磁控濺射設備及其靶臺制造技術

一種靶臺，用于在襯底上通過磁控濺射法形成薄膜，包括靶材、金屬支板、陽極板、陰極板及擋片；所述靶材固定于與所述襯底相對的位置；所述支板圍繞于所述靶材周圍并與所述靶材相對于所述襯底的面相垂直，同時與靶材的側面形成間隙；所述陽極板垂直固定于所述支板上，所述陽極板位于所述靶材和襯底之間，且位于襯底上接收濺射粒子的面積之外；陰極板固定于所述靶材之下；所述擋片設置于所述靶材的周緣，并遮蓋所述支板與所述靶材的側面之間的間隙。上述磁控濺射設備中，擋片能夠阻擋并承接下落的碎屑，延長了短路維護周期，降低了維護成本。同時還提供了一種使用上述靶臺的磁控濺射設備。（*該技術在2023年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

【技術保護點】
一種靶臺，用于在襯底上通過磁控濺射法形成薄膜，其特征在于，包括：靶材，固定于與所述襯底相對的位置；支板，圍繞于所述靶材周圍并與所述靶材相對于所述襯底的面相垂直，同時與所述靶材的側面形成間隙；陽極板，垂直固定于所述支板上，所述陽極板位于所述靶材和襯底之間，且位于襯底上接收濺射粒子的面積之外；陰極板，固定于所述靶材之下，所述陰極板可與所述陽極板之間形成強電場；所述陰極板的側面與所述支板之間形成間隙；及擋片，設置于所述靶材的周緣，并遮蓋所述支板與所述靶材的側面之間的間隙。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：陳昊，羅海林，賀凡，肖旭東，顧光一，
申請(專利權)人：深圳先進技術研究院，香港中文大學，
類型：實用新型
國別省市：