【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及一種氣體純化器,特別是純化氫氣、氮氣、惰性氣體、還原性氣體等中含有氧元素的雜質。
技術介紹
半導體工業中,經常需要氫氣、氮氣、惰性氣體(氦、氖、氬、氪、氙)、還原性氣體(砷化氫、磷化氫、氨氣、硅化氫等),并且需要這些氣體具有“超高純度”,尤其是需要具極有低級含量的氧氣、水、二氧化碳、一氧化碳等雜質。市場上的氣體純化器,通常是用鋁、鎂、鋯等“活潑金屬”擔當吸氣劑。當氫氣、氮氣、惰性氣體(氦、氖、氬、氪、氙)、還原性氣體(砷化氫、磷化氫、氨氣、硅化氫等)通過這些活潑金屬時,其中的氧氣、水、二氧化碳、一氧化碳被這些金屬吸收,氣體得到純化。然而這些活潑金屬都是固體,當固體的表面吸收含氧元素后,變成金屬氧化物,在金屬表面結成一層“殼”,這一層“殼”阻礙了固體內部的金屬進一步吸收。金屬招為固體。金屬鎵的熔點為30°C,通常為液體。由于招和鎵都屬于IIIA族元素,兩者相溶性較好。在300°C時,鋁在鎵中的溶解度達到5%以上。提高溫度,鋁在鎵中的溶解度還會增加。當需要純化的氣體通過鎵鋁合金時,氣體中含氧雜質被鋁(一種活潑金屬)吸收,生成鋁的氧化物浮在鎵鋁合金表面,不會象固體材料那樣在表面結成一層“殼”。
技術實現思路
一種氣體純化器,該純化器包含一種鎵鋁合金一由金屬鋁(固體)溶解在金屬鎵(液體)中形成鎵鋁合金(I),該材料放在一個不銹鋼容器(2)中。不銹鋼容器(2)上含有氣體入口(3)和氣體出口(4),氣體入口(3)插入鎵鋁合金(I)中,氣體出口(4)在鎵鋁合金(I)上面。當氣體通過鎵鋁合金(I)中,氣體中的氧氣、水、二氧化碳、一氧化碳等含氧元素的雜質氣體都被 ...
【技術保護點】
一種氣體純化器,其特征在于:該氣體純化器包含一種鎵鋁合金(1),該鎵鋁合金(1)放在一個不銹鋼容器(2)中;不銹鋼容器(2)上有氣體入口(3)和氣體出口(4),氣體入口(3)插入鎵鋁合金(1)中,氣體出口(4)在鎵鋁合金(1)上面;當氣體通過鎵鋁合金(1)時,氣體中的含氧元素的雜質氣體都被該鎵鋁合金(1)吸收;在氣體入口(3)上有一個防鎵鋁合金逆流裝置(5),防止鎵鋁合金(1)逆流而從氣體入口(3)噴出。
【技術特征摘要】
1.一種氣體純化器,其特征在于:該氣體純化器包含一種鎵鋁合金(I),該鎵鋁合金(I)放在一個不銹鋼容器(2)中;不銹鋼容器(2)上有氣體入口(3)和氣體出口(4),氣體入口(3)插入鎵鋁合金(I)中,氣體出口(4)在鎵鋁合金(I)上面;當氣體通過鎵鋁合金(I)時,氣體中的含氧元素的雜質氣體都被該鎵鋁合金(I)吸收;在氣體入口(3)上有一個防鎵鋁合金逆流裝置(5),防止鎵鋁合金(I)逆流而從氣體入口(...
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