【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及一種鑄造工業(yè)中的除砂裝置，具體的講是一種高溫堿爆除砂裝置。
技術(shù)介紹
目前，隨著社會(huì)的迅速發(fā)展，機(jī)械制造業(yè)對(duì)鑄件的要求越來(lái)越高，對(duì)鑄件的復(fù)雜性要求提到了前所未有的程度，伴隨而來(lái)的鑄件的結(jié)構(gòu)也越來(lái)越復(fù)雜，本來(lái)是經(jīng)過(guò)幾次組合的裝配，為了提高整體的強(qiáng)度，變?yōu)橐淮纬尚偷蔫T件，這樣的鑄件一般具有復(fù)雜型腔，這時(shí)復(fù)雜型腔內(nèi)部的清砂處理變成了無(wú)法解決的問(wèn)題，從而影響了鑄件的整體質(zhì)量。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本專利技術(shù)的目的就是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷，提供一種能徹底清除鑄件型腔內(nèi)部殘砂，從而提高鑄件質(zhì)量，能減輕工作人員負(fù)擔(dān)的高溫堿爆除砂裝置。其技術(shù)方案是:高溫堿爆除砂裝置，包括用于盛裝燒堿的坩堝，所述坩堝壁內(nèi)設(shè)有空腔，所述空腔內(nèi)設(shè)有電加熱管和第一傳感器；所述坩堝上方活動(dòng)設(shè)有用于盛裝鑄件的吊籃；所述坩堝的一側(cè)設(shè)有盛裝有冷卻液的冷卻槽，所述冷卻槽的下方設(shè)有半導(dǎo)體制冷塊，所述冷卻槽內(nèi)設(shè)有第二傳感器；所述冷卻槽的一側(cè)設(shè)有中和槽；所述中和槽的一側(cè)設(shè)有清洗裝置；所述第一傳感器和第二傳感器分別與控制裝置的輸入端電連接，所述控制裝置的輸出端與電加熱管和半導(dǎo)體制冷塊電連接。所述坩堝、冷卻槽、中和槽和清洗裝置均固定設(shè)置在底座上。所述控制裝置為可編程控制器。所述吊籃為不銹鋼吊籃，所述吊籃上設(shè)有蓋。采用了上述技術(shù)方案后，本專利技術(shù)取得的有益效果是:能徹底清除鑄件型腔內(nèi)部殘砂，從而提高鑄件質(zhì)量，能減輕工作人員負(fù)擔(dān)。附圖說(shuō)明圖1是本專利技術(shù)的結(jié)構(gòu)示意圖。具體實(shí)施方式下面結(jié)合實(shí)施例對(duì)本專利技術(shù)作進(jìn)一步說(shuō)明。如圖1所示，高溫堿爆除砂裝置，包括用于盛裝燒堿的坩堝1，所述坩堝I壁內(nèi)設(shè)有空腔2，所述空腔2內(nèi)...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
高溫堿爆除砂裝置，其特征在于：包括用于盛裝燒堿的坩堝，所述坩堝壁內(nèi)設(shè)有空腔，所述空腔內(nèi)設(shè)有電加熱管和第一傳感器；所述坩堝上方活動(dòng)設(shè)有用于盛裝鑄件的吊籃；所述坩堝的一側(cè)設(shè)有盛裝有冷卻液的冷卻槽，所述冷卻槽的下方設(shè)有半導(dǎo)體制冷塊，所述冷卻槽內(nèi)設(shè)有第二傳感器；所述冷卻槽的一側(cè)設(shè)有中和槽；所述中和槽的一側(cè)設(shè)有清洗裝置；所述第一傳感器和第二傳感器分別與控制裝置的輸入端電連接，所述控制裝置的輸出端與電加熱管和半導(dǎo)體制冷塊電連接。
【技術(shù)特征摘要】
1.高溫堿爆除砂裝置，其特征在于:包括用于盛裝燒堿的坩堝，所述坩堝壁內(nèi)設(shè)有空腔，所述空腔內(nèi)設(shè)有電加熱管和第一傳感器； 所述坩堝上方活動(dòng)設(shè)有用于盛裝鑄件的吊籃； 所述坩堝的一側(cè)設(shè)有盛裝有冷卻液的冷卻槽，所述冷卻槽的下方設(shè)有半導(dǎo)體制冷塊，所述冷卻槽內(nèi)設(shè)有第二傳感器； 所述冷卻槽的一側(cè)設(shè)有中和槽； 所述中和槽的一側(cè)設(shè)有清洗裝置； 所述第一傳感器和第二傳感器分...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：曹洪光，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：東營(yíng)恒誠(chéng)機(jī)械有限公司，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：
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