無背輥間歇式擠壓涂布頭制造技術

一種無背輥間歇式擠壓涂布頭，包括擠壓頭、第一過輥和第二過輥，所述第一過輥與所述第二過輥相隔預定距離平行布置；基材繞過所述第一過輥與所述第二過輥朝一個方向行進；擠壓頭位于基材的遠離第一過輥和第二過輥的一側，所述擠壓頭的縫口正對第一過輥與第二過輥之間的基材表面，且從擠壓頭的縫口間歇地向基材涂覆漿料。本實用新型專利技術可以將擠壓頭盡可能的靠近基材表面，達到薄涂的目的；涂布厚度可達到20?以下；同時，可以解決基材造成斷帶；再，采用多種不同結構，在涂布開始時使基材表面與擠壓頭慢慢地接近，使擠壓頭與基材表面之間的間隙逐漸變小，而解決頭厚的問題；在涂布結束時使基材表面與擠壓頭快速地遠離，使擠壓頭與基材表面之間的間隙快速變大，而解決拖尾的問題。（*該技術在2022年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

本技術涉及一種用于鋰電池基材涂布的無背輥間歇式擠壓涂布頭。
技術介紹
現有的用于鋰電池涂布的擠壓涂布機上的擠壓涂布頭，如圖1所示，包括擠壓頭100、背輥200，所述擠壓頭100正對所述背輥200，基材300 (—般為銅箔或鋁箔)經過背輥200與擠壓頭100之間的間隙繞過背輥200向一個方向行進，所述擠壓頭100間歇地向所述基材300涂覆電子漿料400。這種擠壓涂布頭由于結構設計的原因，一直以來存在四個方面的問題，一是電子漿料起頭厚，行業內稱頭厚，是因為擠壓涂布頭為了克服電子漿料400在開始涂布時，電子漿料400的靜磨擦而采用的開始時采用的電子漿料400壓力較高而產生的；二是斷帶問題，由于擠壓頭100與背輥200之間的間隙在出廠時是固定的(一般為90μ至150μ)，在使用過程中，如果遇到空氣中的微粒尺寸大于或等于間隙的尺寸時，這種微粒在進入擠壓頭100與背輥200之間的間隙時，由于擠壓頭100與背輥200是硬對硬結構，這樣，微粒很容易將基材300擠出一個小孔，再由于基材300很薄(一般為8μ- 2μ),小孔一產生，在張力的作用下，小孔馬上會變成大孔，進而基材300被撕斷，出現斷帶的情況影響涂布機的連續化生產；三是拖尾嚴重，所述拖尾是電子漿料400涂完后，由于電子漿料400的流涎作用，而產生的涂布層在收尾時產生的鋸齒狀的邊緣，對電池的質量有很不好的影響；四是電子漿料不能進一步的薄化，由于怕產生斷帶現象而影響涂布的連續化生產，人們只得將擠壓頭100與基材300之間的間隙設置的較大一些，一般為涂布層的厚度的2-3倍，如果涂布層的厚度為45μ，則間隙寬度為90_135μ ;如果想生產涂布層厚度為20μ，甚至15μ或10μ的厚度，如果人們還是采用涂布層的厚度的2-3倍來設計間隙寬度，則很容易被空氣中微粒夾入間隙中產生斷帶的問題，因此，目前，這種結構的擠壓涂布頭，其最薄的有效涂布厚度一般是大于30μ，再薄就經常會產生斷帶現象。為了解決現有技術 中厚頭和拖尾的問題，人們提出了一些解決方案，如中國專利文獻CN102658255就公開了一種間歇式擠壓涂布方法及間歇式擠壓涂布機，所述涂布方法包括以下步驟:在擠壓頭開始向基體涂覆漿料時，對擠壓頭縫口處的漿料進行倒吸使漿料回流；在擠壓頭停止向基體涂覆漿料時，對擠壓頭縫口處的漿料進行倒吸使漿料回流。