相機(jī)模塊制造技術(shù)

本發(fā)明專利技術(shù)披露了一種相機(jī)模塊，其中磁體的移動(dòng)僅使用磁體與磁軛之間的磁力來控制，而不需要彈簧來控制上下操作的磁體的運(yùn)動(dòng)。相機(jī)模塊包括：透鏡模塊；和主框架，所述主框架支撐透鏡模塊并允許透鏡模塊沿光軸方向被驅(qū)動(dòng)，其中，該透鏡模塊包括：透鏡組件，包含多個(gè)透鏡；以及磁體，被固定到透鏡模塊一側(cè)，并且該主框架包括：線圈，所述線圈面對(duì)磁體，被固定到主框架一側(cè)并當(dāng)被供電時(shí)產(chǎn)生電場；以及磁軛，所述磁軛被設(shè)置為面對(duì)磁體，主框架和線圈插入它們之間，并且所述磁軛通過與磁體的吸引力控制透鏡模塊的驅(qū)動(dòng)。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
相機(jī)模塊相關(guān)申請(qǐng)交叉引用根據(jù)美國法典第35章第119條，本申請(qǐng)要求于2012年5月30日提交的序列號(hào)為10-2012-0057542，標(biāo)題為“相機(jī)模塊”的韓國專利申請(qǐng)的優(yōu)先權(quán)，在此通過引證將其整體結(jié)合在本申請(qǐng)中。
本專利技術(shù)涉及一種相機(jī)模塊，更特別地涉及一種相機(jī)模塊，其中磁體的移動(dòng)僅使用磁體與磁軛之間的吸引力來控制，而不需要彈簧來控制上下操作的磁體的運(yùn)動(dòng)。
技術(shù)介紹
近來，隨著數(shù)碼相機(jī)制造技術(shù)的發(fā)展，已經(jīng)發(fā)布了配備有緊湊和輕便相機(jī)模塊的移動(dòng)通信終端。相機(jī)包括用于聚焦和變焦功能的多個(gè)透鏡，并且通過調(diào)整多個(gè)透鏡之間的相對(duì)距離來調(diào)節(jié)聚焦。移動(dòng)通信終端的用于自動(dòng)聚焦的驅(qū)動(dòng)單元用于通過使透鏡沿光軸方向移動(dòng)來調(diào)整對(duì)于圖像傳感器的焦點(diǎn)。要求包括這樣一個(gè)驅(qū)動(dòng)單元的相機(jī)模塊在外部沖擊的情況下穩(wěn)固地操作，但由于終端已日趨多功能和緊湊，相機(jī)模塊的尺寸減小了，導(dǎo)致了易受外部沖擊的相機(jī)模塊。在現(xiàn)有技術(shù)中，為了減少外部沖擊，在相機(jī)模塊的上部和下部安裝止動(dòng)件并且緩沖部件被添加到該止動(dòng)件上，但是這種方法存在的問題在于，應(yīng)該使用額外部件，這不允許相機(jī)尺寸減小。使用基于預(yù)負(fù)載的彈性部件來減輕外部沖擊，但是這里，由于應(yīng)該在與透鏡被驅(qū)動(dòng)的方向相反的方向上不斷地施加預(yù)負(fù)載，因此能量消耗增加了。[相關(guān)技術(shù)文獻(xiàn)][專利文獻(xiàn)]（專利文獻(xiàn)1）韓國專利公開號(hào)10-2010-0005313
