用于控制流體的閥制造技術(shù)

本發(fā)明專利技術(shù)涉及一種用于控制流體的閥，該閥包括：帶有通道開口(4)的閥體(2)；構(gòu)造在閥體(2)上的、逐漸變窄的閥座(5)；打開或關(guān)閉閥座(5)上通道開口(4)的封閉元件(3)；以及連接與閥座(5)緊接著的凸出區(qū)域(6)，其中凸出區(qū)域(6)只在閥座(5)上的部分圓周上延伸。

【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
【國外來華專利技術(shù)】
本專利技術(shù)涉及用于控制流體的閥，尤其是用于車輛制動系統(tǒng)的止回閥。
技術(shù)介紹
現(xiàn)有技術(shù)中已知不同結(jié)構(gòu)形式的用于控制流體的閥。此種閥的使用領(lǐng)域例如是用于控制液壓液體的制動系統(tǒng)。尤其為了減小重量及結(jié)構(gòu)空間，近期嘗試縮小此種系統(tǒng)以及所有部件。但是，在使用制動液壓時必須確保一定的最小流量。此外，通過閥的流動阻力不能太大。但如果尺寸減小，必要時閥的提升高度就要變大。這樣才能有助于閥的封閉元件不丟失。因此希望獲得一種成本低廉、體積小、而且可以避免封閉元件遺失的閥。
技術(shù)實現(xiàn)思路
相對于此，具有權(quán)利要求1所述特征的、依據(jù)本專利技術(shù)的用于控制流體的閥具有明顯減小封閉元件丟失的危險的優(yōu)點。盡管如此，依據(jù)本專利技術(shù)的用于控制流體的閥可成本低廉地制造并且只有相當(dāng)小的尺寸。依據(jù)本專利技術(shù)，這通過如下方式實現(xiàn):閥具有與閥座緊接著的凸出區(qū)域。凸出區(qū)域只在閥座的部分圓周上延伸。凸出區(qū)域阻止封閉元件可能離開閥座過遠以及丟失，其中盡管如此還可以確保通過已開啟的閥的高的流量率，這是因為凸出區(qū)域不是設(shè)置在閥座的整個圓周上。由此凸出區(qū)域阻止封閉元件在閥開啟時可能由于經(jīng)過閥的流體流動而在側(cè)面被擠開，以及在極端情況下可能丟失，但不會增大流動阻力。從屬權(quán)利要求給出本專利技術(shù)的優(yōu)選改進方案。優(yōu)選地，凸出區(qū)域與閥座一體構(gòu)成。這樣可實現(xiàn)非常簡單且價格低廉的制造方式。特別優(yōu)選的是，凸出區(qū)域皇冠狀地構(gòu)造有多個在封閉元件的提升方向上凸出的元件，這些凸出的元件通過間隙彼此分開。凸出的元件阻止封閉元件丟失，其中在閥開啟時，流體也可以從凸出的元件之間流過。此外優(yōu)選的是，皇冠狀區(qū)域的凸出元件之間的間隙在周向上構(gòu)造成，間隙在周向上的弧長與凸出元件在周向上的弧長相同。特別優(yōu)選的是，凸出區(qū)域僅構(gòu)造在閥座上小于其全部周長二分之一且大于全部周長三分之一。根據(jù)本專利技術(shù)另一個優(yōu)選的結(jié)構(gòu)方案，凸出區(qū)域在封閉元件的提升方向上具有大于封閉元件行程的長度。這樣可以保證封閉元件特別可靠地保持在閥上。閥座優(yōu)選構(gòu)造為錐形。 此外優(yōu)選的是，閥座過渡到完全環(huán)繞的邊緣區(qū)域內(nèi)中，其中凸出區(qū)域構(gòu)造在邊緣區(qū)域上。根據(jù)本專利技術(shù)的另一個優(yōu)選的結(jié)構(gòu)方案，封閉兀件具有一個用于在閥座上密封的密封錐，以提供大的密封面。尤其優(yōu)選的是，依據(jù)本專利技術(shù)的閥構(gòu)造為止回閥，該閥還包括用于限制封閉元件行程的止擋。此外，本專利技術(shù)還涉及帶有依據(jù)本專利技術(shù)的閥、特別是依據(jù)本專利技術(shù)的止回閥的制動裝置。附圖說明下文根據(jù)附圖詳細說明本專利技術(shù)的優(yōu)選實施例。在圖中:圖1示出了根據(jù)本專利技術(shù)的第一實施例、用于本專利技術(shù)的閥的閥體的立體圖；圖2示出了圖1所示的閥體的示意性剖視圖；圖3示出了圖1所示的閥的示意性剖視圖，和圖4示出了根據(jù)本專利技術(shù)的第二實施例、用于本專利技術(shù)的閥的閥體的立體圖。具體實施例方式下文根據(jù)圖1至3描述依據(jù)本專利技術(shù)第一優(yōu)選實施例的用于控制流體的閥I。第一實施例的閥I是止回閥，該閥應(yīng)用于制動回路中。如從圖3可見，閥I包括帶有通道開口 4的閥體2。此外，閥體2上構(gòu)造有錐形的、逐漸變窄的閥座5。封閉元件3打開通道開口 4和以密封方式在閥座5上關(guān)閉通道開口。在此，封閉元件3構(gòu)造為帶有密封錐3a。封閉元件3通過壓差的出現(xiàn)而關(guān)閉。圖3用雙箭頭B表示封閉元件3的運動。封閉元件3的運動方向是沿著閥的中軸線X-X的方向。圖3所示的箭頭A表示通過止回閥的流動方向。如此外尤其從圖1和2中可見，在流動方向上構(gòu)造有與閥座5的端部相反的凸出區(qū)域6。凸出區(qū)域6構(gòu)造為皇冠狀。凸出的皇冠狀區(qū)域6具有多個凸出元件7，這些元件在周向上分別間隔有間隙8。凸出元件7在此沿軸向凸出且構(gòu)造為弧形。凸出的皇冠狀區(qū)域6，如圖1所示，只構(gòu)造在閥座5的半個外圓周上。此外，從圖1中還可見，閥座5上首先構(gòu)造有完全環(huán)繞的邊緣區(qū)域9，但該邊緣區(qū)域9僅具有小的軸向高度。