【技術實現步驟摘要】
四甲基氫氧化銨回收再利用裝置
本技術涉及一種四甲基氫氧化銨回收再利用裝置。
技術介紹
電子級四甲基氫氧化銨(Tetramethyl Ammonium Hydroxide, TMAH)用于顯不面板(FDP)和半導體芯片生產過程中的顯影液，是用量最大的電子化學品之一。一般使用后的顯影液廢水中除了 TMAH之外，還有光刻膠以及各種低濃度的金屬離子雜質。由于TMAH是一種腐蝕性化學品，因此經過廢水處理方能排放。目前顯示面板和半導體芯片生產廠家一般采用中和，稀釋以達到排放標準。如此廢液處理成本高，另一方面TMAH是一類含氮物質，容易造成富營養化污染等環境負擔，而且TMAH廢液進行處理后排放無法實現循環利用，從而使制造者的制造成本無法降低。臺灣第98114596號專利專利提供了一種TMAH回收裝置能夠有效移除光刻膠，但無法除去其中的其他雜質；CN101993380中通過納濾裝置和樹脂相結合進行TMAH回收，但該裝置需要耐堿性的納濾膜，而且需要更換頻繁成本高。因此目前顯影廢中TMAH回收再利用仍然有需要改善之處，來降低整體制程的成本，并且大大減少排出廢水對于環境的污染。
技術實現思路
為了克服已有四甲基氫氧化銨回收裝置的成本高、污染較大的不足，本技術提供了一種降低成本、減少污染的四甲基氫氧化銨回收再利用裝置。本技術解決其技術問題所采用的技術方案是:一種四甲基氫氧化銨回收再利用裝置，包括廢液槽、過濾裝置和陽離子交換樹脂塔，所述廢液槽包括用于引入顯影廢液的第一進口、用以引入二氧化碳氣體的第二進口，所述廢液槽的出口與過濾裝置的入口連通所述過濾裝置包括光刻膠沉淀出口和液...
【技術保護點】
一種四甲基氫氧化銨回收再利用裝置，其特征在于：所述回收再利用裝置包括廢液槽、過濾裝置和陽離子交換樹脂塔，所述廢液槽包括用于引入顯影廢液的第一進口、用以引入二氧化碳氣體的第二進口，所述廢液槽的出口與過濾裝置的入口連通所述過濾裝置包括光刻膠沉淀出口和液體出口，所述過濾裝置的液體出口與所述陽離子交換樹脂塔的進口連通，所述陽離子交換樹脂塔的頂部設有再生液放入的加料口，所述陽離子交換樹脂塔出口與三通閥的進口連接，所述三通閥的第一出口為堿液出口，所述三通閥的第二出口為四甲基氫氧化銨出料口。
【技術特征摘要】
1.一種四甲基氫氧化銨回收再利用裝置，其特征在于:所述回收再利用裝置包括廢液槽、過濾裝置和陽離子交換樹脂塔，所述廢液槽包括用于引入顯影廢液的第一進ロ、用以引入ニ氧化碳氣體的第二進ロ，所述廢液槽的出口與過濾裝置的入口連通所述過濾裝置包括光刻膠沉淀出口和液體出口，所述過濾裝置的液體出口與所述...
【專利技術屬性】
技術研發人員：梁小朝，黃源，尹云艦，王海龍，羅江，
申請(專利權)人：杭州格林達化學有限公司，
類型：實用新型
國別省市：
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