采用場發射陣列激發的平板紫外輻射光源的清洗箱制造技術

本實用新型專利技術涉及紫外超精密清洗領域。采用場發射陣列激發的平板紫外輻射光源的清洗箱，包括紫外清洗箱主體，紫外清洗箱主體包括箱壁，箱壁圍成一清洗腔，清洗腔內設有清洗執行系統，清洗執行系統連接一紫外光源，以及一控制系統，紫外光源采用一場發射陣列激發的平板紫外輻射光源，光源位于清洗腔內；光源包括一陽極板，陽極板上設有一紫外熒光粉層；光源還包括一場發射陰極陣列，場發射陰極陣列朝向陽極板。由于場發射陣列激發的平板紫外輻射光源采用的是場發射陰極陣列，故光源整體呈板狀，可以直接作為箱蓋使用，增加了清洗腔的容積，而且板狀的光源均勻照射清洗腔，可以減少管狀光源造成的遮擋問題，提高清洗效果。（*該技術在2023年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

【技術保護點】
采用場發射陣列激發的平板紫外輻射光源的清洗箱，包括紫外清洗箱主體，所述紫外清洗箱主體包括箱壁，所述箱壁圍成一清洗腔，所述清洗腔內設有清洗執行系統，所述清洗執行系統連接一紫外光源，以及一控制系統，其特征在于：?所述紫外光源采用一場發射陣列激發的平板紫外輻射光源，所述場發射陣列激發的平板紫外輻射光源位于所述清洗腔內；?所述光源包括一陽極板，所述陽極板上設有一紫外熒光粉層；?所述光源還包括一場發射陰極陣列，所述場發射陰極陣列朝向所述陽極板。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：鐘偉杰，趙健，夏忠平，
申請(專利權)人：上海顯恒光電科技股份有限公司，
類型：實用新型
國別省市：