本實用新型專利技術涉及一種鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝,主要適用于磁控濺射鍍膜設備技術領域。本實用新型專利技術包括主干框架,主干框架上設置至少一個架設基片的架設單元,架設單元包括遮擋片、遮擋片固定梁和被鍍膜片支撐固定架,遮擋片固定梁的兩端固定在主干框架上,遮擋片通過所述固定孔與遮擋片固定梁固定,被鍍膜片支撐固定架位于主干框架的非鍍膜面的同一側,被鍍膜片支撐固定架的一端通過轉軸與主干框架活動連接,遮擋片的邊緣與所述架設單元的邊緣之間有一圈間隙。本實用新型專利技術結構設計合理,使用方便,可實現鍍外緣全封閉帶,鍍膜精確度高,成膜位置準確,邊緣清晰無陰影,可鍍任意形狀的外緣全封閉的鍍膜帶,成本較低。(*該技術在2023年保護過期,可自由使用*)
【技術實現步驟摘要】
本技術涉及一種鍍膜工裝,特別是涉及一種鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝,主要適用于磁控濺射鍍膜設備
技術介紹
目前磁控濺射鍍膜是屬于PVD鍍膜方式的一個分支,該鍍膜法是指,在真空環境下,通過電壓和磁場的共同作用,以被離化的惰性氣體離子對靶材進行轟擊,致使靶材以離子、原子或分子的形式被彈出并沉積在基件上形成薄膜,由于磁控濺射鍍膜機技術具有,成膜工藝處理溫度低,瞬間溫度不超過20(TC,不會熱灼傷被鍍件,結合強度高,不污染環境,被廣泛運用于汽車反光鏡、手機面板、汽車內外飾件的鍍膜。由于鍍膜產品的多樣性決定,需要對產品進行部分區域鍍膜,而通常使用的遮蔽式鍍膜工裝,往往只實現中間部分鍍膜邊緣部分遮蔽的形式,要實現邊緣部分鍍膜中間部分遮蔽,通常會選用貼PET薄膜遮蔽,鍍膜后再移除,或者使用絲網印刷涂覆遮蔽非鍍膜區域,鍍膜后再除去涂膠,而以上兩種方式成本高,輪廓度偏離大,邊緣難以平滑,工藝流程長,增加了不良品產生的幾率。如,中國專利公開了公開號為CN202430282U的一種新型的磁控濺射鍍膜基片夾具,該新型的磁控濺射鍍膜基片夾具為鏤空框架結構,所述鏤空框架底部為鏤空擋板,覆蓋基片背面四邊,所述鏤空擋板內表面四個角上用螺絲固定安裝四個同樣大小的墊子,所述鏤空框架正上端設置有一擋板。該新型的磁控濺射鍍膜基片夾具遮擋邊緣部分,無法進行外緣全封閉帶的鍍膜。
技術實現思路
本技術的目的在于克服現有技術中存在的上述不足,而提供一種結構設計合理,使用方便,可實現鍍外緣全封閉帶,鍍膜精確度高,成膜位置準確,邊緣清晰無陰影,可鍍任意形狀的外緣全封閉的鍍膜帶,成本較低的鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝。本技術解決上述問題所采用的技術方案是:該鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝,包括主干框架,主干框架上設置至少一個架設基片的架設單元,所述架設單元包括遮擋片、遮擋片固定梁和被鍍膜片支撐固定架,所述遮擋片固定梁的兩端固定在主干框架上,該遮擋片固定梁位于主干框架的鍍膜面,所述遮擋片上設置有固定孔,遮擋片通過所述固定孔與遮擋片固定梁固定,遮擋片與主干框架平行,所述被鍍膜片支撐固定架位于主干框架的非鍍膜面的同一側,該被鍍膜片支撐固定架的一端通過轉軸與主干框架活動連接,所述主干框架上設有卡座,被鍍膜片支撐固定架的另一端與卡座相配合,所述被鍍膜片支撐固定架位于架設單元的上方,所述遮擋片的邊緣與所述架設單元的邊緣之間有一圈間隙。遮擋片用于遮蔽被鍍膜片的被鍍面的非鍍膜部分,遮擋片固定梁用于固定遮擋片,被鍍膜片支撐固定架用于固定被鍍膜片的位置,豎鍍時可防止被鍍膜片移動,遮擋片的邊緣與所述架設單元的邊緣之間的一圈間隙使被鍍膜片的鍍膜部分裸露。本技術每個架設單元還包括至少三個被鍍膜片基準定位支撐點,所述被鍍膜片基準定位支撐點位于架設單元的邊緣。被鍍膜片基準定位支撐點主要起到定位被鍍膜片的作用。本技術所述遮擋片的邊緣用CNC或慢走絲加工,表面粗糙度Ra=0.8 μ m以下,遮擋片的固定孔與輪廓一次裝夾,確保位置度小于0.05_,遮擋片的雙面經過平面磨床加工,遮擋片與被鍍膜片的貼合面的平面度小于0.05。使外緣全封閉帶成膜位置準確,邊緣清晰無陰影。本技術所述遮擋片固定梁與被鍍膜片的被鍍面的距離> 28mm,該遮擋片固定梁的寬度< 6.5_??蓪崿F磁控濺射鍍膜機靶材通過氬離子轟擊后,鍍膜材料被均勻濺落在鍍膜區域。本技術所述遮擋片固定梁的兩端的棱角處設有兩個1.6X45°的倒角??商嵘潭合路降牟A雍穸鹊木鶆蛐?。本技術所述架設單元的邊緣與被鍍膜片的間隙< 1.27_。