一種用于晶片的超聲波清洗裝置制造方法及圖紙

本實用新型專利技術公開了一種用于晶片的超聲波清洗裝置，包括超聲波清洗槽和固定在清洗槽上的提拉轉片裝置，所述提拉轉片裝置包括與清洗槽兩側固定連接的縱向導向柱、提升支架和片盒，所述提升支架兩側穿設在縱向導向柱上，所述片盒固定在提升支架下端，片盒下方還設有轉軸。該清洗裝置能同時上下提拉和轉動藍寶石晶片，使晶片相對于超聲波波源和片盒做相對運動，有效解決因駐波和晶片表面清洗死角產生的晶片表面色差問題。（*該技術在2023年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

【技術保護點】
一種用于晶片的超聲波清洗裝置，包括超聲波清洗槽(1)和固定在超聲波清洗槽(1)上的提拉轉片裝置，其特征在于：所述提拉轉片裝置包括與超聲波清洗槽(1)兩側固定連接的縱向導向柱(2)、提升支架(3)和片盒(4)，所述提升支架(3)兩側穿設在縱向導向柱(2)上，所述片盒(4)固定在提升支架(3)下端，片盒(4)下方還設有轉軸(5)。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：崔景濤，梁浩，方建雄，李呼相，吳魯，
申請(專利權)人：蘇州海鉑晶體有限公司，
類型：實用新型
國別省市：