用于濕法化學(xué)處理的設(shè)備制造技術(shù)

本實(shí)用新型專利技術(shù)涉及用于濕法化學(xué)處理的設(shè)備，其用于借助處理液對襯底進(jìn)行濕法化學(xué)處理。更準(zhǔn)確地，本實(shí)用新型專利技術(shù)涉及可替換的處理池。用于借助處理液（F）對襯底進(jìn)行濕法化學(xué)處理的設(shè)備包括具有外壁（2）的可替換的處理池（1）、設(shè)置在處理池（1）之下的用于容納從處理池（1）中流出的處理液（F）的容器（5）以及至少兩根偏心軸（9），借助于所述偏心軸（9）將所述處理池（1）通過提升來與所述用于容納的容器（5）分離。（*該技術(shù)在2022年保護(hù)過期，可自由使用*）

Apparatus for wet chemical treatment

The utility model relates to a device used for wet chemical treatment, which is used for wet chemical treatment of substrates by means of processing liquid. More precisely, the utility model relates to a replaceable processing pool. For dealing with the liquid (F) on the substrate by wet chemical processing equipment includes a wall (2) of the alternative treatment tank (1), set in the treatment tank (1) for receiving from under the treatment tank (1) treatment liquid outflow (F) of the container (5) and at least two eccentric shaft (9), by means of the eccentric shaft (9) of the treatment tank (1) through ascension and the accommodating container (5) separation.

