一種濕式鏡面研磨拋光的方法技術(shù)

本發(fā)明專利技術(shù)公開了一種濕式鏡面研磨拋光的方法，包括以下步驟：判斷鋁材或鋁合金工件表面的粗糙度，＞0.3Ra設(shè)置機(jī)器采用打磨砂紙進(jìn)行打磨至粗糙度≥0.1Ra且≤0.3Ra，然后，設(shè)置機(jī)器采用1500至5000目之間的柔性透氣背基磨料進(jìn)行搭配打磨，至粗糙度＜0.1Ra；然后設(shè)置機(jī)器采用拋光皮進(jìn)行拋光處理；其中，采用循環(huán)過濾注液方式，循環(huán)使用拋光液。通過運(yùn)用機(jī)器設(shè)備實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化濕式打磨及拋光，解決了傳統(tǒng)干式打磨工藝易燃易爆的安全隱患，及打磨行業(yè)人工短缺、打磨招工難問題，尤其適用于電腦、電視、手機(jī)、IPAD、高爾夫等對(duì)產(chǎn)品要求較高的領(lǐng)域。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

本專利技術(shù)涉及研磨工藝，尤其涉及的是，。
技術(shù)介紹
鋁材及鋁合金具有特殊的材料特性:材質(zhì)輕，柔性強(qiáng)易于產(chǎn)品成型及陽極染色處理，因此，其在加工制造中使用的越來越廣泛。傳統(tǒng)研磨工藝為人工干式打磨，其缺點(diǎn)為易燃，易爆，粉塵大，作業(yè)環(huán)境惡劣，打磨效率低。這樣，鋁材及鋁合金經(jīng)過機(jī)械加工后表面粗糙度一般在0.15Ra以上。隨著人們對(duì)電子消費(fèi)性產(chǎn)品外觀要求越來越苛刻，要求表面光滑細(xì)膩，甚至鏡面，傳統(tǒng)的打磨工藝很難達(dá)到此要求，并且，因鋁分子在空氣易被氧化，質(zhì)地較軟，采用一般的打磨砂紙粒度達(dá)到1500#時(shí)，就會(huì)出現(xiàn)無法散熱排屑，從而造成產(chǎn)品表面氧化，發(fā)黑。即使是濕式打磨，當(dāng)砂紙粒度數(shù)高于1500#進(jìn)行打磨時(shí)所產(chǎn)生的鋁粉較細(xì)，鋁粉同樣很難排除，一旦鋁粉殘留在砂粒表面，打磨時(shí)鋁粉會(huì)對(duì)工件造成二次研磨，從而增加工件表面溫度，加速工件氧化，發(fā)黑，無法繼續(xù)研磨。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本專利技術(shù)所要解決的技術(shù)問題是提供一種新的濕式鏡面研磨拋光的方法。本專利技術(shù)的技術(shù)方案如下:，其包括以下步驟:S1，判斷鋁材或鋁合金工件表面的粗糙度，粗糙度大于0.3Ra則執(zhí)行步驟S2，粗糙度大于等于0.1Ra且小于等于0.3Ra則執(zhí)行步驟S3，粗糙度小于0.1Ra則執(zhí)行步驟S4 ;S2，設(shè)置機(jī)器為粗糙打磨模式，采用普通的打磨砂紙進(jìn)行打磨至粗糙度大于等于0.1Ra且小于等于0.3Ra ；S3，設(shè)置機(jī)器為搭配打磨模式，采用1500至5000目之間的柔性透氣背基磨料進(jìn)行搭配打磨，至粗糙度小于0.1Ra ；S4,設(shè)置機(jī)器為拋光模式，采用拋光皮進(jìn)行拋光處理；其中，采用循環(huán)過濾注液方式,循環(huán)使用拋光液。優(yōu)選的，所述方法中，步驟S2中，設(shè)置機(jī)器為粗糙打磨模式，其中，設(shè)置粒度為180至1500目，下一道打磨粒度比上一道打磨粒度大60至400目，打磨機(jī)轉(zhuǎn)速大于50轉(zhuǎn)/分。