【技術實現步驟摘要】
【技術保護點】
一種基板處理裝置,該基板處理裝置包括:室,其設有在其中執行處理的空間;支撐件,其在所述室中支撐基板;氣體供給件,其將處理氣體供給到布置在所述支撐件上的所述基板上;以及排氣組件,其與所述室耦合以排放所述室中的氣體,其中所述排氣組件包括:排氣管,其連接到所述室;排氣室,其連接到所述排氣管以在所述排氣管中提供真空壓力;閥,其調節所述排氣管的開口率;以及調節板,其具有設置在所述室中的覆蓋板,以當所述排氣管部分地打開時,在與所述排氣管的打開區域相對應的方向上干擾在所述室的內部區域中的所述處理氣體的流動。
【技術特征摘要】
...
還沒有人留言評論。發表了對其他瀏覽者有用的留言會獲得科技券。