高硬度拋光液制造技術

一種高硬度拋光液，其溶劑親水的去離子水，且還含有：10%烷基醇酰胺磷酸酯；5~10%的活性劑；固體含量30~35%的SiO2膠體粒子，且所述SiO2膠體粒子的直徑為50nm；且pH值為2.5，其可溶性好，拋光效率高，適用于高硬度的LED襯底或硅片的加工。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術有關于LED、電子行業，特別是對其中高硬度的襯板拋光的拋光液。
技術介紹
作為電子行業的一個重要分支，LED產業近年來得到了飛速的發展。LED能使發光效率提高近10倍，壽命是傳統燈具的20倍以上，兼有綠色、環保等優點。由于其高效、環保的產品得到了市場的廣泛認可和追捧。其中作為LED產品的核心和附加值最大的部分，徹底材料對LED光源的穩定性和壽命起到重要的決定作用。也是我國在LED產業發展的重要方向。目前能用于商品化的襯底只有兩種，即藍寶石和碳化硅襯底。藍寶石，Sapphire，是剛玉寶石中除紅色的紅寶石之外，其它顏色剛玉寶石的通稱，主要成分是氧化鋁（Al2O3）。目前全球80%LED企業采用藍寶石襯底，具有優異的光學性能、機械性能和化學穩定性，強度高、硬度大、耐沖刷，可在接近2000℃高溫的惡劣條件下工作。但在加工過程中需要對其進行減薄和拋光。較為常見的工藝對硅等半導體材料較為流行和有效，但藍寶石的硬度極高，普通磨料難以對其進行加工。在對藍寶石襯底表面進行減薄和粗磨后，表面不可避免的有一些或大或小的劃痕。因此，需要一種拋光液用于對高硬質基材進行蝕刻、拋光，在提高拋光速率的同時保證表面平整度以滿足工業上對藍寶石拋光速率和平整度的要求。
技術實現思路
為解決上述技術問題，本專利技術提供一種高硬度拋光液，其溶劑親水的去離子水，且還含有：10%烷基醇酰胺磷酸酯；5~10%的活性劑；固體含量30~35%的SiO2膠體粒子，且所述SiO2膠體粒子的直徑為50nm；且pH值為2.5。本專利技術采用是一種SiO2膠體粒子的拋光劑，能夠將較為硬的電子工業中的基板或LED襯底進行有效的研磨、去污和拋光。具體實施方式本專利技術提供一種高硬度拋光液，其溶劑親水的去離子水，且還含有：10%烷基醇酰胺磷酸酯；5~10%的活性劑；固體含量30~35%的SiO2膠體粒子，且所述SiO2膠體粒子的直徑為50nm；且pH值為2.5。?本專利技術采用以高純度硅粉為原料，SiO2膠體粒子，經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品。對電子行業中的半導體硅片或LED行業中的藍寶石襯底進行有效的研磨、去污和拋光。作為本專利技術的優選的實施例，所述拋光液中Cu和Fe的總含量小于50ppm。這樣的純度能夠有效的防止重金屬對基片或襯底的污染，保證設計線路的完整和抗干擾。同時，作為本專利技術的一個實施例，本拋光劑是酸性工作環境，且是通過HCl調整所述拋光液的pH值。其對半導體及其所覆金屬有良好的去除功能，同時采用氧化硅作為進行拋光，能夠達到光亮、平整的技術要求。作為本專利技術的優選實施例，所述拋光液被用于拋光LED的藍寶石襯底或半導體硅片。作為本專利技術的另一個實施例，所述拋光液中還具有1%的水溶性苯駢三氮唑。應了解本專利技術所要保護的范圍不限于非限制性實施方案，應了解非限制性實施方案僅僅作為實例進行說明。本申請所要要求的實質的保護范圍更體現于獨立權利要求提供的范圍，以及其從屬權利要求。本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種高硬度拋光液，其溶劑親水的去離子水，且還含有：10%烷基醇酰胺磷酸酯；5~10%的活性劑；固體含量30~35%的SiO2膠體粒子，且所述SiO2膠體粒子的直徑為50nm；且pH值為2.5。

【技術特征摘要】
1.一種高硬度拋光液，其溶劑親水的去離子水，且還含有：
10%烷基醇酰胺磷酸酯；
5~10%的活性劑；
固體含量30~35%的SiO2膠體粒子，且所述SiO2膠體粒子的直徑為50nm；且
pH值為2.5。
2.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于：所述拋光液中Cu和Fe的總...

【專利技術屬性】
技術研發人員：夏澤軍，
申請(專利權)人：昆山宏凌電子有限公司，
類型：發明
國別省市：