一種化學鍍Ni-P納米疊層膜及其制備方法技術

本發明專利技術涉及疊層膜的制備技術，具體為一種具有優良耐磨、耐腐蝕性能并且可抑制裂紋產生和擴展的化學鍍Ni-P納米疊層鍍膜及其制備方法。本發明專利技術采用化學鍍工藝并間歇式周期性導入超聲波的技術，制備Ni-P納米疊層鍍膜，其制備方法：經過除油、凈化處理的金屬基底材料，進行化學鍍Ni-P納米疊層鍍膜，當Ni-P納米疊層鍍膜達到所需要的厚度時，取出清洗干凈并進行干燥后，即可得到制好的化學鍍Ni-P納米疊層鍍膜，其單層厚度在50-500納米，總厚度在4-50微米范圍內根據實際需求可以進行調整。

【技術實現步驟摘要】

【技術保護點】
一種化學鍍Ni?P納米疊層膜，其特征在于：納米疊層鍍膜是在化學鍍工藝過程中通過間歇式周期性引入超聲波信號于化學鍍溶液中，在金屬基底材料上沉積Ni?P納米疊層鍍膜，獲得的Ni?P納米疊層鍍膜呈層狀重復堆積結構，納米疊層鍍膜的單層厚度在50?500納米范圍內，總厚度在4?50微米范圍內根據實際需求進行調整。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：于志明，胡家秀，趙健，牛云松，
申請(專利權)人：中國科學院金屬研究所，
類型：發明
國別省市：