設(shè)計(jì)半導(dǎo)體器件的方法，其中，訪問所述設(shè)計(jì)規(guī)則包括：使所述設(shè)計(jì)規(guī)則顯示在所述GUI上，并且訪問所述庫包括：使所述設(shè)計(jì)特征的庫顯示在所述GUI上，在所述設(shè)計(jì)特征的期望設(shè)計(jì)特征上定位光標(biāo)，選擇所述期望設(shè)計(jì)特征，以及將所述期望設(shè)計(jì)特征結(jié)合到所述半導(dǎo)體器件布局。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于設(shè)計(jì)半導(dǎo)體器件的方法，其中，所述訪問設(shè)計(jì)規(guī)則包括：使用物理輸入設(shè)備控制光標(biāo)在所述GUI上的所述半導(dǎo)體器件布局的顯示器上的位置，在所述顯示器中的特征上定位所述光標(biāo)，以及通過點(diǎn)擊所述光標(biāo)來選擇所述特征，從而使得所述設(shè)計(jì)規(guī)則顯示在所述GUI上。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于設(shè)計(jì)半導(dǎo)體器件的方法，其中，所述設(shè)計(jì)、所述訪問設(shè)計(jì)規(guī)則、所述訪問設(shè)計(jì)特征的庫、和所述輸入同時(shí)發(fā)生，并且所述方法進(jìn)一步包括：執(zhí)行設(shè)計(jì)規(guī)則檢查并完成符合所述設(shè)計(jì)規(guī)則的所述布局；以及將所完成的布局傳送至掩模鑄造廠。7.一種用于設(shè)計(jì)半導(dǎo)體器件的方法，所述方法包括：設(shè)計(jì)半導(dǎo)體器件的布局以及使用電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化EDA系統(tǒng)在圖形用戶界面GUI上顯示所述布局；當(dāng)顯示所述布局時(shí)，通過與所述GUI的交互訪問設(shè)計(jì)規(guī)則，通過與所述GUI進(jìn)行交互而檢查所述布局是否符合所述設(shè)計(jì)規(guī)則；當(dāng)顯示所述布局時(shí)，通過與所述GUI的交互訪問設(shè)計(jì)特征的庫；以及通過從所述庫中選擇至少一個(gè)期望設(shè)計(jì)特征而輸入來自設(shè)計(jì)特征的所述庫的所述至少一個(gè)期望設(shè)計(jì)特征，并且通過與所述GUI的交互將所述至少一個(gè)期望設(shè)計(jì)特征輸入所述布局，其中，所述訪問設(shè)計(jì)規(guī)則自動(dòng)地進(jìn)一步訪問設(shè)計(jì)特征的所述庫。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的用于設(shè)計(jì)半導(dǎo)體器件的方法，其中，所述訪問設(shè)計(jì)規(guī)則還包括：在所述布局的一部分上定位光標(biāo)并點(diǎn)擊鼠標(biāo)。9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的用于設(shè)計(jì)半導(dǎo)體器件的方法，其中：所述訪問設(shè)計(jì)規(guī)則包括在所述GUI上顯示所述設(shè)計(jì)規(guī)則；所述訪問設(shè)計(jì)特征的庫包括在所...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：陳欽安，吳培滋，蔡宗杰，吳俊毅，丁至剛，
申請(專利權(quán))人：臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：
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