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本專利技術(shù)的目的是通過僅利用磁體與磁軛之間的吸引力降低驅(qū)動(dòng)單元的速度來減少相機(jī)模塊的尺寸，而不使用另外安裝在相機(jī)模塊上部和下部的止動(dòng)件，從而減輕沖擊并消除了額外部件的使用，并通過消除對(duì)應(yīng)于預(yù)負(fù)載的彈性部件來防止不必要的能量消耗。根據(jù)本專利技術(shù)的一個(gè)實(shí)施例，提供了一種相機(jī)模塊，包括：透鏡模塊；以及主框架，支撐透鏡模塊并允許透鏡模塊在光軸方向被驅(qū)動(dòng)，其中，該透鏡模塊包括：透鏡組件，包含多個(gè)透鏡；以及磁體，被固定到透鏡模塊的一側(cè)，并且該主框架包括：線圈，面對(duì)磁體，被固定到主框架內(nèi)的一側(cè)，并當(dāng)被供電時(shí)產(chǎn)生電場；以及磁軛，被設(shè)置為面對(duì)磁體，主框架和線圈插入在它們之間，并通過與磁體的吸引力來控制透鏡模塊的驅(qū)動(dòng)。當(dāng)透鏡模塊被設(shè)置在光軸方向上的最高點(diǎn)處時(shí)，磁軛的最上端部可被設(shè)置在磁體的最上端部與最下端部之間。沿光軸方向向上驅(qū)動(dòng)透鏡模塊的力可等于磁體與磁軛之間的吸引力。當(dāng)透鏡模塊設(shè)置在光軸方向的最低點(diǎn)處時(shí)，磁軛的最下端部可被設(shè)置在磁體的最上端部與最下端部之間。沿光軸方向向下驅(qū)動(dòng)透鏡模塊的力可等于磁體與磁軛之間的吸引力。相機(jī)模塊可進(jìn)一步包括：支撐件，具有V或U形狀并被固定到透鏡模塊外側(cè)的一側(cè)表面或兩側(cè)表面以沿光軸方向形成；以及引導(dǎo)件，被固定在主框架內(nèi)且容納具有V或U形狀的該支撐件，以使得透鏡模塊沿光軸方向移動(dòng)。相機(jī)模塊可進(jìn)一步包括：位置傳感器，其被設(shè)置在線圈的繞組內(nèi)并感測(cè)磁體的位置。可設(shè)置多個(gè)磁體和多個(gè)磁軛。相機(jī)模塊可進(jìn)一步包括：板簧，被設(shè)置在主框架內(nèi)的側(cè)下部（laterallowerportion）處并沿光軸方向在低于下臨界點(diǎn)的一點(diǎn)處為透鏡模塊提供回復(fù)力，其中透鏡模塊沿所述光軸方向被驅(qū)動(dòng)。相機(jī)模塊可進(jìn)一步包括：板簧，被設(shè)置在主框架內(nèi)的側(cè)上部處并沿光軸方向在高于上臨界點(diǎn)的一點(diǎn)處為透鏡模塊提供回復(fù)力，其中透鏡模塊沿所述光軸方向被驅(qū)動(dòng)。附圖說明圖1是根據(jù)本專利技術(shù)一個(gè)實(shí)施例的相機(jī)模塊的立體圖。圖2是根據(jù)本專利技術(shù)一個(gè)實(shí)施例的相機(jī)模塊的截面圖。圖3A和3B是示出了根據(jù)本專利技術(shù)一個(gè)實(shí)施例的根據(jù)相機(jī)模塊的豎直移動(dòng)的磁體與磁軛之間的吸引力的視圖。圖4A和4B的曲線圖示出了根據(jù)本專利技術(shù)實(shí)施例與根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的磁體和磁軛之間的吸引力的比較。圖5A和5B是根據(jù)本專利技術(shù)另一個(gè)實(shí)施例的相機(jī)模塊的截面圖。圖6A和6B是根據(jù)本專利技術(shù)另一個(gè)實(shí)施例的相機(jī)模塊的截面圖。具體實(shí)施方式下面將參考附圖詳細(xì)描述本專利技術(shù)的示例性實(shí)施例。然而，這僅僅是通過舉例，本專利技術(shù)并不限于此。當(dāng)現(xiàn)有技術(shù)中已知的技術(shù)配置被認(rèn)為使本專利技術(shù)的內(nèi)容模糊時(shí)，則其詳細(xì)描述將被省略。