一種光阻涂布裝置及其涂布方法制造方法及圖紙

本發(fā)明專利技術提供一種光阻涂布裝置及其涂布方法，其中光阻涂布裝置包括：噴嘴，所述噴嘴包括相對設置的第一噴嘴分體、第二噴嘴分體以及將所述第一噴嘴分體和第二噴嘴分體安裝固定的頂板，所述第一噴嘴分體和第二噴嘴分體之間形成狹縫，在所述第一噴嘴分體的操作面的中部設有第一光阻注入管，所述第一光阻注入管貫穿所述第一噴嘴分體，與所述狹縫連通，在所述第一噴嘴分體的操作面上還設有兩個第二光阻注入管，分別位于所述第一光阻注入管的兩側，所述第二光阻注入管貫穿所述第一噴嘴分體，與所述狹縫連通。通過增設第二光阻注入管，增加了狹縫兩側的光阻注入量，使得吐出的光阻量保持大體一致，從而確保光阻涂布到基板上的均勻度，提高涂布品質。

【技術實現(xiàn)步驟摘要】

本專利技術涉及液晶顯示器制造領域，尤其涉及。
技術介紹
在液晶顯示器IXD的制造過程中，需要使用光阻涂布裝置在玻璃基板上涂上一定厚度的光阻(photo resist).請參照圖1和圖2所示，現(xiàn)有的光阻涂布裝置包括噴嘴I’，該噴嘴I’包括相對設置的第一噴嘴分體11’、第二噴嘴分體12’以及將第一噴嘴分體11’和第二噴嘴分體12’安裝固定的頂板13’，第一噴嘴分體11’和第二噴嘴分體12’之間形成狹縫10’，狹縫10’的底部為光阻吐出口 100’(如圖2所示的陰影部分即為光阻)，第一噴嘴分體11’和第二噴嘴分體12’的底部分別形成椎體。在第一噴嘴分體11’的操作面111’的中部設有光阻注入管112’，在光阻注入管112’的上方還設有排泡管113’，此外，在操作面111’的兩側也分別設有排泡管113’，排泡管113’用于將光阻注入時可能產生的氣泡排出。光阻注入管112’和排泡管113’均貫穿第一噴嘴分體11’，與狹縫10’連通。在光阻注入管112’與狹縫10’相接處，設有空腔110’，設在第一噴嘴分體11’中部的排泡管113’也與該空腔110’連通。再請參照圖3所示，為光阻涂布時狹縫10’區(qū)域光阻流動狀況示意圖。光阻流動方向如圖中箭頭所示。當進行涂布時，來自光阻注入泵(Pump)的光阻通過光阻注入管112’注入，在涂布開始階段，光阻注入泵處于加速狀態(tài)，光阻流速受泵力作用也處于加速狀態(tài)，在光阻注入管112’附近壓力較大，光阻向兩側流動，光阻充滿整個光阻注入?yún)^(qū)，光阻注入?yún)^(qū)呈錐形分布。光阻滲透區(qū)位于狹縫10’底部，光阻通過光阻吐出口 100’吐出，涂布到基板上。上述光阻涂布裝置 及方式的缺陷在于，由于在中部注入光阻，在光阻注入管112’附近壓力較大，經過光阻滲透區(qū)吐出(例如從圖1、圖3所示C處周圍吐出)的光阻量相對較大，而兩側由于壓差關系，壓力較小，經過光阻滲透區(qū)吐出(例如從圖1、圖3所示A、B處周圍吐出)的光阻量相對較小，造成的后果就是，使涂布到基板上的光阻均勻度較差，降低了涂布品質。
技術實現(xiàn)思路
本專利技術所要解決的技術問題在于，提供一種提高光阻涂布均勻度和品質的光阻涂布裝置及其涂布方法。為了解決上述技術問題，本專利技術提供一種光阻涂布裝置，包括:噴嘴，所述噴嘴包括相對設置的第一噴嘴分體、第二噴嘴分體以及將所述第一噴嘴分體和第二噴嘴分體安裝固定的頂板，所述第一噴嘴分體和第二噴嘴分體之間形成狹縫，在所述第一噴嘴分體的操作面的中部設有第一光阻注入管，所述第一光阻注入管貫穿所述第一噴嘴分體，與所述狹縫連通，在所述第一噴嘴分體的操作面上還設有兩個第二光阻注入管，分別位于所述第一光阻注入管的兩側，所述第二光阻注入管貫穿所述第一噴嘴分體，與所述狹縫連通。其中，所述第二光阻注入管的口徑小于所述第一光阻注入管。其中，所述第二光阻注入管上設有控制閥，用于控制所述第二光阻注入管內光阻的流量。其中，所述第一光阻注入管和第二光阻注入管均連接到光阻注入泵上。其中，所述第一光阻注入管和第二光阻注入管的上方均分別設有用于排出氣泡的排泡管。其中，在所述第一光阻注入管與所述狹縫連通處，設有第一空腔，設在所述第一光阻注入管上方的排泡管貫穿所述第一噴嘴分體，與所述第一空腔連通。其中，在所述第二光阻注入管與所述狹縫連通處，設有第二空腔，設在所述第二光阻注入管上方的排泡管貫穿所述第一噴嘴分體，與所述第二空腔連通。