優(yōu)選的，所述方法中，步驟S3中，設(shè)置機(jī)器為搭配打磨模式，下一粒度將上一粒度的打磨痕進(jìn)行覆蓋，打磨機(jī)轉(zhuǎn)速大于50轉(zhuǎn)/分。優(yōu)選的，所述方法中，所述搭配打磨模式，采用1500目+3000目、1500+5000目、或者3000+5000目進(jìn)行搭配進(jìn)行打磨。優(yōu)選的，所述方法中，步驟S4之前，還執(zhí)行以下步驟S41:判斷工件的加工面積是否大于第一預(yù)設(shè)面積，是則在步驟S4中設(shè)置機(jī)器為偏轉(zhuǎn)拋光模式，采用偏心打磨機(jī)粘拋光皮加拋光液進(jìn)行拋光處理或者同心打磨機(jī)粘拋光皮加偏擺裝置搭配拋光液進(jìn)行拋光處理；否則在步驟S4中采用研磨機(jī)進(jìn)行拋光處理；其中，打磨機(jī)轉(zhuǎn)速大于50轉(zhuǎn)/分。優(yōu)選的，所述方法中，步驟S41之前，還執(zhí)行以下步驟S40:判斷工件的加工面積是否小于第二預(yù)設(shè)面積，是則將工件裝夾并列排好后執(zhí)行步驟S4，否則執(zhí)行步驟S41。優(yōu)選的，所述方法中，步驟S2中，采用抗氧化劑和潤滑劑輔助打磨，采用循環(huán)過濾注液方式，循環(huán)使用抗氧化劑與潤滑劑并將鋁屑排出。優(yōu)選的，所述方法中，步驟S3中，采用抗氧化劑和潤滑劑輔助打磨，打磨時(shí)通過對(duì)柔性透氣背基磨料的擠壓力，將打磨時(shí)所產(chǎn)生的鋁屑擠壓在柔性透氣背基內(nèi)，采用循環(huán)過濾注液方式，循環(huán)使用抗氧化劑與潤滑劑并將鋁屑排出。優(yōu)選的，所述方法中，所述柔性透氣背基磨料采用碳化硅、陶瓷和/或金剛砂作為磨粒。優(yōu)選的，所述方法中，步驟S2至S4中，根據(jù)工件的粗糙度及工件的大小形狀調(diào)節(jié)打磨路徑或拋光路徑。優(yōu)選的，所述方法中，步驟S2至S4中，通過力控裝置或彈簧裝置調(diào)節(jié)打磨或拋光的壓力。采用上述方案，本專利技術(shù)根據(jù)工件表面的粗糙度進(jìn)行選擇打磨，提高了處理效率，循環(huán)使用拋光液進(jìn)行濕式鏡面研磨拋光，不僅綠色環(huán)保，還節(jié)約了成本，具有很高的市場應(yīng)用價(jià)值。【附圖說明】圖1為本專利技術(shù)的一個(gè)實(shí)施例的流程示意圖。【具體實(shí)施方式】為了便于理解本專利技術(shù)，下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例，對(duì)本專利技術(shù)進(jìn)行更詳細(xì)的說明。附圖中給出了本專利技術(shù)的較佳的實(shí)施例。但是，本專利技術(shù)可以以許多不同的形式來實(shí)現(xiàn)，并不限于本說明書所描述的實(shí)施例。相反地，提供這些實(shí)施例的目的是使對(duì)本專利技術(shù)的公開內(nèi)容的理解更加透徹全面。除非另有定義，本說明書所使用的所有的技術(shù)和科學(xué)術(shù)語與屬于本專利技術(shù)的
