基于水解反應氣相均勻沉積TiO2薄膜的方法技術

本發明專利技術公開一種基于水解反應氣相均勻沉積TiO2薄膜的方法，其特征在于通過沉積頭（3）的中心出氣口（4）和兩側出氣口（5），分別將含有鈦前驅物和水蒸氣的氣流，輸送至相對勻速移動的基底（1）表面，鈦前驅物和水蒸氣在基底表面發生反應，均勻沉積形成TiO2薄膜。可在大氣壓和低溫（10～100℃）下氣相均勻沉積TiO2薄膜，所制備的TiO2薄膜是一種富含羥基的無定形結構，無需任何后續熱處理在紫外光輻照下具有較高光催化活性，不僅具有沉積速率快、均勻性好、工藝和裝置簡單、操作方便等優點，而且還可節省能量、降低制作成本，可適用于各種材質的基底，尤其適用于非耐熱材質的基底。

【技術實現步驟摘要】

【技術保護點】
一種基于水解反應氣相均勻沉積TiO2薄膜的方法，其特征在于通過沉積頭（3）的中心出氣口（4）和兩側出氣口（5），分別將含有鈦前驅物和水蒸氣的氣流，輸送至相對勻速移動的基底（1）表面，鈦前驅物和水蒸氣在基底表面發生反應，均勻沉積形成TiO2薄膜。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：朱愛民，朱曉兵，李小松，石川，
申請(專利權)人：大連理工大學，
類型：發明
國別省市：