本專利技術還提供一種光阻涂布裝置的涂布方法，所述光阻涂布裝置包括噴嘴，所述噴嘴包括相對設置的第一噴嘴分體、第二噴嘴分體以及將所述第一噴嘴分體和第二噴嘴分體安裝固定的頂板，所述第一噴嘴分體和第二噴嘴分體之間形成狹縫，在所述第一噴嘴分體的操作面的中部設有第一光阻注入管，所述第一光阻注入管貫穿所述第一噴嘴分體，與所述狹縫連通；在所述第一噴嘴分體的操作面上還設有兩個第二光阻注入管，分別位于所述第一光阻注入管的兩側，所述第二光阻注入管貫穿所述第一噴嘴分體，與所述狹縫連通；所述第一光阻注入管和第二光阻注入管均連接到光阻注入泵上；所述第二光阻注入管上設有控制閥，用于控制所述第二光阻注入管內光阻的流量；所述涂布方法包括: 在光阻注入泵的加速階段，同時通過所述第一光阻注入管和第二光阻注入管注入光阻； 在光阻注入泵的穩(wěn)定階段·，逐漸閉合所述第二光阻注入管上的控制閥直至所述控制閥完全關閉； 在光阻注入泵的減速階段，關閉所述控制閥。其中，在光阻注入泵的加速階段，控制所述第二光阻注入管內光阻的流量，使通過所述第二光阻注入管注入的光阻量小于通過所述第一光阻注入管注入的光阻量。本專利技術所提供的光阻涂布裝置及其涂布方法，通過增設第二光阻注入管，增加了狹縫兩側的光阻注入量，彌補因中部與兩側的壓力差帶來的相應注入光阻量的較大差距，使得從光阻滲透區(qū)經由光阻吐出口吐出的光阻量，不管是在中間位置，還是兩側位置均能保持大體一致，從而確保光阻涂布到基板上的均勻度，提高涂布品質。附圖說明為了更清楚地說明本專利技術實施例或現(xiàn)有技術中的技術方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本專利技術的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖1是現(xiàn)有光阻涂布裝置的立體結構示意圖。圖2是現(xiàn)有光阻涂布裝置在中部位置的側面剖視示意圖。圖3是現(xiàn)有光阻涂布裝置在光阻涂布時狹縫10’區(qū)域的光阻流動狀況示意圖。圖4是本專利技術實施例一光阻涂布裝置的立體結構示意圖。圖5是本專利技術實施例一光阻涂布裝置在中部位置的側面剖視示意圖。圖6是本專利技術實施例一光阻涂布裝置在兩側位置的側面剖視示意圖。圖7是本專利技術實施例一光阻涂布裝置在光阻涂布時狹縫10區(qū)域的光阻流動狀況示意圖。圖8是本專利技術實施例一光阻涂布裝置與現(xiàn)有光阻涂布裝置在涂布加速階段吐出光阻量分布的對比示意圖。圖9是本專利技術實施例一光阻涂布裝置的控制閥開度時序示意圖。圖10是本專利技術實施例二光阻涂布裝置的涂布方法的流程示意圖。具體實施例方式下面參考附圖對本專利技術的優(yōu)選實施例進行描述。請參照圖4所示，本專利技術實施例一提供一種光阻涂布裝置，包括噴嘴1，該噴嘴I包括相對設置的第一噴嘴分體11、第二噴嘴分體12以及將第一噴嘴分體11和第二噴嘴分體12安裝固定的頂板13，第一噴嘴分體11和第二噴嘴分體12之間形成狹縫10，狹縫10的底部為光阻吐出口 100，第一噴嘴分體11和第二噴嘴分體12的底部分別形成椎體。在第一噴嘴分體11的操作面111的中部設有第一光阻注入管112，在第一噴嘴分體11的操作面111上，還設有兩個第二光阻注入管114，分別位于第一光阻注入管112的兩側。在第一光阻注入管112和第二光阻注入管114的上方分別設有排泡管113，用于將光阻注入時可能產生的氣泡排出。第一光阻注入管112和第二光阻注入管114均連接到光阻注入泵(未圖示)上。 請再參照圖5及圖6所示，第一光阻注入管112和設置在其上方排泡管113均貫穿第一噴嘴分體11，與狹縫10連通。在第一光阻注入管112與狹縫10連通處，設有第一空腔110，設在第一光阻注入管112上方的排泡管113也與該第一空腔110連通。第二光阻注入管114和設置在其上方的排泡管113均貫穿第一噴嘴分體11，與狹縫10連通。在第二光阻注本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術保護點】
一種光阻涂布裝置，包括：噴嘴，所述噴嘴包括相對設置的第一噴嘴分體、第二噴嘴分體以及將所述第一噴嘴分體和第二噴嘴分體安裝固定的頂板，所述第一噴嘴分體和第二噴嘴分體之間形成狹縫，在所述第一噴嘴分體的操作面的中部設有第一光阻注入管，所述第一光阻注入管貫穿所述第一噴嘴分體，與所述狹縫連通，其特征在于，在所述第一噴嘴分體的操作面上還設有兩個第二光阻注入管，分別位于所述第一光阻注入管的兩側，所述第二光阻注入管貫穿所述第一噴嘴分體，與所述狹縫連通。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員：徐彬，柯智勝，
申請(專利權)人：深圳市華星光電技術有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：