【技術實現步驟摘要】
【技術保護點】
一種研磨液，其為含有研磨粒、第1添加劑和水的CMP用研磨液，所述第1添加劑為4－吡喃酮系化合物，該4－吡喃酮系化合物為下述通式（1）所表示的化合物，式中，X11、X12和X13各自獨立地為氫原子或1價的取代基，其中，所述研磨粒包含具有晶界的多晶氧化鈰。FDA00003363160200011.jpg
【技術特征摘要】
...
【專利技術屬性】
技術研發人員：佐藤英一，太田宗宏，茅根環司，野部茂，榎本和宏，木村忠廣，深澤正人，羽廣昌信，星陽介，
申請(專利權)人：日立化成工業株式會社，
類型：發明
國別省市：
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