基于光源調制的掩模預對準系統及預對準方法技術方案

本發明專利技術公開一種基于光源調制的掩模預對準系統，包括：光源單元，用于為該系統提供預對準光束；至少一光源內調制單元，用于調制該對準光束；掩模板及位于該掩模板上的標記；一四象限傳感器單元，用于接收該調制后對準光束照射該標記后的光強信號；一信號采集調理解調單元，用于采集該光強信號；一掩模板運動及控制系統，根據該光強信號調整該掩模板的位置。本發明專利技術同時公開一種基于光源調制的掩模預對準方法。

【技術實現步驟摘要】

【技術保護點】
一種基于光源調制的掩模預對準系統，其特征在于，包括：光源單元，用于為所述系統提供預對準光束；至少一光源內調制單元，用于調制所述對準光束；掩模板及位于所述掩模板上的標記；一四象限傳感器單元，用于接收所述調制后對準光束照射所述標記后的光強信號；一信號采集調理解調單元，用于采集所述光強信號；一掩模板運動及控制系統，根據所述光強信號調整所述掩模板的位置。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：唐文力，王海江，王麗，
申請(專利權)人：上海微電子裝備有限公司，上海微高精密機械工程有限公司，
類型：發明
國別省市：