此外，以下術(shù)語結(jié)合考慮本專利技術(shù)中的功能而被定義，并且可通過使用者和操作者的意向以不同的方式來解釋。因此，應(yīng)基于整個(gè)說明書的內(nèi)容解釋其定義。因此，本專利技術(shù)的精神是由權(quán)利要求所確定的，且可提供下面的示范性實(shí)施例以有效地為本領(lǐng)域的技術(shù)人員描述本專利技術(shù)的精神。以下將參考附圖來描述本專利技術(shù)的示例性實(shí)施例。圖1是根據(jù)本專利技術(shù)一個(gè)實(shí)施例的相機(jī)模塊的立體圖。圖2是根據(jù)本專利技術(shù)一個(gè)實(shí)施例的相機(jī)模塊的截面圖。參考圖1和2，根據(jù)本專利技術(shù)一個(gè)實(shí)施例的相機(jī)模塊100可包括：透鏡模塊120；和主框架150，所述主框架支撐透鏡模塊120并沿光軸方向被驅(qū)動(dòng)。透鏡模塊120可包括：包含多個(gè)透鏡的透鏡組件122；以及磁體121，被固定到透鏡模塊120一側(cè)。該主框架150包括：面對(duì)磁體121的線圈161，所述線圈在所述主框架150內(nèi)部被固定到主框架150一側(cè)，并且當(dāng)被供電時(shí)產(chǎn)生電場；以及面對(duì)磁體121的磁軛160，其中主框架150和線圈161介于磁體與磁軛之間，并且磁軛通過與磁體121的吸引力控制透鏡模塊120的驅(qū)動(dòng)。在該示例中，可提供多個(gè)磁體121和多個(gè)磁軛160。在具有磁軛160的情況下，主框架150將電場（當(dāng)電力施加至線圈161時(shí)產(chǎn)生所述電場）和磁體121的磁場集中于線圈161與磁體121之間的空間。當(dāng)未對(duì)線圈161供電時(shí)，吸引力會(huì)在磁體121和磁軛160之間產(chǎn)生。當(dāng)在未對(duì)線圈161供電的狀態(tài)下沿光軸方向上下驅(qū)動(dòng)透鏡模塊120時(shí)，從相對(duì)于透鏡模塊120可被驅(qū)動(dòng)所沿的光軸方向的上臨界點(diǎn)或下臨界點(diǎn)，在磁體121和磁軛160之間沿與透鏡模塊120被驅(qū)動(dòng)所沿的方向相反的方向產(chǎn)生吸引力，因此透鏡模塊的驅(qū)動(dòng)可被控制。這里，上臨界點(diǎn)或下臨界點(diǎn)可以是指當(dāng)透鏡模塊120沿光軸方向被正常驅(qū)動(dòng)時(shí)，透鏡模塊120可能與其他部件碰撞而首先接收沖擊的點(diǎn)。下面將對(duì)其進(jìn)行詳細(xì)描述。當(dāng)沿光軸方向觀察時(shí)，主框架150的上部可包括開口111，所述開口具有與從上面看的透鏡模塊120的形狀相同的形狀以與透鏡模塊120相連接，并且開口111可形成在主框架150的下部以將對(duì)象的電信號(hào)傳輸?shù)酵哥R模塊120的控制器（未顯示）。因此，主框架150可用于容納透鏡模塊120。相機(jī)模塊100可進(jìn)一步包括支撐件125，所述支撐件具有V或U形形狀發(fā)并被固定到透鏡模塊120外側(cè)的一側(cè)表面或兩側(cè)表面，以沿光軸方向形成；以及引導(dǎo)件155，所述引導(dǎo)件被固定在主框架150內(nèi)且容納具有V或U形形狀的該支撐件125，以使透鏡模塊120沿光軸方向移動(dòng)。透鏡模塊120可包括透鏡組件122。透鏡組件122可包括多個(gè)聚焦透鏡，在產(chǎn)品性能所需要的范圍內(nèi)該多個(gè)透鏡的直徑和曲率可能不同。