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

本技術(shù)涉及一種用于濕法化學(xué)處理的設(shè)備，以用于借助處理液對襯底進(jìn)行濕法化學(xué)處理。更準(zhǔn)確地，本技術(shù)涉及一種可替換的處理池。
技術(shù)介紹
通常使用容納相應(yīng)處理液的處理池來對例如為硅襯底(晶圓)的物體進(jìn)行濕法化學(xué)的處理，所述處理例如涉及對這種襯底進(jìn)行移除(蝕刻)、覆層或清洗。根據(jù)期望的處理，處理液為蝕刻液、覆層液(例如電解液)、或清洗液。隨后，襯底或者成堆疊狀地弓I入到池中(“批量處理”)，或者將所述襯底以連續(xù)式方法運(yùn)輸經(jīng)過處理液或者沿著處理液運(yùn)輸(“連續(xù)式處理”)，其中所述襯底在處理時(shí)間內(nèi)保留于所述池中。例如從US5，000, 827和DE102007020449中已知適合于成堆疊狀地處理襯底的設(shè)備的實(shí)例。所述參考文獻(xiàn)示出用于處理置于反應(yīng)器殼體之上的襯底的所謂的溢流反應(yīng)器。借助于泵輸送的處理液穿過反應(yīng)器殼體向上流動，其中在襯底和反應(yīng)器殼體的上部端部之間設(shè)有一定距離，使得形成構(gòu)造為溢流口的環(huán)形間隙。因?yàn)樵谑褂眠@種處理池時(shí)，處理液穿過反應(yīng)器殼體的上部邊緣從所述反應(yīng)器殼體中流出，通常在池之下存在有用于容納溢出液體的容器。由于工藝順序的改變、由于定期的檢驗(yàn)工作、或者由于要短時(shí)間內(nèi)執(zhí)行的維護(hù)工作，必須能夠替換處理池。對此，通常需要一系列的措施，其中尤其強(qiáng)調(diào)將處理池從用于容納的容器中脫離和可靠地提升池。在此，對池精確地以及謹(jǐn)慎地進(jìn)行提升是期望的。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
因此，本技術(shù)的目的是提供一種設(shè)備，所述設(shè)備實(shí)現(xiàn)對用于濕法化學(xué)工藝的處理池進(jìn)行簡單的以及可靠的替換。在此，尤其期望省時(shí)地、可靠地和盡可能位置精確地提升池或放下(替換)池。此外，解決方案應(yīng)盡是可能低成本的。所述目的通過用于濕法化學(xué)處理的設(shè)備以用于借助處理液對襯底進(jìn)行濕法化學(xué)處理來實(shí)現(xiàn)，所述用于濕法化學(xué)處理的設(shè)備包括:具有外壁的、能夠替換的處理池；設(shè)置在所述處理池之下的、用于容納從所述處理池中流出的處理液的容器；以及至少兩根偏心軸，借助于所述偏心軸能夠通過提升來將所述處理池與所述用于容納的容器分離。其他有利的實(shí)施形式從說明書中以及附圖得出。根據(jù)本技術(shù)的設(shè)備用于借助處理液對襯底進(jìn)行濕法化學(xué)處理。根據(jù)定義，這種處理不僅包括對襯底進(jìn)行化學(xué)移除或覆層，而且包括穿過或沿著所述處理液對襯底進(jìn)行清洗或者僅僅運(yùn)輸。根據(jù)本技術(shù)，設(shè)備包括能夠具有外壁的、可替換的處理池；設(shè)置在處理池之下的、用于容納從處理池中流出的處理液的容器；以及至少兩根偏心軸，借助于所述偏心軸通過提升用于容納的容器能夠分離處理池。優(yōu)選地，處理池能夠在至少兩根偏心軸上在提升位置中移動。根據(jù)一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施形式，在處理池的外壁和用于容納的容器之間的過渡區(qū)域中設(shè)置有基于液體的密封部，通過在過渡區(qū)域中提供液體收集容積部實(shí)現(xiàn)所述密封部的構(gòu)成。為了闡明這種密封部參考參附圖描述。尤其優(yōu)選地，所述液體收集容積部具有小于偏心軸的偏心距的(要垂直地確定的)深度。通過以偏心距的大小提升處理池能夠足夠高地將所述處理池從液體收集容積部的接合區(qū)域中提起，以便能夠無碰撞或歪斜地將所述處理池可靠地移出。這當(dāng)液體收集容積部的深度大于偏心距時(shí)是不可能的；因此，從接合區(qū)域中附加地進(jìn)行提升是必需的。此外優(yōu)選的是，偏心軸從設(shè)備的提取側(cè)朝向與所述提取側(cè)對置的后側(cè)傾斜地延伸。因此，在拉出時(shí)，在然后起到滑軌或?qū)к壸饔玫钠妮S上繼續(xù)提升處理池。對此也參考附圖描述。以這種方式可能的是，無工具地(或者至少用少量工具地)替換處理池，還在較短時(shí)間內(nèi)完成所述替換。隨后，描述利用根據(jù)本技術(shù)的設(shè)備對用于借助處理液對襯底進(jìn)行濕法化學(xué)處理的處理池的替換。為避免重復(fù)可以參考上述實(shí)施形式。這種應(yīng)用包括利用至少兩根偏心軸通過提升來將處理池與用于容納的容器分離的、與替換池有關(guān)的步驟，以及接下來在提升位置中的處理池的移動。為替換處理池，首先在與處理池連接的配合面處通過與所述配合面共同作用的偏心軸的旋轉(zhuǎn)將該處理池提升。隨后，在借助于旋轉(zhuǎn)偏心軸進(jìn)行提升之后，在提升位置中，處理池在所述偏心軸上移動。