對(duì)位裝置和具有該對(duì)位裝置的曝光裝置制造方法及圖紙

本發(fā)明專利技術(shù)提供一種對(duì)位裝置，其在電子電路用的多層印刷基板中能夠保持與下層的對(duì)位精度，并能整合安裝在表面上的電子部件之間的對(duì)位。該對(duì)位裝置具有：存儲(chǔ)部（82），其存儲(chǔ)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記（AM）應(yīng)當(dāng)形成在基板（PB）上的設(shè)計(jì)坐標(biāo)位置（MC）；測(cè)定部（70），其測(cè)定轉(zhuǎn)印到基板的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的坐標(biāo)位置；以及計(jì)算部（84），其計(jì)算將測(cè)定部測(cè)定出的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的坐標(biāo)位置向設(shè)計(jì)坐標(biāo)位置移動(dòng)了預(yù)定距離的目標(biāo)坐標(biāo)位置（TG）。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
【國外來華專利技術(shù)】

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

【技術(shù)特征摘要】
【國外來華專利技術(shù)】...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：李德，中澤朗，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：株式會(huì)社ORC制作所，
類型：
國別省市：