一種不銹鋼點陣摩擦板的生產工藝制造技術

本發明專利技術公開了一種不銹鋼點陣摩擦板的生產工藝，屬光化學蝕刻技術領域。工序包括：設計制版，制版圓點子直徑為0.198mm；大面積不銹鋼基板磨刷處理；基板表面二遍絲印與烘干感光膠；把菲林底片覆蓋在基板的感光膠膜層上進行曝光，曝光機的燈源與被感光基板中間設置補光板；進而顯影、定影與烘干處理；繼而高溫烘烤堅膜；待蝕刻基板懸空倒掛，蝕刻機下噴頭方式進行蝕刻，蝕刻液采用鐵離子Fe3+含量為46％的液體三氯化鐵；蝕刻后的產品去膜、沖洗與烘干。進一步，堅膜后蝕刻前在基板背面涂布保護膜層，以保證板背面完好無損。采用上述生產工藝得到的大面積不銹鋼點陣摩擦板，其陣列圓點子均勻一致性好，耐單面蝕刻，光強誤差小，蝕刻快效益好。

【技術實現步驟摘要】

【技術保護點】
一種不銹鋼點陣摩擦板的生產工藝，其工序包括：a.設計制版，采用計算機CAD系統設計點陣圖形，通過光繪機進行制版，以繪制菲林底片；b.基板前處理，采用不銹鋼平板為基材，截得面積為500×400mm的基板，磨刷去除基板表面的油漬、污漬和氧化膜；c.絲印與烘干感光膠，在基板表面絲印感光膠和烘干感光膠膜層；d.曝光，進而把菲林底片覆蓋在基板的感光膠膜層上，進行曝光；e.顯影，曝光過的基板進行顯影、定影與烘干處理；f.堅膜，定影過的基板繼而進行高溫烘烤堅膜；g.蝕刻，在蝕刻機上進行蝕刻，通過蝕刻機將蝕刻液均勻噴淋到待蝕刻基板表面；h.脫膜與烘干，蝕刻后的產品浸漬到盛有去膜液的去膜槽進行去膜，脫膜干凈后采用自來水沖洗并進行烘干，其特征在于：所述工序a制版圓點子直徑為0.198mm，所述工序c按二遍進行，在所述工序d中，曝光機的燈源與被感光基板中間設置補光板，所述工序g是采用蝕刻機下噴頭蝕刻方式，待蝕刻基板懸空倒掛，所述蝕刻液采用液體三氯化鐵，鐵離子Fe3+含量為46％。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：袁琳，裘功科，裘華見，
申請(專利權)人：裘華見，
類型：發明
國別省市：