清楚的是，進(jìn)行所述移動使得將要替換的處理池從處理站的區(qū)域中移出。優(yōu)選地，能夠?qū)⑻幚沓卦诔浞值囊苿又蠓胖迷诔剡\(yùn)輸設(shè)備上。同樣清楚的是，以相反的方式進(jìn)行將同一個(gè)或另一個(gè)處理池裝如到處理站中。因此不相應(yīng)地進(jìn)行描述。因此，本技術(shù)提供一種設(shè)備，借助所述設(shè)備基于借助于偏心軸進(jìn)行的提升可實(shí)現(xiàn)簡單、可靠、快速和低成本地替換用于濕法化學(xué)處理襯底的處理池。附圖說明在圖1中示出用于濕法化學(xué)處理的根據(jù)本技術(shù)的設(shè)備的優(yōu)選的實(shí)施形式的剖面圖。所述設(shè)備在其上部區(qū)域中具有用于例如尤其為平坦襯底的物體(沒有示出)的處理池I。在處理池I中存在處理液F，從所述處理液中連續(xù)地、然而尤其在處理期間能夠流出處理液F，所述處理液在圖1中通過相應(yīng)的箭頭表明(僅部分地設(shè)有附圖標(biāo)記)。具體實(shí)施方式在該實(shí)施形式中，處理池I雙層壁式地構(gòu)成。所述處理池的外壁2和內(nèi)壁3在構(gòu)成中間腔4的情況下相互隔開。溢流的或噴出的處理液能夠通過所述中間腔4向下引出，以便不泄漏到周圍空氣中或不污染周圍環(huán)境U。在處理池I之下設(shè)置有用于容納處理液F的容器5。在示出的實(shí)施形式中，所述容器支承處理池1，并且類似于具有基本上氣密的壁的臺座(包括底板和覆蓋板)構(gòu)成。然而，在朝向處理池下側(cè)的邊界區(qū)域中，用于容納的容器5具有通孔6(僅左側(cè)的通孔設(shè)有附圖標(biāo)記)。處理液F能夠穿過所述通孔6到達(dá)用于容納的容器5的內(nèi)腔7中。從處理池I溢流出的處理液F由于重力S在中間腔4中向下流動并且收集在處理池I的下側(cè)和用于容納的容器5的上側(cè)之間的邊界區(qū)域中。在那里，更準(zhǔn)確地說在處理池I的外壁2和用于容納的容器5之間的過渡區(qū)域中設(shè)置有相對于周圍環(huán)境U屏蔽處理液F的密封部8。所述密封部8是必要的，因此處理液F還保持在設(shè)備的內(nèi)部中，并且不能夠到達(dá)周圍環(huán)境U中。密封部8是液密的。在圖1中僅在細(xì)節(jié)圈K中表明密封部8。尤其優(yōu)選的是，所述密封部構(gòu)成為基于液體的密封部,通過在處理池I的外壁2和用于容納的容器5之間的過渡區(qū)域中提供液體收集容積部(沒有示出)來實(shí)現(xiàn)密封部8的構(gòu)成。根據(jù)本技術(shù)的設(shè)備具有兩根偏心軸9，借助于所述偏心軸能夠通過提升將處理池I與用于容納的容器5分離，并且在偏心軸9上能夠?qū)⑺鎏幚沓卦谔嵘恢弥谐O(shè)備提取側(cè)移動。在示出的視圖中，所述提取側(cè)朝向觀察者。通過將偏心軸9從下沉位置中以優(yōu)選為180度的角度旋轉(zhuǎn)到提升位置中來進(jìn)行所述提升。在此，由于偏心軸9的偏心距，相應(yīng)地指向上的、與處理池I的相應(yīng)的配合面接觸的接觸線到密封部8或用于容納的容器5的上側(cè)的距離也發(fā)生改變。根據(jù)示出的、優(yōu)選的實(shí)施形式，偏心軸9具有偏心距，所述偏心距至少與優(yōu)選存在的液體收集容積部的深度(沒有示出)一致。因此確保，在從下沉位置到提升位置的轉(zhuǎn)換中，將外壁2提升為使得處理池I實(shí)際上能夠自由移動。同樣能夠認(rèn)識到，偏心軸9從提取側(cè)中朝向與所述提取側(cè)對置的(背離觀察者的)后側(cè)傾斜地延伸。因此，在偏心軸9上朝觀察者的方向進(jìn)行滑動期間，繼續(xù)向上提升處理池I。以這種方式也能夠較簡單地將其他的、在圖中沒有示出的連接件(例如，處理池I的進(jìn)水件和/或排水件)與相應(yīng)的配合件分離。尤其優(yōu)選地，所述連接件滑入到彼此中或者從彼此中滑出，使得在替換處理池I時(shí)，取消手動的聯(lián)接和分離。附圖標(biāo)記列表I 處理池2 外壁3 內(nèi)壁4中間腔5用于容納的本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
用于濕法化學(xué)處理的設(shè)備，其設(shè)置用于借助處理液（F）對襯底進(jìn)行濕法化學(xué)處理，所述用于濕法化學(xué)處理的設(shè)備包括：具有外壁（2）的、能夠替換的處理池（1）；設(shè)置在所述處理池（1）之下的用于容納的容器（5），用于容納從所述處理池（1）中流出的處理液（F）；以及至少兩根偏心軸（9），借助于所述偏心軸（9）能夠?qū)⑺鎏幚沓兀?）通過提升來與所述用于容納的容器（5）分離。

【技術(shù)特征摘要】
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【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：約爾格·弗蘭茨克，馬蒂亞斯·尼澤，于爾根·施韋希肯迪克，
申請(專利權(quán))人：睿納有限責(zé)任公司，
類型：實(shí)用新型
國別省市：