的技術(shù)人員通常理解的含義相同。本說明書中在本專利技術(shù)的說明書中所使用的術(shù)語只是為了描述具體的實(shí)施例的目的，不是用于限制本專利技術(shù)。本說明書所使用的術(shù)語“和/或”包括一個(gè)或多個(gè)相關(guān)的所列項(xiàng)目的任意的和所有的組合。如圖1所示，本專利技術(shù)的一個(gè)實(shí)施例是，，其包括以下步驟。SI，判斷鋁材或鋁合金工件表面的粗糙度，粗糙度大于0.3Ra則執(zhí)行步驟S2，粗糙度大于等于0.1Ra且小于等于0.3Ra則執(zhí)行步驟S3，粗糙度小于0.1Ra則執(zhí)行步驟S4。S2，設(shè)置機(jī)器為粗糙打磨模式，采用普通的打磨砂紙進(jìn)行打磨至粗糙度大于等于0.1Ra且小于等于0.3Ra;優(yōu)選的，步驟S2中，設(shè)置機(jī)器為粗糙打磨模式，其中，設(shè)置粒度為180至1500目，下一道打磨粒度比上一道打磨粒度大60至400目，其中，打磨壓力根據(jù)底盤的大小進(jìn)行調(diào)節(jié)，打磨機(jī)轉(zhuǎn)速大于50轉(zhuǎn)/分。優(yōu)選的，步驟S2采用濕式打磨；例如，采用抗氧化劑和潤滑劑及循環(huán)過濾注液方式輔助打磨，一是便于鋁屑及時(shí)沖洗，二是保護(hù)產(chǎn)品表面，防止工件表面氧化，三是延長打磨耗材的壽命。步驟S2中，當(dāng)工件的粗糙度大于0.3Ra時(shí)，為了節(jié)約成本與時(shí)間，一般采用普通的打磨砂紙進(jìn)行打磨，粒度為180至1500目之間，下一道打磨粒度比上一道打磨粒度大60至400目之間，例如，打磨壓力根據(jù)底盤的大小進(jìn)行調(diào)節(jié)，打磨機(jī)轉(zhuǎn)速大于50轉(zhuǎn)/分。例如，第一次采用普通的打磨砂紙進(jìn)行打磨，粒度為200目，第二次采用普通的打磨砂紙進(jìn)行打磨，粒度為500目，第三次采用普通的打磨砂紙進(jìn)行打磨，粒度為800目，優(yōu)選的，在打磨過程中，檢測(cè)工件的粗糙度，當(dāng)其不大于0.3Ra時(shí)，則執(zhí)行步驟S3。S3，設(shè)置機(jī)器為搭配打磨模式，采用1500至5000目之間的柔性透氣背基磨料進(jìn)行搭配打磨，至粗糙度小于0.1Ra ;優(yōu)選的，步驟S3中，設(shè)置機(jī)器為搭配打磨模式，下一粒度將上一粒度的打磨痕進(jìn)行覆蓋，其中，打磨壓力根據(jù)底盤的大小進(jìn)行調(diào)節(jié)，例如，打磨壓力為I至35kg ;打磨機(jī)轉(zhuǎn)速大于50轉(zhuǎn)/分。步驟S3中，采用柔性透氣背基磨料代替普通砂紙進(jìn)行打磨，磨料粒度可以達(dá)到5000目以上，打磨后產(chǎn)品表面光滑細(xì)膩。例如，打磨機(jī)轉(zhuǎn)速為100、180或250轉(zhuǎn)/分，通常的，根據(jù)工件的材質(zhì)、大小、處理面積與工藝要求確定所述打磨機(jī)轉(zhuǎn)速。本專利技術(shù)各實(shí)施例中，打磨時(shí)間與拋光時(shí)間不作額外限制，只需能夠?qū)崿F(xiàn)打磨或拋光效果即可，例如，對(duì)于大型工件或者處理面積較大的工件，打磨時(shí)間與拋光時(shí)間較長，例如5分鐘、10分鐘乃至于更長的時(shí)間；又如，對(duì)于小型工件或者處理面積較小的工件，打磨時(shí)間與拋光時(shí)間較短，例如10秒鐘、5秒鐘乃至于更短的時(shí)間。采用柔性透氣背基磨料，磨料與背基之間屬于透氣結(jié)構(gòu)，打磨后產(chǎn)生的熱量和鋁屑可以及時(shí)的排除。優(yōu)選的，所述柔性透氣背基磨料采用碳化硅、陶瓷和/或金剛砂作為磨粒。柔性透氣背基磨料材質(zhì)一般不采用氧化鋁，采用氧化鋁打磨易發(fā)黑。