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    快速加熱處理系統及其硫化方法技術方案

    技術編號:8761453 閱讀:271 留言:0更新日期:2013-06-06 23:09
    本發明專利技術公開了一種快速加熱處理系統,包括快速加熱處理爐、背電極基板及遮蓋。背電極基板設置在快速加熱處理爐的反應室內且形成有前趨物層及硒物質,硒物質形成在前趨物層上。遮蓋設置在對應背電極基板的硒物質的位置上且形成有與硒物質彼此相對的固態硫。固態硫在吸收快速加熱處理爐的加熱裝置所產生的熱能后,與硒物質及前趨物層反應以形成光電轉換層。本發明專利技術利用將沉積有固態硫的遮蓋與沉積有硒物質及前趨物層的背電極基板彼此相對且使用快速加熱處理方式進行快速加熱的設計,以產生具有較低制程溫度且較短反應時間的硫化制程。

    【技術實現步驟摘要】

    【技術保護點】
    一種快速加熱處理系統,其特征在于,所述快速加熱處理系統包括:一快速加熱處理爐,包括:一反應室;及一加熱裝置,用來產生熱能;一背電極基板,設置在所述反應室內且形成有一前趨物層及一硒物質,所述硒物質形成在所述前趨物層上;及一遮蓋,設置在對應所述背電極基板的所述硒物質的位置上且形成有一固態硫,以使所述固態硫與所述硒物質彼此相對,所述固態硫在吸收所述加熱裝置所產生的熱能后,與所述硒物質及所述前趨物層反應,以形成一光電轉換層。

    【技術特征摘要】
    ...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:李適維林明弘,蔡耀倉,
    申請(專利權)人:綠陽光電股份有限公司
    類型:發明
    國別省市:

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