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    一種基于外延技術的三維集成功率半導體制造技術

    技術編號:9232274 閱讀:220 留言:0更新日期:2013-10-04 22:53
    本實用新型專利技術公開了一種基于外延技術的三維集成功率半導體,集成的大功率器件是VDMOS,集成功率半導體從下至上依次包括重摻雜N型硅片、第一層輕摻雜N型外延層、第二層輕摻雜N型外延層和第三層輕摻雜N型外延層,第二層輕摻雜N型外延層和第三層輕摻雜N型外延層之間包含P_bulk層,P_bulk層上方的第三層輕摻雜N型外延層中包含PBL、P_sink區和N_sink區,第二、三層輕摻雜N型外延層中有填充槽,槽內為填充介質。本實用新型專利技術滿足橫向介質隔離、縱向結隔離,高集成度,低隔離島之間漏電流。(*該技術在2023年保護過期,可自由使用*)

    【技術實現步驟摘要】

    【技術保護點】
    一種基于外延技術的三維集成功率半導體,其特征在于:所述集成功率半導體從下至上依次包括重摻雜N型硅片、第一層輕摻雜N型外延層、第二層輕摻雜N型外延層和第三層輕摻雜N型外延層,第二層輕摻雜N型外延層和第三層輕摻雜N型外延層之間包含P_bulk層,P_bulk層上方的第三層輕摻雜N型外延層中包含PBL、P_sink區和N_sink區,第二、三層輕摻雜N型外延層中有填充槽,槽內為填充介質。

    【技術特征摘要】

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:傅興華馬奎,楊發順,林潔馨
    申請(專利權)人:貴州大學,
    類型:實用新型
    國別省市:

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