本發明專利技術公開了一種金屬有機物化學氣相沉積設備噴淋盤清潔裝置及其方法，清潔毛刷安裝板4安裝到旋轉電機5的旋轉軸上，清潔毛刷8固定安裝于清潔毛刷安裝板4上，清潔毛刷安裝板4安裝于清掃廢物收集盤3內，抽氣管路6一端與清掃廢物收集盤3連接，另一端與抽氣裝置7連接。清潔裝置與噴淋盤外形相似、大小相同，在清潔噴淋盤時，不需要打開MOCVD設備的手套箱，能夠對噴淋盤進行整體式的清潔，清洗廢物落入清潔裝置的廢物收集盤中，由抽氣裝置吸走排出，清潔噴淋盤的這一操作過程可以成為薄膜生長工藝過程的一個標準步驟，從而保證了每一次生長的可重復性。
【技術實現步驟摘要】
【專利摘要】本專利技術公開了一種金屬有機物化學氣相沉積設備噴淋盤清潔裝置及其方法，清潔毛刷安裝板4安裝到旋轉電機5的旋轉軸上，清潔毛刷8固定安裝于清潔毛刷安裝板4上，清潔毛刷安裝板4安裝于清掃廢物收集盤3內，抽氣管路6一端與清掃廢物收集盤3連接，另一端與抽氣裝置7連接。清潔裝置與噴淋盤外形相似、大小相同，在清潔噴淋盤時，不需要打開MOCVD設備的手套箱，能夠對噴淋盤進行整體式的清潔，清洗廢物落入清潔裝置的廢物收集盤中，由抽氣裝置吸走排出，清潔噴淋盤的這一操作過程可以成為薄膜生長工藝過程的一個標準步驟，從而保證了每一次生長的可重復性。【專利說明】
本專利技術涉及半導體制造
，尤其是涉及一種用于金屬有機物化學氣相沉積設備噴淋盤的清潔裝置及清潔方法。
技術介紹
化學氣相沉積技術(MetalOrganic Chemical Vapor Deposition,簡稱 MOCVD)包含了流體力學、傳熱學、光學、化學、精密機械、真空電子、半導體材料、計算機等多學科。MOCVD設備是一種綜合運用各個學科技術的高科技設備，是化合物半導體材料外延生長的理想方法，具有質量高、穩定性好、重復性好、能規模化量產的特點，它已成為生產半導體光電器件的關鍵核心設備，具有廣闊的應用前景和產業化價值。現有的MOCVD設備相當部分在反應腔體中采用噴淋盤，MOCVD設備中的噴淋盤是影響MOCVD外延生長薄膜質量的重要因素。噴淋盤毛細孔是否堵塞直接影響著外延薄膜的均勻性，因為其直接影響氣源流的分布，從而影響了薄膜在沉積過程中的均勻性。在外延薄膜生長過程中噴淋盤的出氣口會逐漸累積一些雜質，影響出流氣體的流動形態，導致薄膜生長過程中難以實現很好的重復性。目前，清洗MOCVD設備噴淋盤的主要方式是通過手動操作帶吸氣功能的管式清潔刷，管式清潔刷靠近噴淋盤，經氣體的吸力將附著在噴淋盤上的微細顆粒清除。這種清潔噴淋盤的方式操作繁瑣，一次操作只能對噴淋盤的局部區域清洗，清洗不均勻，清掃過程中雜物也有可能掉入反應腔，另外由于操作比較繁瑣，只能做階段性的清理操作，不能把整個清潔過程，內嵌在外延工藝程序中。
技術實現思路
本專利技術的目的是針對已有技術中存在的缺陷，為了克服現有MOCVD設備噴淋盤清潔裝置操作繁瑣、引入雜質、可重復性差的不足，本專利技術提供一種金屬有機物化學氣相沉積設備噴淋盤的清潔裝置。本專利技術的清潔裝置主要包括密封圈2，清掃廢物收集盤3，清潔毛刷安裝板4，旋轉電機5，抽氣管路6，抽氣裝置7，清潔毛刷8，其特征是:清潔毛刷安裝板4安裝到旋轉電機5的旋轉軸上，清潔毛刷8固定安裝于清潔毛刷安裝板4上，清潔毛刷安裝板4安裝于清掃廢物收集盤3內，抽氣管路6 —端與清掃廢物收集盤3連接，另一端與抽氣裝置7連接。所述清掃廢物收集盤3與噴淋盤I外形相似、大小基本相同，與整個噴淋盤I通過密封圈2進行密封。本專利技術還提供了用上述的化學氣相沉積設備噴淋盤的清潔裝置的清潔噴淋盤的方法，在清潔噴淋盤I時，由機械臂將清潔裝置移動到噴淋盤I附近，將清潔裝置清掃廢物收集盤3與噴淋盤I對準、壓緊，與整個噴淋盤I通過密封圈2進行密封，裝有清潔毛刷8清潔毛刷安裝板4跟隨旋轉電機5旋轉同時清潔毛刷8對整個噴淋盤I進行清掃，使噴淋盤I上的附著物，落入清掃廢物收集盤3中，再經由抽氣裝置7將清掃廢物收集盤3中的清掃物通過抽氣管路6抽到腔體之外，噴淋盤清洗達到要求后，清洗裝置與噴淋盤脫離，由機械臂將清潔裝置轉移回到原來的中轉裝置處，清洗過程完成。清掃噴淋盤作為外延生長的一個標準工藝步驟，在每一次外延生長完成后自動對噴淋盤I進行一次清掃。本專利技術的優點是能夠實現清潔過程完全程序控制，在清潔噴淋盤時，不需要打開MOCVD設備的手 套箱，就可以對噴淋盤進行整體式的清潔，清洗掉落物落入清潔裝置的盛物盤中由抽氣裝置吸走排出，而且清潔噴淋盤的這一過程可以成為薄膜生長工藝過程的一個標準步驟，從而保證了每一次生長的可重復性。