該多個(gè)透鏡可裝配在透鏡模塊120內(nèi)。相機(jī)模塊100可進(jìn)一步包括位置傳感器162，所述位置傳感器設(shè)置在線圈161的繞組內(nèi)并感測(cè)磁體121的位置。在這種情況下，位置傳感器162可沿光軸方向感測(cè)磁體121的位置。也就是說，感測(cè)磁體121的位置，位置傳感器162可感測(cè)并檢測(cè)透鏡模塊120的位置方面的變化并產(chǎn)生聚焦所需要的控制信號(hào)。線圈161可被纏繞成面對(duì)磁體121，以使它與磁體121相互作用以產(chǎn)生基于電磁力的驅(qū)動(dòng)力。相機(jī)模塊100可進(jìn)一步包括蓋玻片（coverglass，防護(hù)玻璃罩）171和圖像傳感器172。當(dāng)使用者按下圖像采集按鈕時(shí)，圖像傳感器1本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種相機(jī)模塊，包括：透鏡模塊；以及主框架，所述主框架支撐所述透鏡模塊并允許所述透鏡模塊沿光軸方向被驅(qū)動(dòng)，其中，所述透鏡模塊包括：透鏡組件，包括多個(gè)透鏡；以及磁體，被固定至所述透鏡模塊一側(cè)，并且所述主框架包括：線圈，所述線圈面對(duì)所述磁體，固定至所述主框架內(nèi)的一側(cè)，并當(dāng)被供電時(shí)產(chǎn)生電場；以及磁軛，所述磁軛被設(shè)置為面對(duì)所述磁體，所述主框架和所述線圈介于所述磁軛與所述磁體之間，并且所述磁軛通過與所述磁體的吸引力控制所述透鏡模塊的驅(qū)動(dòng)。

【技術(shù)特征摘要】
2012.05.30 KR 10-2012-00575421.一種相機(jī)模塊，包括：透鏡模塊；以及主框架，所述主框架支撐所述透鏡模塊并允許所述透鏡模塊沿光軸方向被驅(qū)動(dòng)，其中，所述透鏡模塊包括：透鏡組件，包括多個(gè)透鏡；以及磁體，被固定至所述透鏡模塊一側(cè)，并且所述主框架包括：線圈，所述線圈面對(duì)所述磁體，固定至所述主框架內(nèi)的一側(cè)，并當(dāng)被供電時(shí)產(chǎn)生電場；以及磁軛，所述磁軛被設(shè)置為面對(duì)所述磁體，所述主框架和所述線圈介于所述磁軛與所述磁體之間，并且所述磁軛通過與所述磁體的吸引力控制所述透鏡模塊的驅(qū)動(dòng)，利用磁體和磁軛之間的吸引力來降低透鏡模塊的速度，以減少相對(duì)于透鏡模塊的沖力，其中，沿光軸方向的最高點(diǎn)或最低點(diǎn)是當(dāng)透鏡模塊沿光軸方向被驅(qū)動(dòng)時(shí)，透鏡模塊與其他部件碰撞而首先接收沖擊的點(diǎn)，其中，當(dāng)所述透鏡模塊位于沿所述光軸方向的最高點(diǎn)處時(shí)，所述磁軛的上端部位于所述磁體的最上端部與最下端部之間，其中，當(dāng)所述透鏡模塊位于沿所述光軸方向的最低點(diǎn)處時(shí)，所述磁軛的最下端部位于所述磁體的最上端部與最下端部之間，隨著透鏡模塊移動(dòng)得更接近沿光軸方向的最高點(diǎn)或最低點(diǎn)，磁體與磁軛之間的吸引力增加。2.根據(jù)權(quán)利...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：白在皓，吳源燮，許勛，李重錫，李載赫，樸勇俊，黃貞旭，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：三星電機(jī)株式會(huì)社，
類型：發(fā)明
國別省市：