一種增透濾光片制造技術

本實用新型專利技術公開了一種增透濾光片，涉及濾光片技術領域。本實用新型專利技術包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的7層增透膜，該7層增透膜由低折射率的二氧化硅SiO2膜層和高折射率的二氧化鈦TiO2膜層多次交替堆疊組成。本實用新型專利技術在380-700nm的可見光波段，其平均反射率低于1%，其可見光透過率非常高，不易產行干擾問題；能廣泛應用于數碼像機、數碼錄像機、監控用攝像機、電腦攝像頭、手機攝像、可視電話、電子玩具等CCD或CMOS成像系統設備領域，且能滿足高精密成像設備對增透濾光片的要求。（*該技術在2023年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

本技術涉及一種濾光片，特別涉及一種能有效增加可見光透過率的增透濾光片。
技術介紹
目前，濾光片之透明玻璃基片的可見光透過率只有92%，而剩下的8%則被透明玻璃基片本身反射掉。在可拍照手機攝像頭、電腦內置攝像頭、汽車攝像頭等數碼成像領域，如果不對濾光片進行增透處理，則(XD/CM0S成像會很差，因此，濾光片的透明玻璃基片上通常都鍍有增透膜，用以增加可見光透過率。可見光主要包括紅光、橙光、黃光、綠光、藍光、紫光，在現有技術中，增透濾光片一般只能對綠光、黃光和藍光進行增透處理，而不能對紅光、橙光和紫光進行有效的增透，因而其增透范圍較窄；再者，現有技術中增透濾光片的增透膜易對IR功能膜(如紅外截止功能膜)產生光干擾問題，因而，不能滿足高精密成像設備的要求。
技術實現思路
本技術要解決的技術問題是針對上述現有技術的不足，提供一種不易產生光干擾問題，能對較寬范圍內的可見光進行有效增透，且在380-700nm的可見光波段，其平均反射率低于1%的增透濾光片。為解決上述技術問題，本技術的技術方案是:一種增透濾光片，包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的7層增透膜，該7層增透膜由低折射率的二氧化硅SiO2膜層和高折射率的二氧化鈦TiO2膜層多次交替堆疊組成，該7層增透膜從內至外依次為:第I層，SiO2膜層，厚度為175.5-176nm ;第2層，TiO2膜層，厚度為12.5-12.8nm ;第3層，SiO2膜層，厚度為31.5-32nm ;第4層，TiO2膜層，厚度為68-68.49nm ;第5層，SiO2膜層，厚度為4-4.3nm ;第6層，TiO2膜層，厚度為34-34.4nm ;第7層，SiO2膜層，厚度為85.5_86nm。本技術增透濾光片的制造工藝包括:將透明玻璃基板置于精密真空鍍膜機中，然后設定好膜層厚度參數，最后通過真空鍍膜(例如蒸鍍)方式形成所述的7層增透膜。鍍膜之后的增透濾光片在380-700nm的可見光波段，其平均反射率低于1%。本技術的有益效果是:本技術具有7層增透膜，在380_700nm的可見光波段，其平均反射率低于1%，其可見光透過率非常高，不易干擾到功能膜(如紅外截止功能膜)；本技術能廣泛應用于數碼像機、數碼錄像機、監控用攝像機、電腦攝像頭、手機攝像、可視電話、電子玩具等CCD或CMOS成像系統設備領域，且能滿足高精密成像設備對增透濾光片的要求。附圖說明圖1為本技術增透濾光片的整體結構示意圖。圖2為本技術增透濾光片進行光線透射測試的反射率特性圖。具體實施方式以下結合附圖對本技術的結構原理和工作原理作進一步詳細說明。如圖1所示，在該具體實施方式中，該增透濾光片100包括透明玻璃基板I及透明玻璃基板I上的7層增透膜2，該7層增透膜2由低折射率的二氧化硅SiO2膜層21和高折射率的二氧化鈦TiO2膜層22多次交替堆疊組成，該7層增透膜2從內至外依次為:第I層，SiO2膜層，厚度為175.5-176nm ;第2層，TiO2膜層，厚度為12.5-12.8nm ;第3層，SiO2膜層，厚度為31.5-32nm ;第4層，TiO2膜層，厚度為68-68.49nm ;第5層，SiO2膜層，厚度為4-4.3nm ;第6層，TiO2膜層，厚度為34-34.4nm ;第7層，SiO2膜層，厚度為85.5_86nm。 