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    基于多頻調(diào)制激光輻照的半透明介質(zhì)輻射特性測量方法技術(shù)

    技術(shù)編號(hào):9461568 閱讀:156 留言:0更新日期:2013-12-18 22:55
    基于多頻調(diào)制激光輻照的半透明介質(zhì)輻射特性測量方法,屬于半透明介質(zhì)輻射特性測量技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明專利技術(shù)為了解決半透明介質(zhì)輻射特性測量中,單次測量信息的測量結(jié)果誤差較大的問題。它基于多頻調(diào)制激光輻照技術(shù),利用多頻調(diào)制激光照射具有一定黑度涂層的半透明介質(zhì)表面,通過改變激光調(diào)制頻率、激光入射角度、試件厚度及試件涂層黑度來獲得多組邊界處的頻域半球反射信號(hào),基于這些反射信號(hào)結(jié)合逆問題求解技術(shù)獲得半透明介質(zhì)的輻射物性參數(shù)。本發(fā)明專利技術(shù)用于測量半透明介質(zhì)輻射特性。

    【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
    【專利摘要】,屬于半透明介質(zhì)輻射特性測量
    。本專利技術(shù)為了解決半透明介質(zhì)輻射特性測量中,單次測量信息的測量結(jié)果誤差較大的問題。它基于多頻調(diào)制激光輻照技術(shù),利用多頻調(diào)制激光照射具有一定黑度涂層的半透明介質(zhì)表面,通過改變激光調(diào)制頻率、激光入射角度、試件厚度及試件涂層黑度來獲得多組邊界處的頻域半球反射信號(hào),基于這些反射信號(hào)結(jié)合逆問題求解技術(shù)獲得半透明介質(zhì)的輻射物性參數(shù)。本專利技術(shù)用于測量半透明介質(zhì)輻射特性。【專利說明】
    本專利技術(shù)涉及,屬于半透明介質(zhì)輻射特性測量

