具有納米二氧化硅基涂層的抗反射制品制造技術

本發明專利技術公開了一種制品，所述制品包括具有抗反射結構化表面的透明基材和其上的包含二氧化硅納米粒子的多孔網絡的涂層，其中所述二氧化硅納米粒子粘結至相鄰的二氧化硅納米粒子。

【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】

【技術保護點】

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】...

【專利技術屬性】
技術研發人員：T·J·赫布林克，景乃勇，J·A·賴德爾，
申請(專利權)人：三M創新有限公司，
類型：
國別省市：