【技術實現(xiàn)步驟摘要】
—種用于真空鍍膜的磁導向裝置
本技術涉及真空鍍膜
，尤其是一種用于真空鍍膜的磁導向裝置。
技術介紹
一般大型連續(xù)性真空鍍膜設備，主要是由連續(xù)不斷的將靶材濺射沉積到玻璃基板上。在整個生產(chǎn)流程中，基板需要通過基片架進行運載，并保持直線傳輸。其中基片架前進的傳動方式為底部采用齒輪齒條結構，上半部分為懸空的豎梁與橫梁，中間用彈簧夾頭裝夾著玻璃。因基片架較高，上面的橫梁在運輸過程中容易發(fā)生左右擺動，擺動過程中容易使裝載的基片掉片，同時擺動時可能發(fā)生于加熱器等擦碰現(xiàn)象，導致掉粉塵影響產(chǎn)品的質(zhì)量。為避免此類擺動現(xiàn)象，我們特提出一種用于真空鍍膜的磁導向裝置，通過加裝磁導向裝置，限制基片架上半部分因剛性不足在傳輸過程中發(fā)生的擺動現(xiàn)象。
技術實現(xiàn)思路
針對上述問題，本技術旨在提供一種用于真空鍍膜的磁導向裝置。為實現(xiàn)該技術目的，本技術的方案是:一種用于真空鍍膜的磁導向裝置，包括真空箱體、磁導向裝置、基片架、傳動裝置、磁鐵，所述真空箱體為長方體，構成本新型整體外殼，所述基片架兩端設有限位裝置，一端安裝磁導向裝置，另一端安裝傳動裝置，所述磁鐵分別安裝在真空箱體頂部與磁導向裝置內(nèi)部，所述磁鐵有兩排。作為優(yōu)選，所述兩排磁鐵同極相對靠近安裝，從而避免晃動。本技術在在現(xiàn)有技術上增加磁導向裝置，以限制基片架上半部分的晃動，避免了擦碰現(xiàn)象，無粉塵廣生，進一步提聞了廣品質(zhì)量，可有效的降低成本，提聞工作效率，節(jié)省工作時間。【附圖說明】圖1為本技術用于真空鍍膜的磁導向裝置結構示意圖；圖2為本技術磁導向裝置結構示意圖。【具體實施方式】下面結合附圖和具體實施例對本技術做進一步詳細說明。如圖1-...
【技術保護點】
一種用于真空鍍膜的磁導向裝置，其特征在于，包括真空箱體、磁導向裝置、基片架、傳動裝置、磁鐵，所述真空箱體為長方體，構成本新型整體外殼，所述基片架兩端設有限位裝置，一端安裝磁導向裝置，另一端安裝傳動裝置，所述磁鐵分別安裝在真空箱體頂部與磁導向裝置內(nèi)部，所述磁鐵有兩排，所述兩排磁鐵同極相對靠近安裝。
【技術特征摘要】
1.一種用于真空鍍膜的磁導向裝置，其特征在于，包括真空箱體、磁導向裝置、基片架、傳動裝置、磁鐵，所述真空箱體為長方體，構成本新型整體外殼，所述基片架兩...
【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員：閆都倫，劉夢杰，吳細標，劉達俊，王克斌，唐貴民，
申請(專利權)人：深圳新南亞技術開發(fā)有限公司，
類型：實用新型
國別省市：
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