【專利附圖】【附圖說明】圖1為本專利技術化學氣相沉積設備噴淋盤的清潔裝置的結構意圖。圖1中，I是噴淋盤，2是密封圈，3是清掃廢物收集盤，4是清潔毛刷安裝板，5是旋轉電機，6是抽氣管路，7抽氣裝置，8清潔毛刷。【具體實施方式】下面結合附圖進一步說明本專利技術的實施例:實施例一參見圖1，本專利技術的的清潔裝置主要包括密封圈2，清掃廢物收集盤3，清潔毛刷安裝板4，旋轉電機5，抽氣管路6，抽氣裝置7，清潔毛刷8，清潔毛刷安裝板4安裝到旋轉電機5的旋轉軸上，清潔毛刷8固定安裝于清潔毛刷安裝板4上，清潔毛刷安裝板4安裝于清掃廢物收集盤3內，清潔毛刷安裝板4跟隨旋轉電機5旋轉，清潔毛刷8跟隨旋轉同時將噴淋盤I上的附著物清掃掉，落入清掃廢物收集盤3中。清掃廢物收集盤3與噴淋盤I外形相似、大小基本相同，與整個噴淋盤I通過密封圈2進行密封。抽氣管路6 —端與清掃廢物收集盤3連接，另一端與抽氣裝置7連接，作用是對清掃廢物收集盤3進行抽氣，將清掃廢物收集盤3中的清掃物通過抽氣管路6抽到腔體之外。在MOCVD設備進行薄膜外延生長的工藝過程執行到噴淋盤I清潔這一步驟時，噴淋盤I由動力裝置驅動上升至合適的高度，然后由機械臂將安放在手套箱中的清潔裝置搬運到噴淋盤I附近，將清潔裝置的清掃廢物收集盤3與噴淋盤I對準、接觸、壓緊，清廢物收集盤3和噴淋盤I通過密封圈2進行密封，防止清掃廢物漏出。啟動抽氣裝置7，然后啟動旋轉電機5，固定在旋轉電機5上的清潔毛刷安裝板4和清潔毛刷8旋轉，清潔毛刷8的刷毛接觸、清掃噴淋盤,使噴淋盤I上的附著物——清掃廢棄物落入清掃廢物收集盤3中，再經由抽氣裝置7將清掃廢物收集盤3中的清掃廢物從抽氣管道6中抽走、排出腔體之外。噴淋盤清洗達到要求后，完成一次噴淋盤清潔任務，清洗裝置與噴淋盤脫離，再由機械臂將清潔裝置搬運到原來的位置，清洗過程完成。清掃噴淋盤作為外延生長的一個標準工藝步驟，在每一次外延生長完成后自動對噴淋盤I進行一次清掃。【權利要求】1.一種金屬有機物化學氣相沉積設備噴淋盤的清潔裝置，主要包括密封圈(2)，清掃廢物收集盤(3)，清潔毛刷安裝板(4)，旋轉電機(5)，抽氣管路(6)，抽氣裝置(7)，清潔毛刷(8)，其特征是:清潔毛刷安裝板(4)安裝到旋轉電機(5)的旋轉軸上，清潔毛刷(8)固定安裝于清潔毛刷安裝板(4)上，清潔毛刷安裝板(4)安裝于清掃廢物收集盤(3)內，抽氣管路(6)一端與清掃廢物收集盤(3)連接，另一端與抽氣裝置(7)連接。2.根據權利要求1所述的金屬有機物化學氣相沉積設備噴淋盤的清潔裝置，其特征在于所述清掃廢物收集盤(3)與噴淋盤(I)外形相似、大小基本相同，與整個噴淋盤(I)通過密封圈(2)進行密封。3.用權利要求1所述的化學氣相沉積設備噴淋盤的清潔裝置的清潔噴淋盤的方法，在清潔噴淋盤(I)時，由機械臂將清潔裝置移動到噴淋盤(I)附近，將清潔裝置的清掃廢物收集盤(3)與噴淋盤(I)對準、壓緊，與整個噴淋盤(I)通過密封圈(2)進行密封，裝有清潔毛刷(8)清潔毛刷安裝板(4)跟隨旋轉電機(5)旋轉同時清潔毛刷(8)對整個噴淋盤(I)進行清掃，使噴淋盤(I)上的附著物，落入清掃廢物收集盤(3 )中，再經由抽氣裝置(7 )將清掃廢物收集盤(3)中的的清掃物通過抽氣管路(6)抽到本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種金屬有機物化學氣相沉積設備噴淋盤的清潔裝置，主要包括密封圈(2)，清掃廢物收集盤（3），清潔毛刷安裝板（4），旋轉電機（5），抽氣管路（6），抽氣裝置(7)，清潔毛刷（8），其特征是：清潔毛刷安裝板(4)安裝到旋轉電機（5）的旋轉軸上，清潔毛刷（8）固定安裝于清潔毛刷安裝板(4)上，清潔毛刷安裝板（4）安裝于清掃廢物收集盤（3）內，抽氣管路(6)一端與清掃廢物收集盤（3）連接，另一端與抽氣裝置（7）連接。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員：甘志銀，胡少林，潘建秋，蔣小敏，植成楊，劉玉貴，
申請(專利權)人：甘志銀，
類型：發明
國別省市：
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