又如，柔性透氣背基磨料包括柔性透氣背基層，其具有柔性背基，例如橡膠背基、塑料背基、海綿背基、尼龍背基或者彈性背基等，柔性背基之間設(shè)置孔隙，打磨時(shí)通過對(duì)柔性透氣背基磨料的擠壓力，將打磨時(shí)所產(chǎn)生的鋁屑擠壓在柔性透氣背基內(nèi)，采用循環(huán)過濾注液方式，循環(huán)使用抗氧本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種濕式鏡面研磨拋光的方法，其特征在于，包括以下步驟：S1，判斷鋁材或鋁合金工件表面的粗糙度，粗糙度大于0.3Ra則執(zhí)行步驟S2，粗糙度大于等于0.1Ra且小于等于0.3Ra則執(zhí)行步驟S3，粗糙度小于0.1Ra則執(zhí)行步驟S4；S2，設(shè)置機(jī)器為粗糙打磨模式，采用普通的打磨砂紙進(jìn)行打磨至粗糙度大于等于0.1Ra且小于等于0.3Ra；S3，設(shè)置機(jī)器為搭配打磨模式，采用1500至5000目之間的柔性透氣背基磨料進(jìn)行搭配打磨，至粗糙度小于0.1Ra；S4，設(shè)置機(jī)器為拋光模式，采用拋光皮進(jìn)行拋光處理；其中，采用循環(huán)過濾注液方式，循環(huán)使用拋光液。

【技術(shù)特征摘要】
1.一種濕式鏡面研磨拋光的方法，其特征在于，包括以下步驟: SI，判斷鋁材或鋁合金工件表面的粗糙度，粗糙度大于0.3Ra則執(zhí)行步驟S2，粗糙度大于等于0.1Ra且小于等于0.3Ra則執(zhí)行步驟S3，粗糙度小于0.1Ra則執(zhí)行步驟S4 ； S2，設(shè)置機(jī)器為粗糙打磨模式，采用普通的打磨砂紙進(jìn)行打磨至粗糙度大于等于0.1Ra且小于等于0.3Ra ； S3，設(shè)置機(jī)器為搭配打磨模式，采用1500至5000目之間的柔性透氣背基磨料進(jìn)行搭配打磨，至粗糙度小于0.1Ra； S4，設(shè)置機(jī)器為拋光模式，采用拋光皮進(jìn)行拋光處理；其中，采用循環(huán)過濾注液方式，循環(huán)使用拋光液。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述方法，其特征在于，步驟S2中，設(shè)置機(jī)器為粗糙打磨模式，其中，設(shè)置粒度為180至1500目，下一道打磨粒度比上一道打磨粒度大60至400目，打磨機(jī)轉(zhuǎn)速大于50轉(zhuǎn)/分。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述方法，其特征在于，步驟S3中，設(shè)置機(jī)器為搭配打磨模式，下一粒度將上一粒度的打磨痕進(jìn)行覆蓋，打磨機(jī)轉(zhuǎn)速大于50轉(zhuǎn)/分。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述方法，其特征在于，所述搭配打磨模式，采用1500目+3000目、1500+5000目、或者3000+5000目進(jìn)行搭配進(jìn)行打磨。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述方法，其特征在于，步驟S4之前，還執(zhí)行...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：潘剛，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：潘剛，
類型：發(fā)明
國別省市：