防止被鍍膜片的邊沿由于繞射效應也會被鍍上膜層,影響產品檔次和外觀。本技術所述遮擋片與主干框架的鍍膜一側的平面之間的距離為12_。用于消除繞射的膜層沉降。主干框架的鍍膜一側即遮擋片所在的一側。作為優選,架設單元為六個。本技術與現有技術相比,具有以下優點和效果:結構設計合理,使用方便,可鍍任意形狀的外緣全封閉的鍍膜帶,遮擋片用于遮蔽被鍍膜片的被鍍面的非鍍膜部分,遮擋片固定梁用于固定遮擋片,被鍍膜片支撐固定架用于固定被鍍膜片的位置,豎鍍時可防止被鍍膜片移動,遮擋片的邊緣與架設單元的邊緣之間的一圈間隙使被鍍膜片的鍍膜部分裸露,可實現鍍外緣全封閉帶,鍍膜精確度高,成膜位置準確,邊緣清晰無陰影,被鍍膜片基準定位支撐點主要起到定位被鍍膜片的作用,另外可防止擦傷磁控濺射鍍膜機內的玻璃,遮擋片與主干框架的鍍膜一 側的平面之間的距離為12_,可消除繞射的膜層沉降,成本較低,適用于橫鍍和豎鍍兩種腔體。附圖說明圖1是本技術實施例的鍍膜面的結構示意圖。圖2是本技術實施例的非鍍膜面的結構示意圖。圖3是本技術實施例被鍍膜片被鍍面的結構示意圖。標號說明:遮擋片1、遮擋片固定梁2、被鍍膜片基準定位支撐點3、主干框架4、被鍍膜片支撐固定架5、被鍍膜片6、鍍膜部分61和非鍍膜部分62。具體實施方式以下結合附圖并通過實施例對本技術作進一步的詳細說明,以下實施例是對本技術的解釋而本技術并不局限于以下實施例。參見圖1至圖3,本實施例包括主干框架4和三條被鍍膜片支撐固定架5,主干框架4上設置有六個架設單元,六個架設單元以2X3的形式排列。本實施例一個架設單元包括遮擋片1、遮擋片固定梁2、被鍍膜片基準定位支撐點3。本實施例每個架設單元對應兩個遮擋片固定梁2,兩個遮擋片固定梁2平行設置,遮擋片固定梁2的兩端固定在主干框架4上,遮擋片固定梁2位于主干框架4的鍍膜面,遮擋片I上設置有四個固定孔,遮擋片I通過固定孔與遮擋片固定梁2固定,遮擋片I與主干框架4平行。遮擋片I的邊緣與所述架設單元的邊緣之間有一圈間隙,使被鍍膜片6的鍍膜部分61裸露,遮擋片I用于遮蔽被鍍膜片6的被鍍面的非鍍膜部分62。本實施例被鍍膜片支撐固定架5位于主干框架4的非鍍膜面,被鍍膜片支撐固定架5的一端通過轉軸與主干框架4活動連接,主干框架4上設有卡座,被鍍膜片支撐固定架5的另一端與卡座相配合,被鍍膜片支撐固定架5位于兩個架設單元的上方,此處所述的“上方”為橫鍍時,本實施例所呈現的狀態限定的方向,三個被鍍膜片支撐固定架5平行設置。本實施例架設單元還包括每個架設單元對應九個被鍍膜片基準定位支撐點3,被鍍膜片基準定位支撐點3位于架設單元的邊緣。本實施例遮擋片I的邊緣用CNC或慢走絲加工,表面粗糙度Ra=0.8 μ m以下,遮擋片I的固定孔與輪廓一次裝夾,確保位置度小于0.05_,遮擋片I的雙面經過平面磨床加工,遮擋片I與被鍍膜片6的貼合面的平面度小于0.05。CNC為“計算機數字控制機床”的英文縮寫。本實施例遮擋片固定梁2與被鍍面距離> 28mm,該遮擋片固定梁2的寬度<6.5_,遮擋片固定梁2的兩端的棱角處設有兩個1.6X45°的倒角。架設單元的邊緣與被鍍膜片6的間隙彡1.27mm。遮擋片I與主干框架4的鍍膜面之間的距離為12mm。使用時,將被鍍膜片支撐固定架5打開,用無痕吸盤吸住被鍍膜片6的非鍍膜面,將被鍍膜片6緊貼遮擋片I放置,遮擋片I遮住被鍍膜片6上的非鍍膜部分62,利用被鍍膜片基準定位支撐 點3固定被鍍膜片6。然后將被鍍膜片支撐固定架5合上,固定住被鍍膜片6。再將本鍍外緣全封閉帶的鍍本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種鍍外緣全封閉帶的鍍膜工裝,包括主干框架,主干框架上設置至少一個架設基片的架設單元,其特征在于:所述架設單元包括遮擋片、遮擋片固定梁和被鍍膜片支撐固定架,所述遮擋片固定梁的兩端固定在主干框架上,該遮擋片固定梁位于主干框架的鍍膜面,所述遮擋片上設置有固定孔,遮擋片通過所述固定孔與遮擋片固定梁固定,遮擋片與主干框架平行,所述被鍍膜片支撐固定架位于主干框架的非鍍膜面的同一側,該被鍍膜片支撐固定架的一端通過轉軸與主干框架活動連接,所述主干框架上設有卡座,被鍍膜片支撐固定架的另一端與卡座相配合,所述被鍍膜片支撐固定架位于架設單元的上方,所述遮擋片的邊緣與所述架設單元的邊緣之間有一圈間隙。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員:趙禮,李志忠,
申請(專利權)人:浙江藍特光學股份有限公司,
類型:實用新型
國別省市:
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