依據該涂布方法，在開始涂布時，使擠壓頭中漿料在開始供料的瞬間微量回流，減少涂覆于基材上的漿料量，可以有效地控制間歇涂布頭部的厚度；而在間歇時即擠壓頭停止涂布時，同樣使擠壓頭中漿料瞬間回流，使涂覆在基體上的漿料可以迅速斷開，這樣有效地控制間歇時尾部拖尾的整齊度。從試驗的結果來看，這種涂布方法對涂布控制要求非常高，如果控制稍有偏差，不但不能解決頭厚和拖尾的問題，反而還會適得其反。
技術實現思路
為了克服上述問題，本技術向社會提供一種可以較好地解決涂布過程中斷帶和薄涂的問題的間歇式擠壓涂布頭。本技術的技術方案是:提供一種無背輥間歇式擠壓涂布頭，包括擠壓頭、第一過輥和第二過輥，所述第一過輥與所述第二過輥相隔預定距離平行布置；基材繞過所述第一過輥與所述第二過輥朝一個方向行進；擠壓頭位于基材的遠離第一過輥和第二過輥的一偵牝所述擠壓頭的縫口正對第一過輥與第二過輥之間的基材表面，且從擠壓頭的縫口間歇地向基材涂覆漿料。作為對本技術的改進，還包括驅動裝置，所述驅動裝置驅動所述擠壓頭相對于基材表面作往復平動。作為對本技術的改進，涂料結束時，所述擠壓頭與所述基材表面作相對遠離的平動。作為對本技術的改進，涂料開始時，所述擠壓頭垂直于基材表面作接近基材表面的平動。作為對本技術的改進，還包括驅動裝置，所述驅動裝置驅動所述第一過輥相對于擠壓頭作往復平動。作為對本技術的改進，涂料結束時，所述第一過輥帶著基材作遠離擠壓頭的平動。作為對本技術的改進，涂料開始時，所述第一過輥帶著基材作接近擠壓頭的平動。作為對本技術的改進，還包括驅動裝置和間隙調節輥，所述間隙調節輥與擠壓頭同側，位于擠壓頭的下方，且靠近所述基材表面；所述驅動裝置通過所述間隙調節輥使所述基材相對于擠壓頭作往復平動。作為對本技術的改進，涂料結束時，所述間隙調節輥頂著基材作遠離擠壓頭的平動。作為對本技術的改進，涂料開始時，所述間隙調節輥作接近擠壓頭的平動。本技術由于采用了設置兩個過輥，通過兩個過輥將基材張緊，并在遠離過輥的基材一側設有擠壓頭，且擠壓頭的縫口正對著位于兩過輥之間的基材表面的結構，這樣，就可以將擠壓頭盡可能的靠近基材表面，可以達到薄涂的目的(可以達到涂布層20μ以下的厚度)，同時，如果有大于或等于擠壓頭與基材表面之間的間隙的微粒進入間隙之內，由于基材本身的柔軟性，可以讓微粒通過，而不會對基材造成斷帶；再，采用多種不同結構，在涂布開始時使基材表面慢慢地接近擠壓頭，或者使擠壓頭慢慢接近基材表面，使擠壓頭與基材表面之間的間隙逐漸變小，而解決頭厚的問題；在涂布結束時使基材表面快速地遠離擠壓頭，或者使擠壓頭快帶遠離基材表面，使擠壓頭與基材表面之間的間隙快速變大，而解決拖尾的問題。附圖說明圖1是現有擠壓式涂布頭的一種實施例的平面結構示意圖。圖2是本技術一種實施例的平面結構示意圖。圖3是圖2所示實施例第一過輥遠離平動后的平面結構示意圖。圖4是本技術第二種實施例的平面結構示意圖。圖5是本專利技術第三種實施例的平面結構示意圖。圖6是本專利技術第四種實施例的平面結構示意圖。