在這一邊緣區(qū)域9上設(shè)置有凸出的皇冠狀區(qū)域6的凸出元件7。在這一實施例中，閥體2連同邊緣區(qū)域9和凸出區(qū)域6設(shè)計作為一體的構(gòu)件，例如可以通過嗔射鑄造制造。此外，從圖1中還可見，凸出元件7在周向上的弧長等于間隙8的弧長。由此保證凸出元件7不占用過大的面積，而該過大的面積可能會限制流經(jīng)已開啟的閥的流體的流動。然而，凸出元件7在軸向X-X上具有長度L，該長度L大于封閉元件3的行程H。由此，凸出元件7阻止封閉元件3在閥開啟的情況下在側(cè)面從閥座5被擠出以及丟失。凸出元件7由此執(zhí)行保持功能，但不會過大幅度地降低流量，并且不會在開啟的閥上出現(xiàn)不期望的大的流動阻力。下面根據(jù)附圖4說明依據(jù)本專利技術(shù)第二實施例的閥體2，其中相同的或功能相同的部件使用與第一實施例相同的附圖標(biāo)記表示。與第一實施例不同，第二實施例的閥體2具有非中斷的、連續(xù)的凸出區(qū)域6。由此，該凸出區(qū)域6在第二實施例中只設(shè)置在閥座5的部分圓周上。在該實施例中，凸出區(qū)域6的周長是閥座5全部周長的三分之一至二分之一。通過設(shè)計一個只在部分圓周上設(shè)置的凸出區(qū)域6，除能夠阻止封閉元件的丟失外，還能有目的地影響流體的流動方向。由于封閉元件的直徑小于凸出區(qū)域6的最小內(nèi)徑，因此能夠避免凸出區(qū)域6附近的流動受阻。因此根據(jù)已說明的實施例，通過設(shè)計凸出區(qū)域6，使得依據(jù)本專利技術(shù)的閥I的閥座5在流體方向上的端部具有與已知類型的閥不同的構(gòu)造。本專利技術(shù)優(yōu)選地與止回閥相結(jié)合使用在制動系統(tǒng)中。權(quán)利要求1.用于控制流體的閥，包括: -帶有通道開口⑷的閥體⑵； -逐漸變窄的閥座(5)，該閥座(5)構(gòu)造在閥體⑵上； -封閉元件(3)，該封閉元件(3)打開和關(guān)閉閥座(5)上的通道開口(4)，和 -與閥座(5)緊接著的凸出區(qū)域(6)，其中該凸出區(qū)域(6)只在閥座(5)上的部分圓周上延伸。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的閥，其特征在于，所述凸出區(qū)域(6)與閥座(5)—體構(gòu)造。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的閥，其特征在于，所述凸出區(qū)域(6)皇冠狀地構(gòu)造有多個在封閉元件⑶的提升方向⑶上凸出的元件(7)，這些凸出的元件(7)通過間隙⑶彼此分開。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的閥，其特征在于，在所述凸出的元件(7)之間的間隙(8)在周向上具有與凸出的元件(7)相同的弧長。5.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項所述的閥，其特征在于，所述凸出區(qū)域(6)只構(gòu)造在少于全部周長的二分之一和大于全部周長三分之一。6.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一所述的閥，其特征在于，所述凸出區(qū)域(6)在封閉元件(3)的提升方向(B)上具有長度(L)，該長度大于封閉元件(3)的行程(H)。7.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項所述的閥，其特征在于，所述閥座(5)是錐形的。8.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項所述的閥，其特征在于，所述閥座(5)過渡到完全環(huán)繞的邊緣區(qū)域(9)中，并且所述凸出區(qū)域(6)構(gòu)造在邊緣區(qū)域(9)上。9.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項所述的閥，其特征在于，所述閥是止回閥。10.用于車輛的制動裝置，包括根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項所述的閥。全文摘要本專利技術(shù)涉及一種用于控制流體的閥，該閥包括帶有通道開口(4)的閥體(2)；構(gòu)造在閥體(2)上的、逐漸變窄的閥座(5)；打開或關(guān)閉閥座(5)上通道開口(4)的封閉元件(3)；以及連接與閥座(5)緊接著的凸出區(qū)域(6)，其中凸出區(qū)域(6)只在閥座(5)上的部分圓周上延伸。文檔編號F16K1/42GK103119344SQ201180045625 公開日2013年5月22日 申請日期2011年7月27日 優(yōu)先權(quán)日2010年9月2本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護點】

【技術(shù)特征摘要】
【國外來華專利技術(shù)】...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：R·芬克，D·弗希，T·魏茨，
申請(專利權(quán))人：羅伯特·博世有限公司，
類型：
國別省市：