一種二極管生產用真空吸盤制造技術

本實用新型專利技術涉及一種二極管生產用真空吸盤，具有相連接的頂板和底板，所述頂板上開有真空吸孔，真空吸孔連接頂板內部的真空通道；所述頂板和底板之間具有真空腔；所述真空吸盤的側面設置有抽真空吸嘴。本實用新型專利技術采用真空吸盤定位運送芯片，取代手工操作，大大提高生產效率，節省人力物力；采用雙側抽真空吸嘴，使用時吸力更加均勻，更高效穩定；合理設置螺栓等間距使得真空吸盤更加穩定可靠。（*該技術在2023年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

【技術保護點】
一種二極管生產用真空吸盤，具有相連接的頂板（1）和底板（2），所述頂板（1）上開有真空吸孔（3），真空吸孔連接頂板（1）內部的真空通道（4）；所述頂板（1）和底板（2）之間具有真空腔（5）；所述真空吸盤的側面設置有抽真空吸嘴（6）。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：黃欽，王平，
申請(專利權)人：常州廣達電子有限公司，
類型：實用新型
國別省市：