    技術(shù)介紹
    半透明介質(zhì)在工業(yè)生產(chǎn)、生物醫(yī)學(xué)、信息通訊等科學(xué)領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。研究半透明介質(zhì)的物性參數(shù)在許多領(lǐng)域具有重要的現(xiàn)實(shí)意義,例如無損檢測、激光加工制造(如激光切割玻璃、液晶面板等)。近年來,隨著航空航天、紅外探測、目標(biāo)與環(huán)境的紅外特性、激光、電子器件、生物醫(yī)學(xué)等現(xiàn)代高新技術(shù)的飛速發(fā)展,了解半透明介質(zhì)熱物性參數(shù)變得尤為重要。因此進(jìn)行半透明介質(zhì)熱輻射物性以及相關(guān)學(xué)科的研究對(duì)于軍用和民用領(lǐng)域均具有重要意義。 吸收系數(shù)和散射系數(shù)是表征半透明介質(zhì)熱輻射物性的重要參數(shù)。深入理解此熱物性參數(shù)并對(duì)其進(jìn)行實(shí)驗(yàn)測量及理論分析,對(duì)于金屬加工、醫(yī)學(xué)成像技術(shù)、無損激光治療技術(shù)、粒子探測研究、紅外遙感技術(shù)、材料科學(xué)以及環(huán)境監(jiān)測等領(lǐng)域具有重要意義和應(yīng)用價(jià)值。頻域方法中可以使用連續(xù)光源和探測器,它在入射脈沖激光照射被測量樣品一次后,可以分解出很多頻域下的光信號(hào),也就可以認(rèn)為一次探測得到了多組信息。實(shí)際測量過程中,實(shí)驗(yàn)設(shè)備存在一定的測量誤差,而且某些工況測量信號(hào)比較微弱,單一的信息不能完成輻射物性的測量。
    技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
    本專利技術(shù)目的是為了解決半透明介質(zhì)輻射特性測量中,單次測量信息的測量結(jié)果誤差較大的問題,提供了一種。本專利技術(shù)所述,它包括以下步驟:步驟一:設(shè)定采樣次數(shù)為N,N為大于或者等于2的自然數(shù);步驟二:取厚度為Li的待測半透明介質(zhì)試件,該待測半透明介質(zhì)試件的一側(cè)均勻涂有黑度為e i的不透明涂層,采用角頻率為Qi的激光束照射半透明介質(zhì)試件的無涂層一偵牝該激光束與半透明介質(zhì)試件的法向成e i角度,使用探測器測量獲得N組半透明介質(zhì)試件表面邊界上的頻域復(fù)半球反射信號(hào)(叫);/=1, 2 ……,N'步驟三:利用逆問題算法,設(shè)定半透明介質(zhì)試件的吸收系數(shù)K a和散射系數(shù)K s的取值;步驟四:根據(jù)吸收系數(shù)K a和散射系數(shù)K s的取值,通過對(duì)輻射傳輸方程的求解,獲得計(jì)算域內(nèi)的N個(gè)輻射強(qiáng)度場;步驟五:利用步驟四中計(jì)算獲得的N個(gè)輻射強(qiáng)度場,計(jì)算獲得半透明介質(zhì)試件的無涂層一側(cè)邊界上的頻域復(fù)半球反射信號(hào)估計(jì)值先。【權(quán)利要求】1.一種,其特征在于,它包括以下步驟: 步驟一:設(shè)定采樣次數(shù)為N,N為大于或者等于2的自然數(shù); 步驟二:取厚度為Li的待測半透明介質(zhì)試件,該待測半透明介質(zhì)試件的一側(cè)均勻涂有黑度為e i的不透明涂層,采用角頻率為Qi的激光束照射半透明介質(zhì)試件的無涂層一側(cè),該激光束與半透明介質(zhì)試件的法向成9 i角度,使用探測器測量獲得N組半透明介質(zhì)試件表面邊界上的頻域復(fù)半球反射信號(hào)叫 2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的,其特征在于,所述激光束采用振幅可調(diào)的正弦光源產(chǎn)生。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的,其特征在于,所述逆問題算法為蟻群算法。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的,其特征在于,所述步驟四中獲得計(jì)算域內(nèi)的N個(gè)輻射強(qiáng)度場的具體方法為: 根據(jù)下述輻射傳輸方程,對(duì)其求解獲得: 5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的,其特征在于,角頻率為Oi的激光束在X處的輻射強(qiáng)度t(x.q)通過以下公式獲得: /c(x,<y;) = /0exp -(ra+s;)x-j<y【文檔編號(hào)】G01N21/39GK103454244SQ201310412799【公開日】2013年12月18日 申請(qǐng)日期:2013年9月11日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月11日 【專利技術(shù)者】齊宏, 任亞濤, 張彪, 孫雙成, 阮立明 申請(qǐng)人:哈爾濱工業(yè)大學(xué)本文檔來自技高網(wǎng)
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    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
    一種基于多頻調(diào)制激光輻照的半透明介質(zhì)輻射特性測量方法,其特征在于,它包括以下步驟:步驟一:設(shè)定采樣次數(shù)為N,N為大于或者等于2的自然數(shù);步驟二:取厚度為Li的待測半透明介質(zhì)試件,該待測半透明介質(zhì)試件的一側(cè)均勻涂有黑度為εi的不透明涂層,采用角頻率為ωi的激光束照射半透明介質(zhì)試件的無涂層一側(cè),該激光束與半透明介質(zhì)試件的法向成θi角度,使用探測器測量獲得N組半透明介質(zhì)試件表面邊界上的頻域復(fù)半球反射信號(hào)R^i,mea(ωi);i=1,2,3,......,N;步驟三:利用逆問題算法,設(shè)定半透明介質(zhì)試件的吸收系數(shù)κa和散射系數(shù)κs的取值;步驟四:根據(jù)吸收系數(shù)κa和散射系數(shù)κs的取值,通過對(duì)輻射傳輸方程的求解,獲得計(jì)算域內(nèi)的N個(gè)輻射強(qiáng)度場;步驟五:利用步驟四中計(jì)算獲得的N個(gè)輻射強(qiáng)度場,計(jì)算獲得半透明介質(zhì)試件的無涂層一側(cè)邊界上的頻域復(fù)半球反射信號(hào)估計(jì)值R^i,est(ωi)=2π∫π/2πI^i(θ,ωi)I^0cosθsinθdθ,式中是角頻率為ωi的激光束的輻射強(qiáng)度值,為角頻率為ωi的激光束在半透明介質(zhì)試件的無涂層一側(cè)邊界上的輻射強(qiáng)度,θ為散射方向;步驟六:根據(jù)步驟五中獲得的頻域復(fù)半球反射信號(hào)估計(jì)值與步驟二中獲得的頻域復(fù)半球反射信號(hào)計(jì)算獲得逆問題算法中的目標(biāo)函數(shù)值Fobj:Fobj=Σi=1N[R^i,est(ωi)-R^i,mea(ωi)]2;步驟七:將目標(biāo)函數(shù)值Fobj與預(yù)設(shè)定的閾值ξ進(jìn)行比較,若目標(biāo)函數(shù)值Fobj小于閾值ξ,則將當(dāng)前吸收系數(shù)κa和散射系數(shù)κs的取值作為待測半透明介質(zhì)試件的特性測量結(jié)果,完成半透明介質(zhì)輻射特性的測量;否則,根據(jù)逆問題算法修改吸收系數(shù)κa和散射系數(shù)κs的取值,返回步驟四。FDA0000380643380000012.jpg,FDA0000380643380000014.jpg,FDA0000380643380000015.jpg,FDA0000380643380000016.jpg,FDA0000380643380000017.jpg...

    【技術(shù)特征摘要】

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:齊宏任亞濤張彪孫雙成阮立明
    申請(qǐng)(專利權(quán))人:哈爾濱工業(yè)大學(xué)
    類型:發(fā)明
    國別省市:

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