具體實施方式請參見圖2，圖2所揭示的是一種無背輥間歇式擠壓涂布頭，包括擠壓頭1、第一過輥2和第二過輥3，所述第一過輥I與所述第二過輥3相隔預定距離平行布置；基材4繞過所述第一過輥2與所述第二過輥3朝一個方向行進；擠壓頭I位于基材4的遠離第一過輥2和第二過輥3的一側，所述擠壓頭I的縫口 11正對第一過輥2與第二過輥3之間的基材表面，且從擠壓頭I的縫口 11間歇地向基材4涂覆漿料5。如此結構，可以將擠壓頭I盡可能的靠近基材表面，可以達到薄涂的目的，經試驗，可以達到涂布涂布層的厚度在20μ以下，同時，如果有大于或等于擠壓頭I與基材表面之間的間隙的微粒進入間隙之內，由于基材4本身的柔軟性，可以讓微粒通過，而不會對基材4造成斷帶。在所述擠壓頭I的上唇12的靠近基材表面的一側設斜槽121,將上唇12分為上、下兩個部分1211、1212，垂直于斜槽121設有數個調節孔122，在每個所述調節孔122內設有一個調節螺絲123，通過調節調節螺絲123的松緊，可以調節上唇12的下部分1212與下唇13之間的縫口 11的間距。為了解決頭厚和拖尾的問題，本專利技術還包括驅動裝置(未畫出)，所述驅動裝置驅動所述擠壓頭I相對于基材表面作往復平動，當開始涂布時，擠壓頭I與基材表面相互慢慢接近，不會形成厚頭的問題；當涂布結束時，擠壓頭I與基材表面相互快速遠離，不會形成拖尾的問題(下同)。具體地說，所述驅動裝置可以用來驅動擠壓頭I相對于基材表面平動；也可以用來驅動所述第一過輥2相對于擠壓頭I作往復平動，從而帶動基材4相對于擠壓頭I作往復平動(如圖3所示，是遠離狀態);還可以用來驅動所述第二過輥3相對于擠壓頭I作往復平動；從而帶動基材4相對于擠壓頭I作往復平動；還可同時所述第一過本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種無背輥間歇式擠壓涂布頭，包括擠壓頭，其特征在于：還包括第一過輥和第二過輥，所述第一過輥與所述第二過輥相隔預定距離平行布置；基材繞過所述第一過輥與所述第二過輥朝一個方向行進；擠壓頭位于基材的遠離第一過輥和第二過輥的一側，所述擠壓頭的縫口正對第一過輥與第二過輥之間的基材表面，且從擠壓頭的縫口間歇地向基材涂覆漿料。

【技術特征摘要】
1.種無背輥間歇式擠壓涂布頭，包括擠壓頭，其特征在于:還包括第一過輥和第二過輥，所述第一過輥與所述第二過輥相隔預定距離平行布置；基材繞過所述第一過輥與所述第二過輥朝一個方向行進；擠壓頭位于基材的遠離第一過輥和第二過輥的一側，所述擠壓頭的縫口正對第一過輥與第二過輥之間的基材表面，且從擠壓頭的縫口間歇地向基材涂覆漿料。2.據權利要求1所述的無背輥間歇式擠壓涂布頭，其特征在于:還包括驅動裝置，所述驅動裝置驅動所述擠壓頭相對于基材表面作往復平動。3.據權利要求2所述的無背輥間歇式擠壓涂布頭，其特征在于:涂料結束時，所述擠壓頭與所述基材表面作相對遠離的平動。4.據權利要求2或3所述的無背輥間歇式擠壓涂布頭，其特征在于:涂料開始時，所述擠壓頭垂直于基材表面作接近基材表面的平動。5.據權利要求1所述的無背輥間歇式擠壓涂布頭，其特征在于:還包括驅動裝置，所述驅動裝置驅動所述第一過輥相對于擠壓頭作往復平動。6.據權利要求1所述的無...

【專利技術屬性】
技術研發人員：楊志明，
申請(專利權)人：深圳市信宇人科技有限公司，
類型：實用新型
國別省市：