一種表面改性劑，其為含有有機硅酮化合物的表面改性劑，所述有機硅酮化合物由通式(A)和/或通式(B)表示：F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pX(CH2)rSi(X')3-a(R1)a??(A)??和F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pX(CH2)r(X')2-a(R1)aSiO(F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pX(CH2)r(X')1-a(R1)aSiO)zF-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pX(CH2)r(X')2-a(R1)aSi??(B)，其中，q是1～3的整數；m、n和o獨立地為0～200的整數；p是1或2；X是O或者二價有機基團；r是2～20的整數；R1是C1-22直鏈或支化的烴基；a是0～2的整數；X'是水解性基團；以及當a為0或1時，z是0～10的整數。
【技術實現步驟摘要】
【專利摘要】一種表面改性劑，其為含有有機硅酮化合物的表面改性劑，所述有機硅酮化合物由通式(A)和/或通式(B)表示：F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pX(CH2)rSi(X')3-a(R1)a--(A)--和F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pX(CH2)r(X')2-a(R1)aSiO(F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pX(CH2)r(X')1-a(R1)aSiO)zF-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pX(CH2)r(X')2-a(R1)aSi--(B)，其中，q是1～3的整數；m、n和o獨立地為0～200的整數；p是1或2；X是O或者二價有機基團；r是2～20的整數；R1是C1-22直鏈或支化的烴基；a是0～2的整數；X'是水解性基團；以及當a為0或1時，z是0～10的整數。【專利說明】表面改性劑本申請是分案申請，其原申請的申請號為200680010403.8，申請日為2006年3月30日，專利技術名稱為“表面改性剤”。
本專利技術涉及用于在各種基材的表面上形成低表面張カ層或防塵層的表面改性劑，以及使用所述表面改性劑形成處理層的方法。此外，本專利技術涉及光學元件(例如，抗反射膜、光學濾鏡、光學透鏡、眼鏡鏡片、分光鏡(beam splitter)、棱鏡、鏡子等)，其中使用了所述表面改性劑；應用在顯示器(例如，液晶顯示器、CRT顯示器、投影電視、等離子體顯示器、EL顯示器等)的屏幕表面的抗反射光學元件；光學功能性元件；其中所述光學功能性元件粘附在顯示屏表面的顯示器裝置；經處理的鏡片；經處理的陶器等。
技術介紹
抗反射涂層、光學濾鏡、光學透鏡、柔性焦距透鏡組、分光鏡、棱鏡、鏡子和其他光學元件以及衛浴用具在使用時易于沾上指紋、皮膚油(skin oil)、汗、化妝品等。一旦沾上，這些污垢不易清除，特別是，粘在具有抗反射涂層的光學元件上的污垢非常明顯并造成問題。此外，汽車和飛機的窗戶要求具有持久的防水性。為解決與污垢和防水性相關的問題，迄今已提出使用各種防污劑的技木。例如，日本未審查專利公報第1997-61605號已提出通過使用含全氟烷基的化合物對基材進行表面處理而得到的防污抗反射濾鏡。日本已審查專利公報第1994-29332號已提出一種防污、低反射塑料，在其表面上具有包括含聚氟烷基的單硅烷和ニ硅烷化合物和鹵素硅烷、烷基硅烷或烷氧基硅烷化合物的抗反射涂層。日本未審查專利公報第1995-16940號已提出通過在主要由ニ氧化硅構成的光學薄膜上形成(甲基)丙烯酸全氟烷基酯和含烷氧基硅烷基團的單體的共聚物而得到的光學元件。然而，由迄今已知的方法形成的防污涂層具有的防污性不足，尤其是，難以從其上去除諸如指紋、皮膚油、汗和化妝品等污垢。此外，當長期使用時，其防污性大大降低。因此，需要開發具有優異防污性和優異耐用性的防污涂層。
技術實現思路
本專利技術用以解決上述提到的現有技術的問題并提供了能形成優異的、經久耐用的低表面張カ處理層的表面改性劑，所述處理層能防止濕氣或諸如指紋、皮膚油、汗和化妝品等污垢粘附在各種基材，尤其是抗反射膜等光學元件和玻璃的表面上，并且一旦沾上吋，能容易地擦去污垢或濕氣。本專利技術的另ー個目的是提供制備能形成優異的低表面張カ層的表面改性劑的方法。本專利技術的再ー個目的是提供能容易地形成優異的低表面張カ層的方法。本專利技術的又ー個目的是提供配備有所述優異的低表面張カ層的光學元件和各種基材。本專利技術的又ー個目的是提供配備有所述優異的低表面張カ層的抗反射光學元件。本專利技術的又ー個目的是提供配備有所述抗反射元件的光學功能性元件。本專利技術的又ー個目的是提供顯示器裝置，所述顯示器裝置具有配備有所述光學功能性元件的顯示屏表面。本專利技術的又ー個目的是提供本專利技術的化合物在微型制造領域，例如納米壓印(nanoimprinting)中的應用，其在近年已有顯著的技術進展,從而實現了精確的脫模。