【技術實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術涉及絕緣材料制備
,特別是涉及。
技術介紹
絕緣材料是用于使不同電位的導電部分隔離的材料,廣泛應用于電氣設備、航空、航天和通訊
。隨著電氣設備不斷向小型化、輕量化、高密度化方向的發(fā)展,出現(xiàn)了高耐熱性的絕緣材料,保證電氣設備在高溫、高負載等嚴酷條件下長期可靠運行。近年來,隨著半導體技術及航空、航天、通訊技術的快速發(fā)展,封裝絕緣材料還必須具備低的介電常數(shù)以進一步提高信號的傳輸速度,減少信號的延遲時間。
技術實現(xiàn)思路
本專利技術主要解決的技術問題是提供。為解決上述技術問題,本專利技術采用的一個技術方案是:提供一種低介復合絕緣材料,包括:硅硼酸鹽玻璃和鈣長石,所述硅硼酸鹽玻璃為基體相,鈣長石為摻雜相;所述硅硼酸鹽玻璃和?丐長石的質(zhì)量百分配比為60~80: 20~40。為解決上述技術問題,本專利技術采用的另一個技術方案是:提供一種制備低介復合絕緣材料的方法,該制備方法步驟包括: (1)制備鈣長石:在帶 自動攪拌功能的高溫高壓反應釜中依次加入干燥的氫氧化鋁、碳酸鈣和二氧化硅,在一定溫度、壓力條件下反應2h得到鈣長石備用; (2)制備低介復合絕緣材料:將硅硼酸鹽玻璃和步驟(1)制備的鈣長石干燥、混合后,用濕法球磨機研磨30min,干燥,再加入粘合劑干壓成型,成型樣品經(jīng)950~980°C燒結30~60min,得到低介復合絕緣材料。在本專利技術一個較佳實施例中,所述步驟(1)中,氫氧化鋁、碳酸鈣和二氧化硅的質(zhì)量百分配比為1:3:2。在本專利技術一個較佳實施例中,所述步驟(1)中,所述反應溫度為1200°C,反應壓力為 IOMPa。 ...
【技術保護點】
一種低介復合絕緣材料,其特征在于,包括:硅硼酸鹽玻璃和鈣長石,所述硅硼酸鹽玻璃為基體相,鈣長石為摻雜相;所述硅硼酸鹽玻璃和鈣長石的質(zhì)量百分配比為60~80:?20~40;所述低介絕緣材料的介電常數(shù)4.585。
【技術特征摘要】
1. 一種低介復合絕緣材料,其特征在于,包括:硅硼酸鹽玻璃和鈣長石,所述硅硼酸鹽玻璃為基體相,鈣長石為摻雜相;所述硅硼酸鹽玻璃和鈣長石的質(zhì)量百分配比為60~80:20~40 ;所述低介絕緣材料的介電常數(shù)4.585。2.一種制備權利要求1所述的低介復合絕緣材料的方法,其特征在于,該制備方法步驟包括: (1)制備鈣長石:在帶自動攪拌功能的高溫高壓反應釜中依次加入干燥的氫氧化鋁、碳酸鈣和二氧化硅,在一定溫度、壓力條件下反應2h得到鈣長石備用; (2)制備低介復合絕緣材料:將硅硼酸鹽玻璃和步驟(1)制備的鈣長石干燥、混合后,用濕法球磨機研磨30min,干燥,再加入粘合劑干壓成型,成型樣品...
【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員:周巧芬,
申請(專利權)人:昆山市奮發(fā)絕緣材料有限公司,
類型:發(fā)明
國別省市:
還沒有人留言評論。發(fā)表了對其他瀏覽者有用的留言會獲得科技券。