在上述技術方案中，二氧化鈦膜層22和二氧化硅膜層21通過真空鍍膜(如真空蒸鍍)方式形成于透明玻璃基板之上，二氧化鈦膜層22和二氧化硅膜層21的層數和厚度是根據二氧化鈦及二氧化硅的折射率，經大量計算而得出的，二氧化鈦具有較高折射率，其在部分光線波段中的折射率參見表一 ；二氧化娃具有較低折射率，其在部分光線波段中的折射率參見表二。表一、二氧化鈦在部分光線波段中的折射率:權利要求1.一種增透濾光片，其特征在于:包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的7層增透膜，該7層增透膜由低折射率的二氧化硅SiO2膜層和高折射率的二氧化鈦TiO2膜層多次交替堆疊組成，該7層增透膜從內至外依次為:第I層，SiO2膜層，厚度為175.5-176nm;第2層，TiO2膜層，厚度為12.5-12.8nm ;第3層，SiO2膜層，厚度為31.5_32nm ;第4層，TiO2膜層，厚度為68-68.49nm ;第5層，SiO2膜層，厚度為4-4.3nm ;第6層，TiO2膜層，厚度為34-34.4nm ；第7層，SiO2膜層，厚度為85.5-86nm。2.根據權利要求1所述的增透濾光片，其特征在于:所述7層增透膜的厚度依次為:第I 層，175.584nm ;第 2 層，12.513nm ’第 3 層，31.753nm ;第 4 層，68.433nm ;第 5 層，4.064nm ；第 6 層，34.366nm ;第 7 層，85.808nm。3.根據權利要求1或2所述的增透濾光片，其特征在于:所述透明玻璃基板為光學玻璃基板D263T。4.根據權利要求3所述的增透濾光片，其特征在于:所述光學玻璃基板D263T的厚度為 0.145mm 或 0.21mm 或· 0.3mm 或 0.4mm 或 0.55mm。專利摘要本技術公開了一種增透濾光片，涉及濾光片
本技術包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的7層增透膜，該7層增透膜由低折射率的二氧化硅SiO2膜層和高折射率的二氧化鈦TiO2膜層多次交替堆疊組成。本技術在380-700nm的可見光波段，其平均反射率低于1%，其可見光透過率非常高，不易產行干擾問題；能廣泛應用于數碼像機、數碼錄像機、監控用攝像機、電腦攝像頭、手機攝像、可視電話、電子玩具等CCD或CMOS成像系統設備領域，且能滿足高精密成像設備對增透濾光片的要求。文檔編號G02B1/11GK203164459SQ20132007588公開日2013年8月28日 申請日期2013年2月19日 優先權日2013年2月19日專利技術者奐微微, 黃興橋 申請人:東莞五方光電科技有限公司本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種增透濾光片，其特征在于：包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的7層增透膜，該7層增透膜由低折射率的二氧化硅SiO2膜層和高折射率的二氧化鈦TiO2膜層多次交替堆疊組成，該7層增透膜從內至外依次為：第1層，SiO2膜層，厚度為175.5?176nm；第2層，TiO2膜層，厚度為12.5?12.8nm；第3層，SiO2膜層，厚度為31.5?32nm；第4層，TiO2膜層，厚度為68?68.49nm；第5層，SiO2膜層，厚度為4?4.3nm；第6層，TiO2膜層，厚度為34?34.4nm；第7層，SiO2膜層，厚度為85.5?86nm。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：奐微微，黃興橋，
申請(專利權)人：東莞五方光電科技有限公司，
類型：實用新型
國別省市：