本專利技術的又ー個目的是提供本專利技術的化合物在裝置制造中的應用以提供ー種材料和加工方法，使得由于本專利技術的化合物的優異排斥性能從而可以容易地加工寬度非常小的線條(line)。本專利技術的又ー個目的是提供本專利技術的化合物在諸如混凝土、石灰石、花崗巖或大理石等石制品的處理中的應用。本專利技術提供了ー種防塵劑，所述防塵劑含有由通式(A)和/或部分水解產物通式(B)表不的有機娃酮化合物。F- (CF2) q- (OC3F6) ffl- (OC2F4) n_ (OCF2)。(CH2) PX (CH2) rSi (X，) 3_a (R1) a (A)在通式(A)中，q是I?3的整數；m、n和o獨立地為0?200的整數；p是I或2 ;X是0或者ニ價有機基團；r是2?20的整數,是Cu直鏈或支化的烴基；a是0?2的整數-X是水解性基團。F- (CF2) q- (OC3F6) ffl- (OC2F4) n_ (OCF2)。(CH2) pX (CH2) r (X，) 2_a (R1) aSiO (F- (CF2) q- (OC3F6)ffl- (OC2F4) n- (OCF2)。(CH2) PX (CH2) r (X，) w (R1) aSiO) ZF_ (CF2) q- (OC3F6) ffl- (OC2F4) n- (OCF2)。(CH2)PX (CH2) JXJh(R1)aSi (B)在通式(B)中，q是I?3的整數；m、n和O獨立地為0?200的整數；p是I或2 ;X是0或者ニ價有機基團；r是2?20的整數,是C1J直鏈或支化的烴基；a是0?2的整數-X是水解性基團；以及當a為0或I吋，z是0?10的整數。此外，本專利技術提供了制備上述表面改性劑的方法。本專利技術提供了使用所述表面改性劑產生低表面張カ的方法。本專利技術提供了通過使用所述表面改性劑得到的低表面張カ的表面。本專利技術提供了配備有含有所述表面改性劑的處理層的光學元件。本專利技術提供了配備有含有所述表面改性劑的處理層的抗反射光學元件。本專利技術提供了含有所述抗反射光學元件的光學功能性元件。本專利技術提供了配備有所述光學功能性元件的顯示器裝置。本專利技術提供了諸如玻璃等無機基材，所述無機基材具有配備了含有所述表面改性劑的處理層的表面。本專利技術提供了具有帶有上述表面的無機基材的汽車和航空玻璃和衛浴用具。本專利技術提供了所述表面改性劑在納米壓印的精確脫模中的應用。本專利技術提供了使用所述表面改性劑容易地制造具有微觀結構的裝置的方法。【具體實施方式】由于本專利技術的表面改性劑含有特定的有機硅酮化合物，因此當在基材例如各種光學元件(抗反射膜、光學濾鏡、光學透鏡、眼鏡鏡片、分光鏡、棱鏡、鏡子等)上使用所述表面改性劑形成處理層時，可以防止諸如指紋、皮膚油、汗、化妝品等污垢或濕氣的粘附而不劣化所述光學元件的光學特性，并且，即使粘附上污垢和濕氣，也能容易地擦棹，由此使所述處理層具有優異的耐用性。本專利技術的防塵劑含有由通式(A)和/或通式(B)表示的有機硅酮化合物。F- (CF2) q- (OC3F6) ffl- (OC2F4) n_ (OCF2)。(CH2) pX (CH2) rSi (X，) 3_a (R1本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種表面改性劑，所述表面改性劑含有由通式(A)和/或通式(B)表示的有機硅酮化合物：F?(CF2)q?(OC3F6)m?(OC2F4)n?(OCF2)o(CH2)pO(CH2)rSi(X“)3?a(R1)a??(A)其中，q是1～3的整數；m、n和o獨立地為0～200的整數，m、n和o的總和為5以上；p是1或2；r是3；R1是C1?22直鏈或支化的烴基；a是0～2的整數；X“是水解性基團；C3F6不是支鏈的亞丙基；和F?(CF2)q?(OC3F6)m?(OC2F4)n?(OCF2)o(CH2)pO(CH2)r(X“)2?a(R1)aSiO(F?(CF2)q?(OC3F6)m?(OC2F4)n?(OCF2)o(CH2)pO(CH2)r(X“)1?a(R1)aSiO)zF?(CF2)q?(OC3F6)m?(OC2F4)n?(OCF2)o(CH2)pO(CH2)r(X“)2?a(R1)aSi??(B)其中，q是1～3的整數；m、n和o獨立地為0～200的整數，m、n和o的總和為5以上；p是1或2；r是3；R1是C1?22直鏈或支化的烴基；a是0～2的整數；X“是水解性基團；以及當a為0或1時，z是0～10的整數；C3F6不是支鏈的亞丙基，其中所述有機硅酮化合物通過由以下通式(C)表示的化合物之間的氫化硅烷化反應制備：F?(CF2)q?(OC3F6)m?(OC2F4)n?(OCF2)o(CH2)pOCH2CH=CH2??(C)其中，q是1～3的整數；m、n和o獨立地為0～200的整數，m、n和o的總和為5以上；p是1或2；C3F6不是支鏈的亞丙基，并且通過使用所述表面改性劑得到的處理表面具有不超過5°的水滑動角。...
【技術特征摘要】
...
【專利技術屬性】
技術研發人員：伊丹康雄，桝谷哲也，彼得·C·胡佩費爾德，唐·李·克萊爾，
申請(專利權)人：大金工業株式會社，道康寧公司，
類型：發明
國別省市：
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