墊片掩蔽模版制造技術

一種用來保護待研磨的高出斑點周圍的表面的掩蔽模版，由于其最小厚度和對研磨行為的耐受性，所述掩蔽模版允許研磨劑在所述模版上方工作，從而達到在模版去除之后用充分精細的研磨劑來完成工藝的要求，并減少對周圍表面的損害。

【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】

【技術保護點】

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】...

【專利技術屬性】
技術研發人員：A·威爾金森，
申請(專利權)人：A·威爾金森，
類型：
國別省市：